摘要
化学溶液沉积(CSD)技术在制备高温超导涂层导体方面具有易操作和低成本的优点。简述了CSD技术的基本原理以及在不同结构缓冲层制备方面的应用,并展望了涂层导体缓冲层技术的发展趋势。
Chemical solution deposition（CSD） is an attractive technology for easy-operate and low-cost deposition of buffer layers in high-To superconducting coated conductors. The principle of CSD and its recent progress in buffers of coated conductors are briefly reviewed. The development tendency of buffer-layer technique in coated conductors is given.
出处
《材料导报》
CSCD
北大核心
2009年第19期1-6,共6页
Materials Reports
基金
国家自然科学基金资助项目(50872115)
关键词
高温超导
涂层导体
缓冲层
化学溶液沉积
high-Tc superconductor, coated conductors, buffer layer, chemical solution deposition
