电弧离子镀与磁控溅射复合技术制备Ti/TiN/TiAlN复合涂层的组织结构与力学性能 被引量：18

1

作者 张启沛 钟喜春 +4 位作者 李春明 郭燕伶 余赟 焦东玲 匡同春 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第2期195-200,共6页

采用磁控溅射和电弧离子镀技术,在高速钢基体上制备了Ti/TiN/TiAlN复合涂层。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、显微硬度计、微米划痕仪等方法研究了镀覆条件对复合涂层的形貌、组织结构和力学性能的影响。结果表明,离子镀镀覆的过渡... 采用磁控溅射和电弧离子镀技术,在高速钢基体上制备了Ti/TiN/TiAlN复合涂层。采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、显微硬度计、微米划痕仪等方法研究了镀覆条件对复合涂层的形貌、组织结构和力学性能的影响。结果表明,离子镀镀覆的过渡层对磁控溅射涂层的显微组织和力学性能有重要影响。例如,新开发的AIP+MS技术制备的复合膜比AIP或MS技术制备的薄膜具有更高的硬度、更好的耐磨性能、更光滑的表面和更强的膜基结合力(大于30N)。由于电弧离子镀TiN过渡层表面的"大颗粒"在磁控溅射沉积TiAlN薄膜时也会结晶长大,组织形貌与膜上的TiAlN相似,提高了其与周围薄膜的结合,电弧离子镀TiN过渡层表面的"大颗粒"负面效应大大弱化。 展开更多

关键词 电弧离子镀技术 磁控溅射技术 复合技术 结合力

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钛合金表面磁控溅射与多弧离子镀TiN膜的摩擦学性能比较 被引量：11

2

作者 奚运涛 刘道新 +2 位作者 李美英 张晓化 谭宏斌 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2007年第6期14-18,24,共6页

分别采用磁控溅射(MS)和多弧离子镀(MAIP)技术在TC4钛合金表面制备了TiN膜层,采用划痕仪、显微硬度计和多冲试验机评价了两种方法制备膜层的膜基结合强度及承受静态和动态载荷的能力。采用球–盘磨损试验机评价了膜层的摩擦学性能,利用... 分别采用磁控溅射(MS)和多弧离子镀(MAIP)技术在TC4钛合金表面制备了TiN膜层,采用划痕仪、显微硬度计和多冲试验机评价了两种方法制备膜层的膜基结合强度及承受静态和动态载荷的能力。采用球–盘磨损试验机评价了膜层的摩擦学性能,利用扫描电镜(SEM)分析了磨痕形态特征,利用轮廓仪测量了磨损体积。结果表明:磁控溅射和多弧离子镀TiN膜层均能显著提高钛合金表面的硬度和承载能力;磁控溅射TiN膜层致密、光滑,有良好的减摩作用,但由于膜层承载能力低和膜基结合强度较差,摩擦因数随磨损行程呈增大变化趋势;多弧离子镀TiN膜层结合强度高,膜层厚,承载能力强,韧性好,同时硬质TiN膜层表面分布的Ti颗粒起到了润滑作用,因而耐磨性能优于磁控溅射TiN膜层。 展开更多

关键词 磁控溅射 多弧离子镀 TIN膜 摩擦学性能 钛合金

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磁场模拟在磁控溅射/阴极弧离子镀中的应用 被引量：5

3

作者 雷浩 肖金泉 +3 位作者 郎文昌 张小波 宫骏 孙超 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第2期27-44,共18页

针对磁控溅射和阴极弧离子镀沉积技术存在的局限性,采用有限元分析方法(Finite element method,FEM)进行磁场模拟,优化设计外加电磁线圈的结构和磁场分布位形,并应用于磁控溅射沉积透明导电氧化物和阴极弧离子镀沉积硬质薄膜中。分析了... 针对磁控溅射和阴极弧离子镀沉积技术存在的局限性,采用有限元分析方法(Finite element method,FEM)进行磁场模拟,优化设计外加电磁线圈的结构和磁场分布位形,并应用于磁控溅射沉积透明导电氧化物和阴极弧离子镀沉积硬质薄膜中。分析了外加电磁线圈磁场对磁控溅射等离子体辉光变化、磁控靶磁场平衡度/非平衡度、以及线圈位置对等离子体特性和靶材利用率的影响。设计和制作了轴对称磁场和旋转磁场,研究了它们对阴极弧离子镀弧斑运动形貌和薄膜表面大颗粒等特性的影响。通过控制弧斑运动状态,可以得到不同程度的颗粒分布,实现颗粒的可控沉积,减少薄膜表面大颗粒的污染。 展开更多

关键词 外加电磁线圈 磁控溅射 阴极弧离子镀 旋转磁场 弧源设计

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多弧离子镀与磁控溅射共沉积TiN/TiCN多层膜的高温抗氧化性能 被引量：9

4

作者 赵瑞山 任鑫 +3 位作者 王亮 宋晓龙 许细健 刘伟 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2017年第3期11-15,50,共6页

TiN/TiCN多层膜的高温抗氧化性研究对于扩大其应用领域具有重要作用,但目前鲜见相关报道。采用多弧离子镀与磁控溅射技术以不同调制周期在304不锈钢表面共沉积TiN/TiCN多层膜。采用XRD、XPS、倒置显微镜及高温氧化试验研究了多层膜的高... TiN/TiCN多层膜的高温抗氧化性研究对于扩大其应用领域具有重要作用,但目前鲜见相关报道。采用多弧离子镀与磁控溅射技术以不同调制周期在304不锈钢表面共沉积TiN/TiCN多层膜。采用XRD、XPS、倒置显微镜及高温氧化试验研究了多层膜的高温抗氧化行为。结果表明:TiN/TiCN多层膜表面光滑平整、均匀致密,薄膜主要为具有Ti-(C,N)键的fcc-TiN结构;随着调制周期的减小,TiN/TiCN多层膜生长取向发生转变,且具有(111)晶面生长织构;随着氧化温度的升高,多层膜的显微硬度逐渐降低,氧化增重速率不断增大,且在700℃之后变化速率较快,薄膜的开始氧化温度约为750℃;随着调制周期的减小,多层膜TiN与TiCN界面层数量增多,促使晶粒细化,提高了其致密性,还隔断了缺陷贯穿薄膜的连续性,显著降低了薄膜的孔隙率,致使O原子扩散困难,增强了薄膜的高温抗氧化性能。 展开更多

关键词 多弧离子镀 磁控溅射 TiN/TiCN多层膜 304不锈钢 调制周期 高温抗氧化性能

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低温磁控溅射与普通多弧离子镀TiN薄膜的摩擦学性能比较 被引量：13

5

作者 白秀琴 李健 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2006年第1期12-15,20,共5页

采用低温磁控溅射和普通多弧离子镀分别在冷作模具钢基体上制备了TiN薄膜,用纳米压痕法测量了薄膜的表面硬度,并比较了低温磁控溅射与普通多弧离子镀TiN薄膜的摩擦学性能。试验表明,低温磁控溅射TiN薄膜具有与普通多弧离子镀TiN薄膜相... 采用低温磁控溅射和普通多弧离子镀分别在冷作模具钢基体上制备了TiN薄膜,用纳米压痕法测量了薄膜的表面硬度,并比较了低温磁控溅射与普通多弧离子镀TiN薄膜的摩擦学性能。试验表明,低温磁控溅射TiN薄膜具有与普通多弧离子镀TiN薄膜相近的表面硬度,在多种试验条件下,低温磁控溅射TiN薄膜都有较好的摩擦学性能,摩擦副的磨损率低,摩擦因数小且变化平稳,磨损表面光滑。 展开更多

关键词 低温磁控溅射 多弧离子镀 TIN薄膜 摩擦学性能

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锆合金表面磁控溅射与多弧离子镀Cr涂层的高温抗氧化性能 被引量：25

6

作者 黄鹤 邱长军 +3 位作者 陈勇 胡良斌 刘艳红 李怀林 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期51-58,共8页

为了研究磁控溅射(MS)和多弧离子镀(MAIP)技术制备Cr涂层的高温抗氧化性能,分别在锆合金表面制备厚度约5μm的Cr涂层。利用氧化动力学曲线对比研究800℃条件下涂层的高温抗氧化性能,利用SEM、XRD、EDS分析涂层表面形貌和相结构。结果表... 为了研究磁控溅射(MS)和多弧离子镀(MAIP)技术制备Cr涂层的高温抗氧化性能,分别在锆合金表面制备厚度约5μm的Cr涂层。利用氧化动力学曲线对比研究800℃条件下涂层的高温抗氧化性能,利用SEM、XRD、EDS分析涂层表面形貌和相结构。结果表明:磁控溅射和多弧离子镀Cr涂层均能显著提高锆合金的高温抗氧化性能;磁控溅射Cr涂层表面光滑、致密,但涂层表面存在一定数量的孔洞,占涂层表面积0.40%,氧化7 h后涂层表面出现裂纹,单位面积氧化增重6.434 mg/cm2;与磁控溅射Cr涂层相比,多弧离子镀Cr涂层不再有(211)单一择优取向,Cr涂层厚度均匀,表面平整,膜/基界面分明,孔洞相对较少,占涂层表面积0.21%,氧化7 h后涂层表面依然致密,单位面积氧化增重5.616 mg/cm2,高温抗氧化性能优于磁控溅射Cr涂层。 展开更多

关键词 磁控溅射 多弧离子镀 Cr涂层 孔洞 高温抗氧化性能

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多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO_2复合装饰薄膜的研究 被引量：3

7

作者 朱元义 邓佩珊 +2 位作者 朱常锋 朱文 史继富 《真空》 CAS 2015年第1期45-47,共3页

本文结合多弧离子镀和磁控溅射两种镀膜方法的优点,制备了Ti N/Si O2复合薄膜。通过扫描电镜可以观察到,制备的复合膜比单纯的氮化钛薄膜更加致密和光滑,基本消除了大颗粒的影响。另外,可以通过控制溅射Si O2的时间实现对膜层色度的控... 本文结合多弧离子镀和磁控溅射两种镀膜方法的优点,制备了Ti N/Si O2复合薄膜。通过扫描电镜可以观察到,制备的复合膜比单纯的氮化钛薄膜更加致密和光滑,基本消除了大颗粒的影响。另外,可以通过控制溅射Si O2的时间实现对膜层色度的控制。在本文的试验条件下,当氧化硅溅射时间为30 min时,得到的膜层为咖啡色,当氧化硅溅射时间为1 h,膜层为玫瑰红色。采用两种镀膜手段联用的方法,可以得到高品质,颜色丰富的膜系。 展开更多

关键词 多弧离子镀 磁控溅射 氮化钛 氧化硅

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柱弧离子镀和非平衡磁控溅射镀制备Ti-N-C黑色硬质膜

8

作者 马胜歌 康光宇 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期35-38,共4页

采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti-N-C多层复合黑色硬质膜。采用轮廊仪扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能。结果表明,两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜,柱... 采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti-N-C多层复合黑色硬质膜。采用轮廊仪扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能。结果表明,两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜,柱弧离子镀制备黑色硬质膜的效率高、力学性能更好;中频孪生靶非平衡磁控溅射制备的黑色硬质膜表面光滑、颜色更深。 展开更多

关键词 黑色硬质膜 Ti—N—C 柱弧离子镀 中频溅射 非平衡磁控溅射

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闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术概述 被引量：2

9

作者 巩中宣 《内燃机与配件》 2013年第1期19-21,24,共4页

2磁控溅射离子镀2．1磁控溅射离子镀磁控溅射离子镀（MSIP）是指基体带有负偏压的磁控溅射镀膜工艺，它把磁控溅射的优点（成膜速率高、源为大平面源，有利于膜层厚度均匀）和离子镀过程的优点（能改变膜基界面的结合形式，提高膜基附... 2磁控溅射离子镀2．1磁控溅射离子镀磁控溅射离子镀（MSIP）是指基体带有负偏压的磁控溅射镀膜工艺，它把磁控溅射的优点（成膜速率高、源为大平面源，有利于膜层厚度均匀）和离子镀过程的优点（能改变膜基界面的结合形式，提高膜基附着力，膜层组织致密等）结合在一起。 展开更多

关键词 闭合场非平衡磁控溅射离子镀 技术 镀膜工艺 膜层厚度 负偏压 附着力 成膜

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多弧磁控溅射离子镀膜设备

10

作者 李连清 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期31-31,共1页

关键词 多弧磁控溅射离子镀 镀膜设备 专利 氮化钛

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磁控溅射和多弧离子镀制备Cr涂层Zr-4合金的微观结构和抗高温氧化性能

11

作者 邹旸 刘世宏 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2022年第7期245-252,共8页

为了对比研究磁控溅射和多弧离子镀两种工艺制备的Cr涂层Zr-4合金微观结构和抗高温氧化性能,分别采用直流磁控溅射和多弧离子镀制备了Cr涂层Zr-4合金样品,在空气气氛中开展高温氧化试验研究。结果表明,磁控溅射制备的Cr涂层Zr-4合金样... 为了对比研究磁控溅射和多弧离子镀两种工艺制备的Cr涂层Zr-4合金微观结构和抗高温氧化性能,分别采用直流磁控溅射和多弧离子镀制备了Cr涂层Zr-4合金样品,在空气气氛中开展高温氧化试验研究。结果表明,磁控溅射制备的Cr涂层Zr-4合金样品表面光滑,Cr涂层沿着(211)晶面择优生长,而多弧离子镀制备的Cr涂层Zr-4合金样品表面存在大量的滴液,Cr涂层沿着(110)晶面择优生长。高温氧化试验结果显示,磁控溅射制备的Cr涂层Zr-4合金样品的氧化质量增加约为多弧离子镀的一半,氧化后的微观结构显示磁控溅射制备的样品还有约4μm厚的残留Cr涂层,且O原子仅仅大量扩散到距表面约8μm处,而多弧离子镀制备的样品表面Cr涂层全部被氧化,且O原子大量扩散到距样品表面约1 mm深处的Zr-4合金基体中。因此,磁控溅射制备的Cr涂层Zr-4合金具有更好的抗高温氧化性能。 展开更多

关键词 Cr涂层Zr-4合金 抗高温氧化性能 微观结构 磁控溅射 多弧离子镀

原文传递

多弧-磁控溅射法制备Ti-Si-N纳米复合涂层及涂层的结构和力学性能 被引量：3

12

作者 刘传胜 杨种田 +2 位作者 杨兵 田灿鑫 付德君 《粉末冶金材料科学与工程》 EI 2010年第6期543-548,共6页

用内外靶配置的多弧-磁控溅射技术在单晶硅和硬质合金上制备Ti-Si-N纳米复合涂层,研究衬底偏压和Si靶溅射电流对涂层结构和力学性能的影响,经过实验参数优化,在偏压为-150 V、Si靶电流为15 A的沉积条件下,得到Si的原子分数为6.3%的Ti-S... 用内外靶配置的多弧-磁控溅射技术在单晶硅和硬质合金上制备Ti-Si-N纳米复合涂层,研究衬底偏压和Si靶溅射电流对涂层结构和力学性能的影响,经过实验参数优化,在偏压为-150 V、Si靶电流为15 A的沉积条件下,得到Si的原子分数为6.3%的Ti-Si-N纳米复合涂层。X射线衍射、X射线光电子能谱和透射电镜分析表明,涂层中含有晶态TiN和非晶Si3N4,纳米尺寸的TiN颗粒镶嵌在非晶Si3N4基体结构中。纳米硬度计测试表明涂层的显微硬度为40 GPa,摩擦学实验表明其摩擦因数为0.89,可满足Ti-Si-N纳米复合涂层的工业化应用要求。 展开更多

关键词 多弧离子镀 中频磁控溅射 TI-SI-N 纳米复合涂层

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零件表面多弧离子镀改性技术及应用

13

作者 杨威 彭加安 杜云峰 《电刷镀技术》 2003年第1期17-19,共3页

多弧离子镀技术是真空镀膜技术中最先进的一项新的表面工程技术。本文介绍多弧离子镀技术基本工作原理、特点及该技术在典型零件表面上镀制黑膜、硬质耐磨膜、耐磨损耐蚀膜、耐烧蚀膜、润滑耐蚀膜的应用。

关键词 多弧离子镀 改性技术 真空镀膜技术 表面工程技术 阴极 等离子体

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新型电磁控大弧源多弧离子镀膜机正在研制中

14

《中国表面工程》 EI CAS CSCD 1990年第3期39-40,共2页

多弧离子镀膜技术是当前最先进的离子镀技术之一,它是利用冷场致发射电弧提供高密度金属离子流,是各种离子镀技术中金属离化卒最高的技术,有利于在高速钢刀县上沉积氮化钛超硬涂层。1985— 1986年我国引进的九台刀具离子镀设备中有七台... 多弧离子镀膜技术是当前最先进的离子镀技术之一,它是利用冷场致发射电弧提供高密度金属离子流,是各种离子镀技术中金属离化卒最高的技术,有利于在高速钢刀县上沉积氮化钛超硬涂层。1985— 1986年我国引进的九台刀具离子镀设备中有七台是多弧离子镀设备。 展开更多

关键词 多弧离子镀 场致发射 膜技术 氮化钛 超硬 离化 生产周期 沉积氮 材料工程 靶面

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多弧离子镀-磁控溅射复合技术制备TiCN薄膜的耐蚀性研究（英文） 被引量：8

15

作者 任鑫 赵瑞山 +3 位作者 王玮 宋晓龙 张洋 张翀翊 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第7期2028-2036,共9页

采用多弧离子镀-磁控溅射复合技术在AISI304不锈钢基体表面于Ar和N_2混合气氛下共溅射钛靶和石墨靶制备了TiCN薄膜,研究了占空比对TiCN薄膜结构和在3.5%NaCl(质量分数)中耐蚀性的影响规律。结果表明:所沉积的TiCN薄膜表面光滑、均匀致密... 采用多弧离子镀-磁控溅射复合技术在AISI304不锈钢基体表面于Ar和N_2混合气氛下共溅射钛靶和石墨靶制备了TiCN薄膜,研究了占空比对TiCN薄膜结构和在3.5%NaCl(质量分数)中耐蚀性的影响规律。结果表明:所沉积的TiCN薄膜表面光滑、均匀致密,主要形成具有Ti-(C,N)键的fcc-TiN型结构和少量的α-CN_x化合物,并随着占空比的增加表现出(111)晶面择优取向。TiCN薄膜相比于基体表现出更好的耐蚀性能,且随着占空比的增大,薄膜的耐蚀性逐渐提高。当占空比为40%时,TiCN薄膜表现出最为优异的抗腐蚀性能,其自腐蚀电流密度(i_(corr))和极化电阻(R_p)分别为3.262×10^(-7)A·cm^(-2)和238.4kΩ·cm^2。薄膜的阻抗谱显示腐蚀离子的渗透行为和局部腐蚀过程是影响电极体系腐蚀反应过程中的主要动力学因素,这与极化曲线的分析结果相一致。 展开更多

关键词 TiCN薄膜 多弧离子镀和磁控溅射技术 占空比 耐蚀性

原文传递

非平衡磁控溅射类金刚石薄膜的特性 被引量：10

16

作者 徐均琪 杭凌侠 惠迎雪 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期134-137,141,共5页

非平衡磁控溅射(UBMS)结合了普通磁控溅射(MS)和离子束辅助沉积的优势,易于实现离子镀,近年来得到了广泛的应用。采用该技术制备的类金刚石薄膜(DLC)具有许多独特的性质。本文研究了非平衡磁控溅射技术制备DLC薄膜的光学、机械,电学和... 非平衡磁控溅射(UBMS)结合了普通磁控溅射(MS)和离子束辅助沉积的优势,易于实现离子镀,近年来得到了广泛的应用。采用该技术制备的类金刚石薄膜(DLC)具有许多独特的性质。本文研究了非平衡磁控溅射技术制备DLC薄膜的光学、机械,电学和化学性能。研究表明,非平衡磁控溅射制备的DLC膜具有较宽的光谱透明区,且表面光滑、摩擦系数小、耐磨损、抗化学腐蚀,同时具有较高的电阻率和良好的稳定性。 展开更多

关键词 类金刚石薄膜 非平衡磁控溅射技术 离子束辅助沉积 DLC薄膜 抗化学腐蚀 化学性能 DLC膜 溅射制备 表面光滑 摩擦系数 离子镀 耐磨损 稳定性 电阻率 光学

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多层复合真空离子镀膜技术的新发展 被引量：7

17

作者 王增福 陈步亮 +2 位作者 范斌 张再鸣 李然 《真空》 CAS 北大核心 2002年第3期10-12,共3页

本文回顾了多弧——磁控溅射多功能离子镀膜设备的结构和功能 ,并且对该设备在氮化钛掺金离子镀 (IPG)方面的典型应用 ,做了较为详细的膜层性能分析。同时 ,本文又对近年来一种新型的多功能离子镀设备——复合式离子镀膜设备的结构及特... 本文回顾了多弧——磁控溅射多功能离子镀膜设备的结构和功能 ,并且对该设备在氮化钛掺金离子镀 (IPG)方面的典型应用 ,做了较为详细的膜层性能分析。同时 ,本文又对近年来一种新型的多功能离子镀设备——复合式离子镀膜设备的结构及特点做了介绍 ,给出了该类型设备的典型应用场合 ,并且向读者介绍了使用该设备镀制的金属 /金属陶瓷多层膜的优异性能。 展开更多

关键词 多层复合真空离子镀膜技术 离子镀 多层镀 磁控溅射 镀膜设备

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冷场致弧光等离子体技术在表面工程中的应用

18

作者 王福贞 《表面工程》 CSCD 1997年第1期20-22,共3页

关键词 离子渗金属 离子渗氮 表面工程 等离子体喷涂 多弧离子镀 材料表面 弧光放电 改质 改性技术 等离子体技术

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添加稀土元素改善磁控溅射镀膜性能的研究

19

作者 李兴鳌 甘师盘 《湖北民族学院学报（自然科学版）》 CAS 1992年第1期6-11,共6页

磁控溅射离子镀是在长期研究一般离子镀和真空溅射的基础上诞生的一项新型物理气相沉积(PVD)表面技术。它可以通过在材料表面沉积一层与基材结合牢固的涂层而使材料获得某些特殊性能。如耐热性、耐蚀性、耐磨性等;同时,它又是一种使材... 磁控溅射离子镀是在长期研究一般离子镀和真空溅射的基础上诞生的一项新型物理气相沉积(PVD)表面技术。它可以通过在材料表面沉积一层与基材结合牢固的涂层而使材料获得某些特殊性能。如耐热性、耐蚀性、耐磨性等;同时,它又是一种使材料表面合金化的新途径。它与一般离子镀相比,其突出特点是,镀复材料和被镀材料几乎不受限制;冷蒸发源、尺寸大、寿命长,易实现成批及大量生产,沉积速率高,基板温度低,不改变基板原有的某些性能。 展开更多

关键词 磁控溅射镀膜 离子镀 表面合金化 耐蚀性 物理气相沉积 表面技术 基板 显微硬度测试 铁原子 金属间化合物

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用等离子体技术制备凹印版材耐磨层 被引量：1

20

作者 张跃飞 张广秋 +2 位作者 王正铎 葛袁静 陈强 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2005年第4期54-56,共3页

用电镀法制备凹印版材存在环境污染严重、成本高等缺点,为此研究用等离子体表面镀膜层替代电镀法制备凹印版材的新工艺。利用等离子体磁控溅射、多弧离子镀和离子束辅助沉积技术在镍基表面制备了硬质铬薄膜。研究表明,本法制备的薄膜表... 用电镀法制备凹印版材存在环境污染严重、成本高等缺点,为此研究用等离子体表面镀膜层替代电镀法制备凹印版材的新工艺。利用等离子体磁控溅射、多弧离子镀和离子束辅助沉积技术在镍基表面制备了硬质铬薄膜。研究表明,本法制备的薄膜表面致密均匀,中间有过渡层的离子束辅助沉积层表面显微硬度为800～1100HV,磁控溅射的为300～400HV,多弧离子镀的为600～800HV,多弧离子镀和离子束辅助沉积层表面显微硬度接近于电镀法(700～1100HV)。划痕试验表明,制备的薄膜与基体结合力均在5N左右,凹版电子束辅助沉积铬后表面光滑,网点线条清晰,粗细均匀,可替代电镀法凹印版材。 展开更多

关键词 凹印版材 制备 等离子体 磁控溅射 多弧离子镀 离子束辅助沉积 耐磨层

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