TN305 2003053940亚微米尺寸元件的离子束刻蚀制作=Fabrication of submicronelements by ion beam etching[刊,中]/曹召良(中科院长春光机所应用光学国家重点实验室.吉林,长春(130022)),陆广…//光子学报.—2003,32(6).—653-656采用...TN305 2003053940亚微米尺寸元件的离子束刻蚀制作=Fabrication of submicronelements by ion beam etching[刊,中]/曹召良(中科院长春光机所应用光学国家重点实验室.吉林,长春(130022)),陆广…//光子学报.—2003,32(6).—653-656采用软光刻技术中的微接触印刷(μCP)技术,表面诱导的水蒸气冷凝,表面诱导的去湿行为,在金基底上制作出了亚微米的环状周期结构聚合物掩膜。通过对离子束刻蚀过程中各个参量对刻蚀元件的表面光洁度。展开更多
文摘TN305 2003053940亚微米尺寸元件的离子束刻蚀制作=Fabrication of submicronelements by ion beam etching[刊,中]/曹召良(中科院长春光机所应用光学国家重点实验室.吉林,长春(130022)),陆广…//光子学报.—2003,32(6).—653-656采用软光刻技术中的微接触印刷(μCP)技术,表面诱导的水蒸气冷凝,表面诱导的去湿行为,在金基底上制作出了亚微米的环状周期结构聚合物掩膜。通过对离子束刻蚀过程中各个参量对刻蚀元件的表面光洁度。
