集成微电路基板清洗新技术与ODS清洗技术

New Process and ODS Process for Cleaning Substrate of Integrated Micro-Circuit

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摘要文章介绍了集成微电路基板清洗领域的ODS替代清洗技术。 The paper introduces ODS alternative cleaning process for cleaning substrate of integratedmicro-circuit with focus on the utilization of 10-sump ultrasonic cleaning machine for cleaning high precisionIC.

作者雷文德

机构地区广州合琪环保科技有限公司

出处《洗净技术》 2004年第9期35-37,共3页

关键词集成电路清洗超声波清洗机 ODS替代清洗技术 IC cleaning, Ultrasonic cleaning machine, ODS alternative cleaning process

分类号 TB559 [理学—声学]

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1朱家淇.探索环保型的清洗技术(中)——ODS替代清洗技术[J].电子产品世界,2001,8(5):67-68.
2杨洁,任万斌,李岩,吴宝嘉.纳米硫化镉的原位高压阻抗谱研究[J].延边大学学报（自然科学版）,2010,36(4):309-312.
3朱家淇.探索环保型的清洗技术(下)——ODS替代清洗技术[J].电子产品世界,2001,8(6):78-79.
4沈建中.超声清洗技术及其应用[J].洗净技术,2003(1):16-20. 被引量：9

洗净技术

2004年第9期

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