红外抗反射涂层
出处
《红外》
CAS
1995年第2期20-20,共1页
Infrared
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1赵强.用于空间光学的高效红外抗反射涂层[J].红外与激光技术,1991,20(1):56-58.
-
22013年松下坚固型笔记本电脑新品发布会在京召开[J].个人电脑,2013(7):79-79.
-
3高峰,闾晓琴(审核).超辐射二极管[J].导航与控制,2005,12(4):6-7.
-
4Brian Martin,Graham Arthur,万力.365~193nm曝光的亚半微米多晶硅栅控制[J].电子工业专用设备,2000,29(4):50-56.
-
5章从福.CUNO发布最新过滤器 能去除小至10nm的污染物[J].半导体信息,2007,0(4):13-13.
-
6荷兰设备商Mapper获欧盟350万欧元资助 开发无掩膜光刻技术[J].电子工业专用设备,2008,37(3):26-26.
-
7谭天亚.Optical, Mechanical and Laser-induced Damage Threshold Properties of 1064 nm, 532 nm Frequency-doubled Antireflection Coating for LBO[J].Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science),2011,26(4):687-689.
-
8XieShao,AliceGuerrero,YimingGu.用于注入层用途的湿法显影有机抗反射涂层(英文)[J].电子工业专用设备,2004,33(11):29-36.
-
9熊述元.罗门哈斯电子材料公司与道康宁宣布合作开发旋涂式硅硬膜技术[J].半导体信息,2006,0(5):36-37.
-
10Rohm&Haas电子材料和道康宁达成新的合作协议[J].集成电路应用,2006,23(8):16-16.
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