磁控溅射法制备WO3薄膜及其光学性质研究

Optics Study of WO3 Films by DC Sputtering

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摘要采用DC磁控溅射的方法在玻璃基片上制备WO3薄膜,在不同温度条件下对薄膜进行退火处理;测量了不同氧分压下制备的薄膜在紫外到可见光范围内的透过率.实验表明,氧分压在75%左右条件下制备的薄膜具有较好的光学性能,退火温度在300℃左右可明显改变薄膜的光学性质.

作者杨晓红王万录康庆

机构地区重庆大学重庆师范大学

出处《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期324-326,共3页 China Mechanical Engineering

关键词磁控溅射 WO3薄膜退火光学性质

参考文献2

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中国机械工程

2005年第z1期

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