用van der Pauw方法测量磁控溅射制备的掺锡氧化铟(ITO)薄膜的电学性能,研究了在室温和冰水混合条件下测量电流大小对电阻率测量结果的影响;在室温条件下测量电流和磁场的大小对载流子浓度和迁移率测量结果的影响.实验结果显示,测量电流...用van der Pauw方法测量磁控溅射制备的掺锡氧化铟(ITO)薄膜的电学性能,研究了在室温和冰水混合条件下测量电流大小对电阻率测量结果的影响;在室温条件下测量电流和磁场的大小对载流子浓度和迁移率测量结果的影响.实验结果显示,测量电流为5 mA和测量磁场为0.5 T时,测量结果最佳.展开更多
主要技术内容：掺锡氧化铟（Indium Tin Oxide，简称ITO）材料是一种n型半导体材料，该类材料包括ITO粉末、靶材、导电浆料及ITO透明导电薄膜，主要应用于平板显示器（如LCD）、防辐射玻璃、太阳能电池板等领域。日本、美国和德国于上世...主要技术内容：掺锡氧化铟（Indium Tin Oxide，简称ITO）材料是一种n型半导体材料，该类材料包括ITO粉末、靶材、导电浆料及ITO透明导电薄膜，主要应用于平板显示器（如LCD）、防辐射玻璃、太阳能电池板等领域。日本、美国和德国于上世纪70年代研制ITO靶材，目前已形成规模产业，主要采用冷压一烧结工艺成形和致密化，同时兼顾热压和热等静压工艺，展开更多
利用直流磁控溅射在石英衬底上沉积透明导电的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,在相同条件下制备了两种不同溅射时间(30、10 m in)的样品,样品在400℃的大气中进行1 h退火处理.利用分光光度计测量薄膜的正入射透射光谱,并拟合透射光谱得到薄膜的折...利用直流磁控溅射在石英衬底上沉积透明导电的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,在相同条件下制备了两种不同溅射时间(30、10 m in)的样品,样品在400℃的大气中进行1 h退火处理.利用分光光度计测量薄膜的正入射透射光谱,并拟合透射光谱得到薄膜的折射率、消光系数及厚度;用V an der Pauw方法测量薄膜电学性质,包括载流子浓度、载流子迁移率和电阻率.实验结果显示退火处理对ITO薄膜的光学、电学性质有重要影响,退火样品在可见光区域的透过率明显提高,且光学吸收边向长波方向移动;然而,退火前薄膜的电学性能更好.展开更多
文摘主要技术内容：掺锡氧化铟（Indium Tin Oxide，简称ITO）材料是一种n型半导体材料，该类材料包括ITO粉末、靶材、导电浆料及ITO透明导电薄膜，主要应用于平板显示器（如LCD）、防辐射玻璃、太阳能电池板等领域。日本、美国和德国于上世纪70年代研制ITO靶材，目前已形成规模产业，主要采用冷压一烧结工艺成形和致密化，同时兼顾热压和热等静压工艺，
文摘利用直流磁控溅射在石英衬底上沉积透明导电的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,在相同条件下制备了两种不同溅射时间(30、10 m in)的样品,样品在400℃的大气中进行1 h退火处理.利用分光光度计测量薄膜的正入射透射光谱,并拟合透射光谱得到薄膜的折射率、消光系数及厚度;用V an der Pauw方法测量薄膜电学性质,包括载流子浓度、载流子迁移率和电阻率.实验结果显示退火处理对ITO薄膜的光学、电学性质有重要影响,退火样品在可见光区域的透过率明显提高,且光学吸收边向长波方向移动;然而,退火前薄膜的电学性能更好.
