期刊文献+

不同控制方式下占空比对钛合金微弧氧化膜的影响 被引量:16

Effects of Duty Cycle on the Formation of Microarc Oxide Films on Titanium Alloy in Different Control Modes
在线阅读 下载PDF
导出
摘要 分别以恒电压和恒电流两种方式进行TC4钛合金的微弧氧化,研究两种方式下占空比对钛合金微弧氧化膜的影响。结果表明:占空比对电流密度和电压的不同作用决定了占空比对氧化膜厚度和粗糙度的影响,恒电压方式下,增加占空比,氧化膜的生长速率增大,表面变得粗糙,而且占空比的作用比在恒电流方式下更显著,因此,在恒电压方式下通过改变占空比控制氧化膜的形成更有效。 Microarc oxidation of TC4 alloy are carried out in constant voltage and current control modes respectively, and the effects of duty cycle on the formation of the microarc oxidation films on titanium alloy are investigated. The results show that different affections of duty cycle on current density and voltage determine the effects of duty cycle on the thickness and roughness of the oxide films. Under constant voltage condition, the growth rate will increase and the surface will become rougher with the increasing of duty cycle, that is more remarkable than under constant current condition. So it is more effective to control the formation of microrc oxidation films by changing duty cycle under constant voltage than under constant current conditon.
出处 《电镀与环保》 CAS CSCD 2006年第5期23-25,共3页 Electroplating & Pollution Control
基金 国家自然科学基金重点项目资助(50432020)
关键词 微弧氧化 钛合金 占空比 microarc oxidation titanium alloy duty cycle
  • 相关文献

参考文献9

二级参考文献58

  • 1高殿奎,姜桂荣,王玉林.微弧氧化减摩陶瓷层的生成及其影响因素[J].中国有色金属学报,2001,11(z2):199-202. 被引量:14
  • 2薛文彬,邓志威,汪新福,陈如意,来永春.铝合金微弧氧化陶瓷膜的形貌及相组成分析[J].北京师范大学学报(自然科学版),1996,32(1):67-70. 被引量:24
  • 3邓志威,薛文彬,汪新福,陈如意,来永春.铝合金表面微弧氧化技术[J].材料保护,1996,29(2):15-16. 被引量:91
  • 4薛文彬,邓志威,来永春,汪新福,陈如意.铝合金微弧氧化陶瓷膜的形成过程及其特性[J].电镀与精饰,1996,18(5):3-6. 被引量:85
  • 5Xue W B,J Am Ceram Soc,1998年,81卷,5期,1365页
  • 6Wiedemann K Wallace T. Oxidation of High Temper - ature Intermetallics [M] . Warrendale: The Mineralsand Materials Society, 1988. 195.
  • 7Bccker S Rahmal A Schorr M etal. Oxidation behavior of TiAl alloys [J]. Oxidation of Metals. 1992. 38(5) : 425.
  • 8Van T Brown S Wirtz G. Mechanism of anodic spark deposmon [J]. Ceram Soc Bull. 1977. 56(6):563-566.
  • 9Wirtz G Brown S Kriven W. Ceramic coatings by anodic spark deposition [J]. Material manufacture Process. 1991. 6 ( 1 ):87-115.
  • 10Krysmann W Kurze P Dittrich K Schneider H. Process Character is tics and parameters of anodic oxidation by spark discharge(ANC)F) [J]. Cryst Res Technol. 1984. 19(7) :973-979.

共引文献173

同被引文献187

引证文献16

二级引证文献80

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部