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Silicon micro-hemispheres with periodic nanoscale rings produced by the laser ablation of single crystalline silicon
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作者 陈明 李爽 +1 位作者 崔清强 刘向东 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第10期375-380,共6页
We describe the fabrication of silicon micro-hemispheres by adopting the conventional laser ablation of single crystalline silicon in the vacuum condition without using any catalysts or additives. The highly oriented ... We describe the fabrication of silicon micro-hemispheres by adopting the conventional laser ablation of single crystalline silicon in the vacuum condition without using any catalysts or additives. The highly oriented structures of silicon micro-hemispheres exhibit many periodic nanoscale rings along their outer surfaces. We consider that the self-organized growth of silicon micro-structures is highly dependent on the laser intensity and background air medium. The difference between these surface modifications is attributed to the amount of laser energy deposited in the silicon material and the consequent cooling velocity. 展开更多
关键词 silicon micro-hemispheres pulsed laser ablation
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Photoluminescence of face-centered-cubic structure silicon nanoparticles deposited by pulsed laser ablation
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作者 ZHU ShiWei,DU Jun,WANG Lei & TU HaiLing Advanced Electronic Materials Institute,General Research Institute for Nonferrous Metals,Beijing 100088,China 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2010年第4期1060-1063,共4页
Face-centered-cubic(fcc) structure silicon nanoparticles(Si-nps) are synthesized by using nanosecond pulse excimer laser ablation of Si target in Ar ambient.The nonequilibrium environment caused by the plume confined ... Face-centered-cubic(fcc) structure silicon nanoparticles(Si-nps) are synthesized by using nanosecond pulse excimer laser ablation of Si target in Ar ambient.The nonequilibrium environment caused by the plume confined in argon ambient gas is responsible for the formation of fcc Si-nps.Photoluminescence(PL),transmission electron microscopy,and X-ray photoelectron spectroscopy are used to characterize these Si-nps.Broad PL spectrum is obtained with a double-peak at 403 and 503 nm by an exciting laser of 325 nm.After exposure to air for 60 days,air oxidation over time causes a clear blue-shift in green PL peak from 503 to 484 nm and no shift in violet PL peak of 403 nm.The present results indicate that the peak of 503 nm and blue-shift from 503 to 484 nm are attributed to the band-to-band recombination of quantum confinement model,while the violet PL peak of 403 nm is due to the recombination of electron transition from interface states of suboxides. 展开更多
关键词 silicon nanoparticles face-centered-cubic(fcc) PHOTOLUMINESCENCE pulse laser ablation(PLA)
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Effects of Parameters in Femtosecond Laser Micromachining on Ablation of Silicon
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作者 陈治 傅星 +1 位作者 耿娜 胡小唐 《Transactions of Tianjin University》 EI CAS 2009年第3期225-228,共4页
A series of ablation experiments on silicon surface by femtosecond laser system of 775 nm and 150 fs duration pulses were carried out.The morphological characteristics and the associated effect in the ablation were te... A series of ablation experiments on silicon surface by femtosecond laser system of 775 nm and 150 fs duration pulses were carried out.The morphological characteristics and the associated effect in the ablation were tested by atomic force microscope(AFM),scanning electron microscope(SEM),focused ion beam(FIB),and the optic microscope.The single pulse threshold can be obtained directly.For the multiple pulses,the ablation threshold varies with the number of pulses applied to the surface due to the incubation effect.By analyzing the experimental data,the thresholds of laser fluences under various laser pulse numbers were obtained,and the relationships between ablation area and laser energy and laser pulse number were concluded.Meanwhile,the periodic ripple structure on silicon surface was found.Under the condition of certain laser power,the number of laser pulse can influence the formation of ripples. 展开更多
关键词 femtosecond pulse laser microstructure machining silicon ablation threshold incubation effect
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纳秒激光脉冲诱导硅表面微结构 被引量:3
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作者 袁春华 李晓红 +1 位作者 唐多昌 杨宏道 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期393-396,共4页
利用Nd:YAG纳秒激光脉冲,在能量密度为1~10 J/cm2范围内辐照单晶硅,形成了表面锥形微结构,在SF6气氛和空气环境下均形成了锥形尖峰表面微结构。SF6气氛下产生的锥形尖峰顶端都有小球,部分锥形上还有二次尖峰形成,空气中纳秒激光诱导的... 利用Nd:YAG纳秒激光脉冲,在能量密度为1~10 J/cm2范围内辐照单晶硅,形成了表面锥形微结构,在SF6气氛和空气环境下均形成了锥形尖峰表面微结构。SF6气氛下产生的锥形尖峰顶端都有小球,部分锥形上还有二次尖峰形成,空气中纳秒激光诱导的锥形尖峰微结构顶端和边缘有由液滴固化形成的粒状物质,不同于利用准分子纳秒激光诱导的细长须状结构和飞秒激光辐照下产生的具有表面枝蔓状纳米结构的锥形微结构。实验结果表明,这种尖峰微结构的形成与辐照激光的波长和脉冲持续时间有关。对空气中微构造硅的辐射反射的初步研究表明,在500~2 400 nm范围内的光辐射反射率不高于20%。 展开更多
关键词 纳秒激光脉冲 激光烧蚀 表面微结构 光辐射反射
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非晶碳化硅量子点的制备及其光学性质研究 被引量:1
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作者 崔磊 杨丽娟 +1 位作者 高剑森 顾世浦 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2017年第2期550-553,共4页
采用脉冲激光烧蚀法,以多晶3C-SiC陶瓷片为靶材,制备了悬浮于去离子水中的非晶SiC纳米颗粒。利用透射电子显微镜(TEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、傅里叶变换红外吸收光谱(FTIR)、紫外可见吸收光谱(UV-Vis)和光致发光谱(PL)等测试... 采用脉冲激光烧蚀法,以多晶3C-SiC陶瓷片为靶材,制备了悬浮于去离子水中的非晶SiC纳米颗粒。利用透射电子显微镜(TEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、傅里叶变换红外吸收光谱(FTIR)、紫外可见吸收光谱(UV-Vis)和光致发光谱(PL)等测试手段对其形貌、结构和光学性质进行了分析。结果表明:这些纳米颗粒由大量的非晶SiC构成,粒径在8~9 nm,光学带隙为3.28 e V;样品表现出较强的光致发光,发光峰位于415 nm处,这主要是由于量子限制效应造成的。 展开更多
关键词 碳化硅 脉冲激光烧蚀法 量子点 光致发光
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沉积位置对脉冲激光沉积纳米Si晶薄膜微观结构的影响
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作者 周阳 郑红芳 +1 位作者 王英龙 刘保亭 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第10期1595-1597,共3页
在4.0×10-4Pa的真空条件下,采用脉冲激光烧蚀技术在单晶Si衬底和石英衬底上制备了非晶纳米Si薄膜。在N2气氛下,经过900℃热退火得到纳米Si晶薄膜。采用表面台阶测试仪、扫描电子显微镜、拉曼光谱仪等检测手段对样品不同位置的微观... 在4.0×10-4Pa的真空条件下,采用脉冲激光烧蚀技术在单晶Si衬底和石英衬底上制备了非晶纳米Si薄膜。在N2气氛下,经过900℃热退火得到纳米Si晶薄膜。采用表面台阶测试仪、扫描电子显微镜、拉曼光谱仪等检测手段对样品不同位置的微观结构进行了表征。测量结果表明制备的纳米Si晶薄膜厚度及其晶粒尺寸分布不均匀,随着测量点与样品沉积中心距离的增加,薄膜的厚度逐渐减小,纳米Si晶粒的尺寸逐渐增大。从脉冲激光烧蚀动力学的角度对实验结果进行了定性的分析。 展开更多
关键词 脉冲激光烧蚀 纳米Si薄膜 晶粒尺寸 羽辉动力学
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飞秒激光脉冲序列烧蚀硅的孔型质量研究 被引量:2
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作者 陈天琦 杨坚 贾天卿 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第6期108-117,共10页
为了改善高能流密度飞秒激光的烧蚀质量,使用法布里珀罗腔产生子脉冲间隔在1~3500 ps内连续可调的飞秒激光脉冲序列,系统探究了单个飞秒高斯脉冲与不同脉冲间隔的脉冲序列在硅上烧蚀的孔型质量。实验结果显示,子脉冲间隔在50~100 ps范... 为了改善高能流密度飞秒激光的烧蚀质量,使用法布里珀罗腔产生子脉冲间隔在1~3500 ps内连续可调的飞秒激光脉冲序列,系统探究了单个飞秒高斯脉冲与不同脉冲间隔的脉冲序列在硅上烧蚀的孔型质量。实验结果显示,子脉冲间隔在50~100 ps范围内时,孔边缘的冠状重熔物大大减少,其厚度仅为单个飞秒高斯脉冲的40%,周围基底几乎没有粘连的粉尘或热损伤痕迹,孔型品质因子数值从单个飞秒脉冲的0.52提升至0.89。本文报道的飞秒激光脉冲序列,基于后续子脉冲与喷出物的二次烧蚀原理,子脉冲间隔在50~100 ps范围内时,后续子脉冲能够最大程度的雾化喷出物,从而减少冠状重熔物与高温粉尘污染损伤,烧蚀质量得到改善。 展开更多
关键词 飞秒激光 高能流密度 脉冲序列 法布里珀罗腔 激光烧蚀 加工质量 重熔 粉尘
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长脉冲激光辐照单晶硅的热损伤 被引量:4
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作者 郭明 张永祥 +1 位作者 张文颖 李宏 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2020年第3期266-274,共9页
为探究毫秒脉冲激光辐照单晶硅的热损伤规律和机理,利用高精度点温仪和光谱反演系统对毫秒脉冲激光辐照单晶硅的温度进行测量。分析温度演化过程,研究毫秒脉冲激光对单晶硅热损伤全过程的温度状态和对应的损伤结构形态。研究表明:脉冲... 为探究毫秒脉冲激光辐照单晶硅的热损伤规律和机理,利用高精度点温仪和光谱反演系统对毫秒脉冲激光辐照单晶硅的温度进行测量。分析温度演化过程,研究毫秒脉冲激光对单晶硅热损伤全过程的温度状态和对应的损伤结构形态。研究表明:脉冲宽度固定时,激光诱导的单晶硅的峰值温度随能量密度的增加而增加;当脉冲宽度在1.5~3.0 ms之间时,温度随脉冲宽度的增加而降减小。温度上升曲线在熔点(1 687 K)附近时出现拐点,反射系数由0.33增加为0.72。在气化和凝固阶段,出现气化和固化平台期。单晶硅热致解理损伤先于热致熔蚀损伤,在低能量密度激光作用条件下,应力损伤占主导地位,而在大能量密度条件下,热损伤效应占主导地位。损伤深度与能量密度成正比,随脉冲个数增加迅速增加。 展开更多
关键词 长脉冲 激光 单晶硅 热损伤 应力 熔蚀
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硅片纳秒激光附加电流打孔实验研究
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作者 李锦超 张伟 +2 位作者 郑宏宇 高军 蒋超 《现代制造工程》 CSCD 北大核心 2023年第9期111-116,136,共7页
针对硅片具有反射率高、吸收率低等缺点,为了提高纳秒激光(波长为355 nm)在硅片上打孔蚀除材料效率,设计附加电流场装置,建立单脉冲烧蚀阈值模型,经过实验计算得到硅片烧蚀阈值为1.885 J/cm^(2)。采用电流场辅助激光环切式进行硅片打孔... 针对硅片具有反射率高、吸收率低等缺点,为了提高纳秒激光(波长为355 nm)在硅片上打孔蚀除材料效率,设计附加电流场装置,建立单脉冲烧蚀阈值模型,经过实验计算得到硅片烧蚀阈值为1.885 J/cm^(2)。采用电流场辅助激光环切式进行硅片打孔,分别在激光加工次数和附加电流不同时做实验研究,当激光加工次数较少而附加电流较大时,激光加工的微孔入口孔和出口孔直径均显著增加,锥度减小,蚀除材料效率增大;当激光加工次数较多时,施加电流后由于多脉冲的累积效应,微孔直径变化不明显,这是由于附加电流场导致硅片内自由电子增多,更多的自由电子与激光光子发生碰撞,增加硅片对激光能量的吸收。实验表明,附加电流增加了硅片对波长为355 nm纳秒激光光子的吸收率,提高了硅片蚀除材料效率,也为高效率的纳秒激光加工硅片提供一种新方法。 展开更多
关键词 硅片激光加工 附加电流 烧蚀阈值 微孔形貌 多脉冲累积效应
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环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响 被引量:9
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作者 王英龙 张荣梅 +2 位作者 傅广生 彭英才 孙运涛 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期698-700,共3页
薄膜表面粗糙度是表征薄膜质量的重要指标 ,为了探求环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响 ,采用XeCl脉冲准分子激光器 ,分别在惰性气体氦气和氩气的不同气压环境下烧蚀沉积了纳米Si薄膜 ,用TencorInstrumentsAlpha St... 薄膜表面粗糙度是表征薄膜质量的重要指标 ,为了探求环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响 ,采用XeCl脉冲准分子激光器 ,分别在惰性气体氦气和氩气的不同气压环境下烧蚀沉积了纳米Si薄膜 ,用TencorInstrumentsAlpha Step 2 0 0台阶仪对相应薄膜的表面粗糙度进行了测量。结果表明 ,薄膜表面粗糙度开始随着气压的增大而逐渐增加 ,在达到一最大值后便随着气压的增大而减小。由不同气体环境下的结果比较可以看出 ,充氩气所得Si薄膜表面粗糙度比充氦气的小 ,最大粗糙度强烈地依赖于气体种类。对于原子质量较大的氩气而言 ,其最大粗糙度仅比低气压时高出 11% ,而对于原子质量较小的氦气来说 ,其最大粗糙度比低气压时高出314 %。 展开更多
关键词 薄膜物理学 Si纳米薄膜 脉冲激光烧蚀 表面粗糙度
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脉冲激光烧蚀法制备硅纳米颗粒及其光致发光特征 被引量:6
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作者 朱世伟 王磊 +2 位作者 陈兴 屠海令 杜军 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期882-886,共5页
脉冲激光烧蚀(PLA)法制备硅纳米颗粒的过程中,缓冲气体压力是影响纳米颗粒尺寸最主要的参数之一。研究通常认为,随着缓冲气体压力的增大,纳米颗粒的尺寸相应增大。经扫描电镜(SEM)观察和粒度统计分析发现,在50~100 Pa的氩气压力范围... 脉冲激光烧蚀(PLA)法制备硅纳米颗粒的过程中,缓冲气体压力是影响纳米颗粒尺寸最主要的参数之一。研究通常认为,随着缓冲气体压力的增大,纳米颗粒的尺寸相应增大。经扫描电镜(SEM)观察和粒度统计分析发现,在50~100 Pa的氩气压力范围内,制备所得的硅纳米颗粒尺寸均匀,且随氩气压力增大而减小。结合实验参数对脉冲激光烧蚀法的动力学做理论分析,得出压力和硅纳米颗粒直径关系式,与实验结果吻合较好。对此系列硅纳米颗粒用280 nm光做室温光致发光(PL)测试,发现蓝紫光区的光致发光现象。在50 Pa气压下样品具有372 nm和445 nm的双峰结构,而在70 Pa和100 Pa气压下样品只有紫光区的明显峰,分别位于379 nm和393 nm。该蓝紫光区的光致发光谱归结为硅纳米颗粒表面氧化层的表面态效应。 展开更多
关键词 激光技术 硅纳米颗粒 光致发光 脉冲激光烧蚀 缓冲气体压力
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基于微流控技术的高效液相脉冲激光烧蚀法 被引量:3
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作者 关凯珉 刘晋桥 +1 位作者 徐颖 于颜豪 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第4期69-74,共6页
液相脉冲激光烧蚀法(PLAL)具有绿色环保、适用范围广及可制备复合材料等优点,受到学术界的广泛关注,但是较低的制备效率限制了它进一步发展。将微流控技术与液相脉冲激光烧蚀法相结合,在硅基微流控芯片中实现了快速高效制备晶格型(400~8... 液相脉冲激光烧蚀法(PLAL)具有绿色环保、适用范围广及可制备复合材料等优点,受到学术界的广泛关注,但是较低的制备效率限制了它进一步发展。将微流控技术与液相脉冲激光烧蚀法相结合,在硅基微流控芯片中实现了快速高效制备晶格型(400~800nm)和球型(100~300nm)硅纳米结构。通过扫描电子显微镜和光谱仪对其形貌结构及分布情况进行了测试表征,获得了微流控流速、激光烧蚀功率与纳米粒子制备效率之间的关系。该方法将液相脉冲激光烧蚀法的最高制备效率提高了30%以上,达到87.5mg/min,为将来液相脉冲激光烧蚀法工业化生产提供一种新的技术路线。 展开更多
关键词 激光制造 液相脉冲激光烧蚀法 制备效率 微流体 硅纳米结构
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