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光刻机工件台位移测量系统的设计与实现 被引量:4

The Design and Implementation of the Linear Displacement Measuring System for Wafer Stage
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摘要 根据所设计光刻机工件台的定位精度要求,选取Renishaw RGH25F直线位移测量光栅作为其位置检测传感器,在此基础上完成了面向TMS320LF2407A DSP接口的工件台位移测量系统的软、硬件设计.实际运行中该测量系统工作稳定、可靠,而且系统还具有重复测量精度高、测量稳定性好和成本相对低廉等优点.
出处 《桂林电子工业学院学报》 2005年第3期60-63,共4页 Journal of Guilin Institute of Electronic Technology
基金 国家自然科学基金,广西自然科学基金
  • 相关文献

参考文献2

二级参考文献11

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共引文献29

同被引文献411

引证文献4

二级引证文献5

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