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氮化硅陶瓷在空气气氛炉中烧结的氧化及致密化研究 被引量:3

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摘要 本文以α-Si_(3)N_(4)粉为原料,含量为10%的Y_(2)O_(3)和Al_(2)O_(3)为烧结助剂,成功地在空气气氛炉中对氮化硅样品进行了烧结,研究了烧结温度、保温时间以及埋烧粉的粒度对氮化硅的氧化程度及致密化的影响。结果表明:提高烧结温度和适当地延长保温时间可以提高氮化硅的致密化程度,但会增加氮化硅的氧化程度;埋烧粉粒径的尺寸也会影响氮化硅的氧化程度,合适的埋烧粉粒度对氮化硅在空气中的烧结致密化有利。
作者 武振飞 李祯
出处 《江苏陶瓷》 CAS 2021年第6期23-25,共3页 Jiangsu Ceramics
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参考文献2

二级参考文献26

  • 1张其土,丁子上.Si_3N_4材料的钝化氧化和活化氧化[J].南京化工学院学报,1994,16(3):20-25. 被引量:4
  • 2张其土.莫来石涂层对Si_3N_4陶瓷材料抗氧化性能的影响[J].耐火材料,1997,31(1):26-28. 被引量:9
  • 3S.C.Singhal, J.Mater. Sci. 11 (1976) 500
  • 4Idem, Ceram. Int. (1976) 123
  • 5W.L.Vaughn and H.G.Maahs. J. Am. Ceram. Soc. 73 (1990) 1540
  • 6H.E.Kim and A.J.Moorhead, ibid. 73(1990)3007
  • 7T. Narushima, T.Goto, Y.Yokoyama, J. Hagiwara. Y.Iguchi and T. Hirai, ibid. 77 (1994) 2369
  • 8M.Balat, M.Czerniak, R.Berjoan, Oxidation of Silicon Nitride under Standard Air or Microwave-excited Air at High Temperature and Low Pressure. J.Mater. Sci.1997,32:1187-1193
  • 9Sheehan,J.E. Passive and active oxidation of hot-pressed silicon nitride materials with two magnesia contents.J.Am.Ceram. Soc,1982,65 (7):C-111
  • 10H. Du, R.E.Tressler, and C.G.Pantano. Oxidation Studies of Crystalline CVD Silicon Nitride.J.Electrochem. Soc.,1989,136[5]: 1 527-36

共引文献7

同被引文献26

引证文献3

二级引证文献1

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