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基于多项式求根的双厚度透射法确定液体光学常数
1
作者 杨百愚 李磊 +5 位作者 王伟宇 武晓亮 王翠香 范琦 刘静 徐翠莲 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第10期2733-2738,共6页
光谱反演法可实现液体光学常数(消光系数和折射率)的确定,其中双厚度透射法是有代表性的光谱反演法之一。由于液体自身无法形成确定的形状,需要盛放在透明容器(液体池)中,因而通过实验测量得到的光谱透射率包含了液体池光学常数的影响,... 光谱反演法可实现液体光学常数(消光系数和折射率)的确定,其中双厚度透射法是有代表性的光谱反演法之一。由于液体自身无法形成确定的形状,需要盛放在透明容器(液体池)中,因而通过实验测量得到的光谱透射率包含了液体池光学常数的影响,这使得基于双厚度透射法所建立的光谱透射率方程极为复杂,难以求得解析解,通常采用反演法来计算液体的光学常数。现有的反演法存在如下问题:一是反演迭代耗费时间,二是反演迭代会引入误差,三是反演法得到的液体折射率存在二值问题。为解决上述问题,基于三层介质结构(液体池),考虑光在两种介质分界面上的多次反射,建立液体厚度满足整数比的光谱透射率方程组。通过代数运算获得与消光系数有关的多项式方程,求解并选择大于0小于1的实数根来计算消光系数;另求解关于液体池光学窗口反射率的一元二次方程,选择大于0小于1的根来计算液体和容器分界面的反射率,进而计算得到液体折射率的两个值。再用另一材料制作的液体池测量液体的光谱透射率,然后结合已经得到的消光系数作相关计算,会另外得到液体折射率的两个值,从四个值中选择相同者即为液体的折射率。作为应用示例,选用文献中水在0.5~1.0μm光谱范围的光学常数作为“理论值”、光学常数已知的石英玻璃和有机玻璃作为液体池材料。在不考虑仪器测量误差的情况下,将上述文献数据代入光谱透射率方程,计算得到的透射率作为“实验数据”。然后用多项式求根的方法确定水的光学常数,所得结果与“理论值”完全符合。模拟过程和计算结果表明:新方法是可用的,该方法解决了反演法的计算耗时、迭代误差以及折射率的二值问题,为液体光学常数的确定提供了一个新选择。 展开更多
关键词 光学常数 折射率 消光系数 衰减系数 双厚度透射率模型
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大气气溶胶消光特性和折射率的测量 被引量：26
2
作者 李学彬 胡顺星 +1 位作者 徐青山 胡欢陵 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期207-210,共4页
介绍了一种综合利用能见度仪、微脉冲激光雷达和光学粒子计数器测量大气气溶胶折射率的新方法。首先使用能见度仪和激光雷达测量出大气气溶胶的消光系数和消光后向散射比,然后使用粒子计数器测量出粒子谱分布,结合气溶胶粒子折射率,根... 介绍了一种综合利用能见度仪、微脉冲激光雷达和光学粒子计数器测量大气气溶胶折射率的新方法。首先使用能见度仪和激光雷达测量出大气气溶胶的消光系数和消光后向散射比,然后使用粒子计数器测量出粒子谱分布,结合气溶胶粒子折射率,根据球形粒子的米(Mie)散射理论,可以得到气溶胶消光系数和消光后向散射比。通过分析消光系数、消光后向散射比、粒子谱分布和折射率之间的关系,结合已知的消光系数和消光后向散射比,反演出大气气溶胶粒子的折射率。 展开更多
关键词 大气气溶胶 粒子谱分布 消光系数 消光后向散射比 折射率
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厦门地区气溶胶折射率的测量 被引量：11
3
作者 李学彬 黄印博 +2 位作者 徐赤东 魏合理 胡欢陵 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1831-1835,共5页
针对气溶胶折射率在分析大气气溶胶光学特性中的重要性,提出了一种综合利用黑碳仪、浊度计和光学粒子计数器反演大气气溶胶折射率的新方法。该方法根据黑碳仪和浊度计测量的气溶胶吸收系数和散射系数以及光学粒子计数器测量的粒子谱分布... 针对气溶胶折射率在分析大气气溶胶光学特性中的重要性,提出了一种综合利用黑碳仪、浊度计和光学粒子计数器反演大气气溶胶折射率的新方法。该方法根据黑碳仪和浊度计测量的气溶胶吸收系数和散射系数以及光学粒子计数器测量的粒子谱分布,采用球形粒子的米(Mie)散射理论,通过分析吸收系数、散射系数、粒子谱分布和折射率之间的关系来反演大气气溶胶粒子的折射率,并可以同时反演折射率实部和虚部。与其它独立的测量结果对比表明,该方法反演气溶胶折射率是合理的。最后,利用此方法分析了厦门地区的气溶胶折射率。 展开更多
关键词 大气气溶胶 折射率测量 粒子谱分布 消光系数 散射系数
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黑曲霉孢子灭活前后红外消光特性 被引量：11
4
作者 顾有林 王成 +6 位作者 杨丽 欧宗伟 胡以华 李乐 赵义正 陈卫 王鹏 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2015年第1期36-41,共6页
黑曲霉孢子是生物气溶胶的重要组成部分，质量消光系数是研究黑曲霉孢子电磁衰减特性的重要参数。采用压片法测量了灭活前后黑曲霉孢子2.5-15μm波段的反射光谱，并利用Krames-Kronig（K- K）关系计算了黑曲霉孢子红外波段的复折射率。... 黑曲霉孢子是生物气溶胶的重要组成部分，质量消光系数是研究黑曲霉孢子电磁衰减特性的重要参数。采用压片法测量了灭活前后黑曲霉孢子2.5-15μm波段的反射光谱，并利用Krames-Kronig（K- K）关系计算了黑曲霉孢子红外波段的复折射率。基于Mie散射理论求出了灭活前后黑曲霉孢子红外波段的质量消光系数，并对结果进行了分析和讨论。分析结果表明：3-5μm波段，灭活后平均质量消光系数降低了4.6%，8-14μm波段，灭活后平均质量消光系数降低了89.5%，由此可知，保持活性对于提高黑曲霉孢子的电磁衰减能力具有重要的意义。 展开更多
关键词 黑曲霉孢子 红外 灭活 复折射率 质量消光系数
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真空热处理对硫化锌薄膜光学与微结构特性的影响 被引量：9
5
作者 刘华松 姜承慧 +4 位作者 李士达 杨霄 季一勤 张锋 陈德应 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第8期2038-2045,共8页
针对电子束蒸发离子辅助沉积的硫化锌薄膜,研究了550℃以下真空热处理对其光学与微结构特性的影响。薄膜光学和微结构特性的测试分析表明:制备后薄膜为类立方结构的ZnS,在337.5nm波长处出现临界特性转折点,随着热处理温度的增加,转折波... 针对电子束蒸发离子辅助沉积的硫化锌薄膜,研究了550℃以下真空热处理对其光学与微结构特性的影响。薄膜光学和微结构特性的测试分析表明:制备后薄膜为类立方结构的ZnS,在337.5nm波长处出现临界特性转折点,随着热处理温度的增加,转折波长两侧的消光系数变化规律相反,折射率和物理厚度呈现下降趋势,薄膜的禁带宽度逐渐增加;在红外波段的薄膜折射率与热处理温度的变化并不显著,在350℃下热处理时消光系数出现转折,主要是由晶粒变小的趋势所致;通过晶相分析,硫化锌薄膜经历了类立方结构到六方结构的转换,与禁带宽度的变化趋势基本一致。分析结果表明,光学特性变化的根本原因是薄膜的微结构特性变化。 展开更多
关键词 ZNS薄膜 折射率 消光系数 真空热处理 晶相结构
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不同取向金刚石薄膜的红外椭圆偏振光谱特性研究 被引量：6
6
作者 苏青峰 夏义本 +2 位作者 王林军 刘健敏 史伟民 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期86-89,共4页
采用红外椭圆偏振光谱仪对HFCVD方法所制备的不同取向金刚石薄膜的光学参数进行了测量．结果表明（001）取向金刚石薄膜具有较佳的光学质量，在红外波段基本是透明的．在2．5-12．5μm红外波长范围内，（001）取向金刚石膜的折射率和消... 采用红外椭圆偏振光谱仪对HFCVD方法所制备的不同取向金刚石薄膜的光学参数进行了测量．结果表明（001）取向金刚石薄膜具有较佳的光学质量，在红外波段基本是透明的．在2．5-12．5μm红外波长范围内，（001）取向金刚石膜的折射率和消光系数几乎不随波长的改变而变化，折射率为2．391，消光系数在10^-5范围内；对于（111）取向金刚石膜，其折射率和消光系数随波长的改变有微小变化，折射率和消光系数都低干（001）取向膜．通过计算拟合得到（001）取向金刚石膜的介电常数为5．83，优干（111）取向膜。 展开更多
关键词 CVD金刚石膜 红外椭圆偏振光谱 折射率 消光系数
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红外遮光剂颗粒的光学和辐射特性分析 被引量：7
7
作者 赵俊杰 段远源 +1 位作者 王晓东 王补宣 《热科学与技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第4期283-288,共6页
气凝胶是一种纳米多孔高效隔热材料,但抑制高温辐射能力较差,通常添加遮光剂颗粒以提高材料的高温隔热性能。基于改进的Kramers-Krnig(KK)关系式和Mie散射理论,建立获得遮光剂颗粒复折射系数的求解模型,揭示遮光剂种类、直径对气凝胶... 气凝胶是一种纳米多孔高效隔热材料,但抑制高温辐射能力较差,通常添加遮光剂颗粒以提高材料的高温隔热性能。基于改进的Kramers-Krnig(KK)关系式和Mie散射理论,建立获得遮光剂颗粒复折射系数的求解模型,揭示遮光剂种类、直径对气凝胶-遮光剂复合材料的隔热影响机制。结果表明,遮光剂的添加种类、直径、体积含量对气凝胶-遮光剂复合隔热材料高温辐射特性有较大影响。高温下,SiC的最佳消光粒径为3μm。中低温下炭黑是较为理想的遮光剂;中高温下SiC和TiO2是较为理想的遮光剂。理想的遮光剂在近红外区应具有较大的复折射系数。 展开更多
关键词 气凝胶 遮光剂 复折射系数 消光系数 辐射
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水雾的热红外伪装性能分析 被引量：11
8
作者 卢辉 王向伟 +1 位作者 吕绪良 孟宪浩 《红外技术》 CSCD 北大核心 2009年第11期646-649,共4页
利用Mie散射理论,在水的复折射指数随波长变化的情况下,通过雾滴消光效率因子和gamma尺寸谱分布计算了热红外波长范围内的消光系数,建立了热红外波段gamma尺寸谱分布雾的含水量与消光系数的关系,分析了含水量为0.1和0.5时的红外探测器... 利用Mie散射理论,在水的复折射指数随波长变化的情况下,通过雾滴消光效率因子和gamma尺寸谱分布计算了热红外波长范围内的消光系数,建立了热红外波段gamma尺寸谱分布雾的含水量与消光系数的关系,分析了含水量为0.1和0.5时的红外探测器探测距离随传输路径L之间的变化关系。结论表明,水复折射指数、雾滴尺寸谱分布对雾的热红外辐射传输衰减有着较大影响,水雾遮蔽伪装时需充分考虑。 展开更多
关键词 MIE散射 复折射指数 GAMMA分布 消光系数 探测距离
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CdS纳米晶颗粒薄膜的制备及其光学特性研究 被引量：10
9
作者 赵湘辉 魏爱香 招瑜 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期1580-1586,共7页
采用化学浴沉积法,以CdCl2.H2O、CS(NH2)2、NH4Cl、NH3.H2O和去离子水作为反应前驱物,在不同的氨水浓度下制备CdS纳米晶颗粒薄膜。通过扫描电镜、X射线衍射、X射线能量色散谱、紫外-可见光透射光谱、椭圆偏振光谱等方法,研究了反应前驱... 采用化学浴沉积法,以CdCl2.H2O、CS(NH2)2、NH4Cl、NH3.H2O和去离子水作为反应前驱物,在不同的氨水浓度下制备CdS纳米晶颗粒薄膜。通过扫描电镜、X射线衍射、X射线能量色散谱、紫外-可见光透射光谱、椭圆偏振光谱等方法,研究了反应前驱物中氨水浓度对CdS纳米晶颗粒薄膜的表面形貌、晶体结构、S/Cd原子比、光透过率、光学带隙、折射率、消光系数和光学吸收边等物理性能的影响。结果表明:反应前驱物中氨水浓度在0.4～1.0mol/L范围内,可以在衬底上形成均匀致密的CdS纳米晶颗粒薄膜。随着氨水浓度的增加,CdS纳米晶的平均晶粒尺寸逐渐减少,S/Cd原子比逐渐增加,由富Cd型转变为富S型,禁带宽度逐渐增加。在500～1000 nm波段内,折射率的平均值为1.75;消光系数k小于0.07。 展开更多
关键词 CDS薄膜 化学浴沉积 折射率 消光系数 光学带隙
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PECVD法氮化硅薄膜生长工艺的研究 被引量：20
10
作者 陶涛 苏辉 +7 位作者 谢自力 张荣 刘斌 修向前 李毅 韩平 施毅 郑有炓 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第5期267-272,303,共7页
采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD),在单晶硅衬底(100)上成功制备了不同生长工艺条件下的氮化硅薄膜。分别采用XP-2台阶仪、椭圆偏振仪等手段测试了薄膜的厚度、折射率、生长速率等参数。并采用原子力显微镜(AFM)研究了薄膜的表面... 采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD),在单晶硅衬底(100)上成功制备了不同生长工艺条件下的氮化硅薄膜。分别采用XP-2台阶仪、椭圆偏振仪等手段测试了薄膜的厚度、折射率、生长速率等参数。并采用原子力显微镜(AFM)研究了薄膜的表面形貌。结果表明,温度和射频功率是影响薄膜生长速率的主要因素,生长速率变化幅度可以达到230nm/min甚至更高。对于薄膜折射率和成分影响最大的是NH3流量,折射率变化范围可以达到2.7～1.86。分析得出受工艺参数调控的薄膜生长速率对薄膜的性质有重要影响。 展开更多
关键词 等离子体增强化学气相沉积法 氮化硅薄膜 生长速率 折射率 硅衬底
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两种反演半透明液体光学常数的方法对比 被引量：7
11
作者 李栋 夏新林 艾青 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期73-77,共5页
基于光线跟踪法建立求解半透明液体透射比的正问题模型,研究基于蒙特卡罗法(MC)和简化方程迭代法(SEI)的反演半透明液体光学常数(吸收指数k、折射指数n)的两种方法,分析两种反演方法的适用范围.将已知文献中庚烷的光学常数作为"真... 基于光线跟踪法建立求解半透明液体透射比的正问题模型,研究基于蒙特卡罗法(MC)和简化方程迭代法(SEI)的反演半透明液体光学常数(吸收指数k、折射指数n)的两种方法,分析两种反演方法的适用范围.将已知文献中庚烷的光学常数作为"真实值",用正问题模型求解的透射比作为"实验测量值",采用反问题模型反演n和k,并分析实验偏差对反演的影响.研究结果表明:两种方法反演的庚烷k的计算误差的标准差均小于10-6,而n的标准差高于0.1%;当实验数据存在偏差时,光学常数n、k的反演计算精度呈现降低趋势. 展开更多
关键词 半透明液体 光学常数 吸收指数 折射指数 反演模型
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获取多波长气溶胶光学特性的方法研究 被引量：4
12
作者 李学彬 李超 +1 位作者 徐青山 魏合理 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期252-254,共3页
为了获得多波长气溶胶的垂直消光特性,本文提出了一种综合利用光学粒子计数器、能见度仪和激光雷达获取多波长气溶胶光学特性的新方法。该方法根据光学粒子计数器测量的谱分布、能见度仪测量的能见度和激光雷达测量的消光后向散射比反... 为了获得多波长气溶胶的垂直消光特性,本文提出了一种综合利用光学粒子计数器、能见度仪和激光雷达获取多波长气溶胶光学特性的新方法。该方法根据光学粒子计数器测量的谱分布、能见度仪测量的能见度和激光雷达测量的消光后向散射比反演出气溶胶粒子(λ=0.532μm)的折射率,作为初始值,根据气溶胶模式提供的折射率随波长的变化关系,确定其他波长上的折射率。再根据气溶胶折射率和谱分布计算不同波长上的消光特性,最后采用激光雷达测量的垂直消光廓线来反演其他波长上的消光廓线。以0.532μm,1.06μm和10.6μm三波长为例,给出北京2004年8月24日气溶胶在不同波长上的垂直消光廓线。 展开更多
关键词 大气光学 大气气溶胶 消光系数 折射率
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高速沉积氮化硅薄膜对其化学键及性能的影响 被引量：5
13
作者 谢振宇 龙春平 +1 位作者 邓朝勇 胡文成 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期26-31,共6页
采用等离子增强型化学气相沉积法(RF-PECVD),源气体为NH3/SiH4/N2的混合气体,在330℃的温度下沉积a-SiNx∶H薄膜。研究表明在反应气体流量一定的情况下,反应腔气压对薄膜沉积速率影响最大。采用Fourier红外吸收光谱技术分析a-SiNx∶H薄... 采用等离子增强型化学气相沉积法(RF-PECVD),源气体为NH3/SiH4/N2的混合气体,在330℃的温度下沉积a-SiNx∶H薄膜。研究表明在反应气体流量一定的情况下,反应腔气压对薄膜沉积速率影响最大。采用Fourier红外吸收光谱技术分析a-SiNx∶H薄膜中化学键结构,随着沉积速率的提高,薄膜的化学键结构发生变化,N—H键含量和氮含量增大,Si—H键含量和氢含量降低。薄膜沉积速率是影响薄膜物理和光学性质的重要工艺参数。禁带宽度(E04)主要受薄膜中氮原子含量的调制,随着沉积速率增大,氮原子含量增大。另外,介电常数和折射系数则随之增大。最后得到满足薄膜晶体管性能要求的最佳工艺参数。 展开更多
关键词 氢化非晶氮化硅 沉积速率 禁带宽度 介电常数 反射系数
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532nm激光辐照下ZnSe薄膜光学特性研究 被引量：4
14
作者 王建 徐均琪 +2 位作者 李候俊 李绵 苏俊宏 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2018年第6期929-935,共7页
采用电子束热蒸发技术制备了ZnSe薄膜,研究了532nm波长的不同能量(2.0mJ、2.5mJ、3.0mJ)、不同脉冲数(3、10、15)激光诱导前后,ZnSe薄膜的透射率、折射率、消光系数、损伤阈值(LIDT)的变迁。研究结果显示,在能量为2.0mJ激光辐照后,ZnSe... 采用电子束热蒸发技术制备了ZnSe薄膜,研究了532nm波长的不同能量(2.0mJ、2.5mJ、3.0mJ)、不同脉冲数(3、10、15)激光诱导前后,ZnSe薄膜的透射率、折射率、消光系数、损伤阈值(LIDT)的变迁。研究结果显示,在能量为2.0mJ激光辐照后,ZnSe薄膜折射率提高,透射率下降。相比较能量为2.5mJ、3.0mJ激光辐照,在能量为2.0mJ激光辐照后折射率提高最明显,由2.489 4提高到2.501 6。薄膜损伤阈值从0.99J/cm2提高到1.39J/cm2(10脉冲辐照);薄膜的损伤经过了无损伤到严重损伤突变的损伤演变过程。采用原子力显微镜对预处理后薄膜表面粗糙度进行检测,发现激光预处理后的薄膜表面粗糙度Ra有所下降,从0.563nm降低到0.490nm(15脉冲激光辐照)。 展开更多
关键词 硒化锌 预处理 透射率 折射率 消光系数 损伤阈值
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沉积速率及相关工艺条件对直流反应磁控溅射制备TiO_2薄膜性质的影响 被引量：15
15
作者 张永熙 沈杰 +4 位作者 杨锡良 陈华仙 陆明 严学俭 章壮健 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2000年第1期13-18,共6页
在玻璃基板上用直流反应磁控溅射钛靶的方法制备TiO2 薄膜。在溅射总气压为 0 4Pa ,氧氩比分别为 1∶9,1∶5及 1∶3 2的情况下 ,调节溅射功率使沉积速率由 0 99nm/min变化到 12 12nm/min ,而且当基板温度为 34 0℃时 ,薄膜在可见光... 在玻璃基板上用直流反应磁控溅射钛靶的方法制备TiO2 薄膜。在溅射总气压为 0 4Pa ,氧氩比分别为 1∶9,1∶5及 1∶3 2的情况下 ,调节溅射功率使沉积速率由 0 99nm/min变化到 12 12nm/min ,而且当基板温度为 34 0℃时 ,薄膜在可见光范围内的平均折射率基本不变 ,为 2 48± 0 0 3,而薄膜的表面形貌却有明显变化。XRD表明 ,在pO2 /pAr为 1∶9的条件下 ,薄膜中出现了TiOx(x <2 )的晶粒 ,但这对薄膜的光学性质并无影响。另外对TiO2 展开更多
关键词 二氧化钛薄膜 反应磁控溅射 光学性质 光学薄膜
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不同猪肉组织在太赫兹衰减全反射光谱中的特性差异 被引量：3
16
作者 齐亮 赵茂程 +1 位作者 赵婕 唐于维一 《食品与机械》 CSCD 北大核心 2018年第2期11-14,61,共5页
为了探讨太赫兹(THz)光谱无损检测猪肉品质的可行性,采用衰减全反射(ATR)模式采集猪脂肪、肌肉和皮肤3种新鲜组织的THz光谱,获取3种组织在0.2~2.0THz范围的折射率和消光系数。结果表明:在0.2~1.6THz低频段猪肉不同组织的THz光谱差异较明... 为了探讨太赫兹(THz)光谱无损检测猪肉品质的可行性,采用衰减全反射(ATR)模式采集猪脂肪、肌肉和皮肤3种新鲜组织的THz光谱,获取3种组织在0.2~2.0THz范围的折射率和消光系数。结果表明:在0.2~1.6THz低频段猪肉不同组织的THz光谱差异较明显,含水量是影响新鲜组织对THz波吸收的主要因素。利用不同组织在THz波段的光学特性差异,可以无损快速鉴别组织类型。通过建立同种猪肉组织的THz光谱与猪肉品质的关系模型,能够实现猪肉品质的无损检测。 展开更多
关键词 太赫兹 衰减全反射 组织鉴别 无损检测 折射率 消光系数
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基于多项式求根的双厚度透射率模型确定光学常数 被引量：2
17
作者 杨百愚 武晓亮 +4 位作者 王翠香 王伟宇 李磊 范琦 刘静 《红外技术》 CSCD 北大核心 2023年第1期91-94,共4页
为解决光谱反演法确定物质光学常数的一些问题,基于传统的双厚度透射率模型,建立厚度分别为L和2L的光谱透射率方程,通过代数运算获得与衰减系数有关的八次多项式方程,求解并选择其大于0小于1的实数根来计算衰减系数和消光系数;再求解关... 为解决光谱反演法确定物质光学常数的一些问题,基于传统的双厚度透射率模型,建立厚度分别为L和2L的光谱透射率方程,通过代数运算获得与衰减系数有关的八次多项式方程,求解并选择其大于0小于1的实数根来计算衰减系数和消光系数;再求解关于界面反射率的一元二次方程,选择其大于0小于1的根来计算折射率。在确定光学常数的过程中,新方法没有反演误差和迭代计算耗时问题。利用已知文献中庚烷的光学常数验证新方法的可靠性,并分析了双厚度不满足2倍关系时对计算结果的影响,结论是第二厚度2L的相对误差不超过1%时,消光系数的计算误差不超过2.03%,不考虑3个强吸收点时,折射率的计算误差不超过1%。 展开更多
关键词 光学常数 折射率 消光系数 衰减系数 双厚度透射率模型
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磁控溅射氧化钛薄膜的光学性能 被引量：2
18
作者 程芳 黄美东 +3 位作者 王丽格 杜姗 唐晓红 刘春伟 《天津师范大学学报（自然科学版）》 CAS 2013年第1期55-58,共4页
常温下,通过反应磁控溅射法在K9双面抛光玻璃基底上制备氧化钛薄膜.采用X线衍射(X-rayDiffraction,XRD)、光栅光谱仪和椭偏仪对氧化钛薄膜样品的结构和光学性能进行测试,并拟合分析得到薄膜的折射率和厚度等光学参数.结果表明:氧化钛纳... 常温下,通过反应磁控溅射法在K9双面抛光玻璃基底上制备氧化钛薄膜.采用X线衍射(X-rayDiffraction,XRD)、光栅光谱仪和椭偏仪对氧化钛薄膜样品的结构和光学性能进行测试,并拟合分析得到薄膜的折射率和厚度等光学参数.结果表明:氧化钛纳米薄膜呈非晶态,其折射率和消光系数随波长的变化而变化,薄膜的透射率测量结果和理论计算结果在350～800 nm光波范围内吻合良好.由于氧化钛薄膜的折射率高且在可见光波段吸收小、呈透明状,是用来构成一维光子晶体的理想组分,有关其光学性能的基础研究对光子晶体的结构设计及其器件的开发应用具有积极的意义. 展开更多
关键词 氧化钛薄膜 磁控溅射 透射率 折射率 光学性能 消光系数 晶体结构
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光反射干涉谱新方法测试薄膜厚度和光学常数 被引量：2
19
作者 廖荣 张海燕 +3 位作者 杨铁铮 谈锬 范宇 王道然 《中国测试》 CAS 北大核心 2013年第6期10-13,共4页
依据测量薄膜和光之间相互作用可确定薄膜特性的原理,并基于光反射干涉谱与德国最新研发薄膜分析软件SCOUT的新方法可测量已知或未知材料的多层薄膜厚度及其折射率n、消光系数k。通过实际测试证明:该方法可测试单晶硅、玻璃、ITO玻璃基... 依据测量薄膜和光之间相互作用可确定薄膜特性的原理,并基于光反射干涉谱与德国最新研发薄膜分析软件SCOUT的新方法可测量已知或未知材料的多层薄膜厚度及其折射率n、消光系数k。通过实际测试证明:该方法可测试单晶硅、玻璃、ITO玻璃基底上沉积薄膜的厚度,样品基本不需要特别准备,对样品无破坏性,测试精准。理论上可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度和光学常数,操作非常简便,适合于镀膜行业的在线检测和实时监控,且SCOUT软件在多层膜及多种材料的研发、制备等方面具有应用潜力。 展开更多
关键词 纳米薄膜 光反射干涉谱 薄膜厚度 折射率 消光系数
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PECVD淀积SiO_2薄膜工艺研究 被引量：11
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作者 亢喆 黎威志 +1 位作者 袁凯 蒋亚东 《微处理机》 2010年第1期23-26,共4页
研究了等离子增强化学气相淀积(PECVD)制备非晶SiO2薄膜的工艺。系统地研究了反应气体流量比、射频功率、淀积腔内压强、淀积时间等工艺条件对SiO2薄膜质量的影响,采用椭偏仪测量了不同工艺条件下淀积的SiO2薄膜的厚度和折射率。根据以... 研究了等离子增强化学气相淀积(PECVD)制备非晶SiO2薄膜的工艺。系统地研究了反应气体流量比、射频功率、淀积腔内压强、淀积时间等工艺条件对SiO2薄膜质量的影响,采用椭偏仪测量了不同工艺条件下淀积的SiO2薄膜的厚度和折射率。根据以上测试结果分析了各工艺参数对SiO2薄膜淀积速率、折射率以及均匀性的影响规律,并定性讨论了其机理。找到了比较合适的制备高均匀性和典型折射率SiO2薄膜的工艺参数。 展开更多
关键词 等离子增强化学气相淀积 氧化硅 淀积速率 折射率
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