多弧磁控溅射离子镀膜设备
出处
《宇航材料工艺》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期31-31,共1页
Aerospace Materials & Technology
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1王增福,陈步亮,范兵,张再鸣,李然.多层复合真空离子镀膜技术的新发展[J].航天器环境工程,2003,20(1):60-62. 被引量:1
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2王增福,陈步亮,范斌,张再鸣,李然.多层复合真空离子镀膜技术的新发展[J].真空,2002,39(3):10-12. 被引量:7
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3林美珍,卞慰萱.离子镀耐磨涂层技术[J].科技开发动态,2004(10):23-23.
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4张萍.提高氮化钛—金(TiN—Au)双镀层质量合格率的关键[J].中国制笔,1999(1):34-38.
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