摘要
以马来酸酐和氨水为原料合成聚天冬氨酸。用红外光谱和核磁共振对聚天冬氨酸进行了结构表征,用黏度法测定了聚天冬氨酸的黏均分子量,用静态阻垢法评价聚天冬氨酸的阻垢性能,用旋转挂片法测定聚天冬氨酸的缓蚀性能;比较聚天冬氨酸与水解聚马来酸酐(HPMA)、氨基三甲叉膦酸(ATMP)的阻垢缓蚀性能。结果表明,最适宜合成工艺条件为:n(马来酸酐)∶n(氨水)=1∶1.1,热聚温度160℃,缩聚时间60 min;当阻垢剂浓度大于6.4 mg/L时,PASP和ATMP的阻垢性能相当,均优于HPMA。
以马来酸酐和氨水为原料合成聚天冬氨酸。用红外光谱和核磁共振对聚天冬氨酸进行了结构表征,用黏度法测定了聚天冬氨酸的黏均分子量,用静态阻垢法评价聚天冬氨酸的阻垢性能,用旋转挂片法测定聚天冬氨酸的缓蚀性能;比较聚天冬氨酸与水解聚马来酸酐(HPMA)、氨基三甲叉膦酸(ATMP)的阻垢缓蚀性能。结果表明,最适宜合成工艺条件为:n(马来酸酐)∶n(氨水)=1∶1.1,热聚温度160℃,缩聚时间60 min;当阻垢剂浓度大于6.4 mg/L时,PASP和ATMP的阻垢性能相当,均优于HPMA。
出处
《现代化工》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第S1期186-190,共5页
Modern Chemical Industry
