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Lu2SiO5:Ce透明薄膜改性及其发光性能 被引量:1
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作者 范洋洋 刘小林 +3 位作者 顾牡 倪晨 黄世明 刘波 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期344-348,共5页
Lu2SiO5∶Ce具有高密度、高光产额、快衰减等优点,是一种性能优异的新型X射线闪烁薄膜材料。本文采用溶胶-凝胶工艺和旋涂技术,以无机盐为原料、2-甲氧基乙醇为溶剂、聚乙二醇(PEG)为改性剂,在石英基片上成功制备出Lu2SiO5∶Ce透明薄膜... Lu2SiO5∶Ce具有高密度、高光产额、快衰减等优点,是一种性能优异的新型X射线闪烁薄膜材料。本文采用溶胶-凝胶工艺和旋涂技术,以无机盐为原料、2-甲氧基乙醇为溶剂、聚乙二醇(PEG)为改性剂,在石英基片上成功制备出Lu2SiO5∶Ce透明薄膜,较为详细地研究了PEG对该薄膜发光性能的影响。结果表明当采用浓度为12.5%的PEG200时,所制备薄膜的质量和发光强度最为理想;通过多次旋涂,Lu2SiO5∶Ce透明薄膜厚度可达0.9μm。 展开更多
关键词 lu2sio5∶ce薄膜 溶胶-凝胶法 PEG 发光性能
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Lu2SiO5:Ce^3+透明薄膜制备及其发光性能研究
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作者 吴霜 刘波 +6 位作者 陈士伟 张娟楠 刘小林 顾牡 黄世明 倪晨 薛超凡 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第9期948-954,共7页
Lu_2SiO_5:Ce^(3+)薄膜具有高光产额、快衰减时间、高密度、高空间分辨率等优点,有望成为X射线探测中的闪烁材料,但制备高质量的薄膜面临挑战。本工作采用溶胶凝–胶法,通过对制备过程中水硅比、烧结程序、胶黏剂和固含量等四个因素的... Lu_2SiO_5:Ce^(3+)薄膜具有高光产额、快衰减时间、高密度、高空间分辨率等优点,有望成为X射线探测中的闪烁材料,但制备高质量的薄膜面临挑战。本工作采用溶胶凝–胶法,通过对制备过程中水硅比、烧结程序、胶黏剂和固含量等四个因素的系统研究与分析,结果表明:在空气湿度为85%,溶胶水硅比为6.6条件下,适量添加PEG400,采用优化后最佳固含量,从450℃开始进行烧结程序后退火,可制备出具有透明、平整、无裂痕的高质量Lu_2SiO_5:Ce^(3+)闪烁薄膜,单次旋涂获得的膜厚达到167 nm。实验表明水含量是引起薄膜发白的主要因素;烧结程序决定了薄膜的有机物分解程度及结晶状况;溶胶固含量及胶黏剂含量是调控薄膜厚度的重要方法。本工作为Lu_2SiO_5:Ce^(3+)闪烁薄膜的实际应用奠定了基础。 展开更多
关键词 lu2sio5:ce^3%PluS%薄膜 水硅比 烧结程序 胶黏剂 固含量 发光性能
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Czochralski法生长Lu_2SiO_5:Ce晶体的发光特性(英文) 被引量:1
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作者 任国浩 秦来顺 +1 位作者 陆晟 李焕英 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期520-523,共4页
本文使用铱坩埚感应加热Czochralski法成功地生长出了无色透明且尺寸达5 0mm× 6 0mm的Lu2 SiO5:Ce晶体。XRD结构分析表明 ,该晶体为单斜结构。在室温下分别以X射线和紫外光为激发源测量了该晶体的发射光谱 ,获得的发射波长分别为... 本文使用铱坩埚感应加热Czochralski法成功地生长出了无色透明且尺寸达5 0mm× 6 0mm的Lu2 SiO5:Ce晶体。XRD结构分析表明 ,该晶体为单斜结构。在室温下分别以X射线和紫外光为激发源测量了该晶体的发射光谱 ,获得的发射波长分别为 4 0 3nm和 4 2 0nm ,光衰减时间为 4 1ns,光产额达 32 0 0 0p/MeV。发射光谱的双峰结构以及晶体的发光特性证明其发光源于Ce3 + 离子的 5d1→5F5/ 2 和 5d1→5F7/ 2 跃迁。 展开更多
关键词 Czochralski法 lu2sio5:ce晶体 晶体生长 发光特性 硅酸镥
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Tb∶Lu_2SiO_5光学薄膜的结构演变和发光性能
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作者 孙智 谢建军 +2 位作者 王宇 施鹰 雷芳 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第11期2561-2566,共6页
采用溶胶-凝胶法结合旋涂工艺在单晶硅(111)上制备了Tb^(3+)离子不同掺杂浓度的硅酸镥光学薄膜(Tb∶Lu_2SiO_5),利用热重差热分析(TG-DSC)、X射线衍射(XRD)、傅里叶红外光谱仪(FTIR)、原子力显微镜(AFM)和紫外可见荧光光谱(PL)对Tb∶Lu_... 采用溶胶-凝胶法结合旋涂工艺在单晶硅(111)上制备了Tb^(3+)离子不同掺杂浓度的硅酸镥光学薄膜(Tb∶Lu_2SiO_5),利用热重差热分析(TG-DSC)、X射线衍射(XRD)、傅里叶红外光谱仪(FTIR)、原子力显微镜(AFM)和紫外可见荧光光谱(PL)对Tb∶Lu_2SiO_5薄膜的不同温度热处理的结构演变和发光性能进行了表征。研究结果表明Tb∶Lu_2SiO_5光学薄膜表面均匀、平整、无裂纹,薄膜样品从800℃开始晶华,1100℃时晶化完全。Tb∶Lu_2SiO_5的发光性能表现为Tb^(3+)离子的4f→5d和5D4(5D3)→7FJ(J=6,5,4,3)跃迁结果(监测波长分别为480~650 nm和350~470 nm),激发主峰位于~240 nm,发射光谱主峰为542 nm的绿光发射。研究表明Tb^(3+)掺杂浓度对Tb∶Lu_2SiO_5光学薄膜的发光强度会产生明显影响,掺杂15mol%的Tb^(3+)时,Tb∶Lu_2SiO_5薄膜的发光强度最强。 展开更多
关键词 SOL-GEL法 Tb∶lu2sio5光学薄膜 结构演变 发光性能
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Lu_2SiO_5∶Ce荧光粉的热释光特性研究
5
作者 吴飞 刘小林 +3 位作者 顾牡 倪晨 黄世明 刘波 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期411-414,共4页
采用溶胶-凝胶(Sol-Gel)技术,分别在空气中和石墨提供的弱还原气氛下制备出Lu2SiO5∶Ce0.006荧光粉。通过分析样品的结构,光致激发、发射谱和热释光谱等特性,发现弱还原气氛下制备的样品不仅光致发光强度比空气中的强,而且热释光曲线中5... 采用溶胶-凝胶(Sol-Gel)技术,分别在空气中和石墨提供的弱还原气氛下制备出Lu2SiO5∶Ce0.006荧光粉。通过分析样品的结构,光致激发、发射谱和热释光谱等特性,发现弱还原气氛下制备的样品不仅光致发光强度比空气中的强,而且热释光曲线中598K处的高温热释光峰也得到了抑制。进一步考察空气中制备的Lu2SiO5∶Ce0.006,Kx(x=0.01~0.08)荧光粉,结果表明就光致发光和热释光特性而言,K+共掺杂具有与还原气氛类似的作用。综合以上两方面分析结果,可认为598K处热释光峰是由与Ce4+相关的缺陷引起的,并对K+共掺杂LSO∶Ce发光增强的原因给出了合理解释。 展开更多
关键词 lu2sio5∶ce荧光粉 K%PluS%共掺杂 光致发光 热释光谱 ce4%PluS%缺陷
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Judd-Ofelt analysis of spectra and experimental evaluation of laser performance of Tm^(3+) doped Lu_2SiO_5 crystal
6
作者 姚宝权 郑亮亮 +2 位作者 段小明 赵广军 宗艳花 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第10期3635-3639,共5页
This paper reports that the Tm^3+:Lu2SiO5 (Tm:LSO) crystal is grown by Czochralski technique. The roomtemperature absorption spectra of Tm:LSO crystal are measured on a b-cut sample with 4 at.% thulium. Accordin... This paper reports that the Tm^3+:Lu2SiO5 (Tm:LSO) crystal is grown by Czochralski technique. The roomtemperature absorption spectra of Tm:LSO crystal are measured on a b-cut sample with 4 at.% thulium. According to the obtained Judd-Ofelt intensity parameters Ω2=9.3155×10^-20 cm^2, Ω4=8.4103×10^-20 cm^2, Ω6=1.5908×10^-20 cm^2, the fluorescence lifetime is calculated to be 2.03 ms for ^3F4 → ^3H6 transition, and the integrated emission cross section is 5.81×10^-18 cm^2. Room-temperature laser action near 2μm under diode pumping is experimentally evaluated in Tm:LSO. An optical-optical conversion efficiency of 9.1% and a slope efficiency of 16.2% are obtained with continuouswave maximum output power of 0.67 W. The emission wavelengths of Tm:LSO laser are centred around 2.06μm with spectral bandwidth of -13.6 nm. 展开更多
关键词 Tm:lu2sio5 Judd-Ofelt analysis solid-state lasers DIODE-PUMPED
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溶胶-凝胶法制备SiO_2-P_2O_5-TiO_2电解质薄膜 被引量:2
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作者 王飞 吕成业 +2 位作者 耿浩然 张蕾 李永生 《济南大学学报(自然科学版)》 CAS 2007年第3期282-282,共1页
溶胶-凝胶法制备的SiO2-P2O5-TiO2电解质薄膜,具有较高的质子电导率和化学稳定性。测定不同组分电解质薄膜的质子电导率,发现随着温度的上升,质子电导率呈上升趋势。其原因为随着温度的升高,附着水排出和羟基结构的缩合。
关键词 溶胶-凝胶法 sio2-P2O5-TiO2电解质薄膜 质子 电导率
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溶胶-凝胶法制备Eu∶Lu2SiO5粉体及其在煅烧过程中的相转变研究
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作者 杨熠 杨磊 +1 位作者 陈艳林 严明 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第2期273-277,共5页
通过溶胶凝胶法制备Lu_2SiO_5(LSO)干凝胶前驱体,对其进行综合热分析(TG-DSC),TG曲线在400℃后趋于平缓,DSC曲线在402.8℃和1049.9℃的放热峰分别对应着LSO粉体的结晶开始温度与晶型转变点。干凝胶在900℃、1000℃、1100℃、1200℃下煅... 通过溶胶凝胶法制备Lu_2SiO_5(LSO)干凝胶前驱体,对其进行综合热分析(TG-DSC),TG曲线在400℃后趋于平缓,DSC曲线在402.8℃和1049.9℃的放热峰分别对应着LSO粉体的结晶开始温度与晶型转变点。干凝胶在900℃、1000℃、1100℃、1200℃下煅烧2 h,X射线衍射图谱(XRD)显示,900℃煅烧2 h,产物结晶不完全,还存在大量的非晶相,但已有A-LSO相的特征衍射峰出现;1000℃煅烧2 h,粉体完全结晶生成A-LSO相,1100℃煅烧后粉体呈B-LSO相,晶型转变点为1050℃左右,结果与DSC曲线中1049.9℃处的焓变峰值相对应。A、B两相颗粒形貌存在明显差别,粉体颗粒尺寸都在400~500 nm。粉体发射光谱在595 nm,617 nm,707 nm处存在发射峰,分别对应Eu^(3+)的~5D_0→~7F_1,~5D_0→~7F_2,~5D_0→~7F_4跃迁,发光强度随着Eu^(3+)掺杂浓度升高先增强后降低,掺杂浓度为5%左右时,发光强度达到最大值。 展开更多
关键词 晶型转变 lu2sio5粉体 溶胶凝胶法
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可见光响应Pr^3+:Y2SiO5/TiO2薄膜的制备
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作者 王亚淼 徐萌川 +3 位作者 杨毅 焦岩 刘颖 颜学武 《装备环境工程》 CAS 2016年第6期1-4,共4页
目的研究层涂法制备Pr^(3+):Y_2SiO_5/TiO_2复合薄膜的结构与可见光催化性能。方法分别以钛酸丁酯(TBOT)和正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,通过溶胶-凝胶法制得TiO_2凝胶和Pr掺杂的Y_2SiO_5凝胶,以碳纤维为薄膜载体,并通过浸渍提拉法制备Pr^(... 目的研究层涂法制备Pr^(3+):Y_2SiO_5/TiO_2复合薄膜的结构与可见光催化性能。方法分别以钛酸丁酯(TBOT)和正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,通过溶胶-凝胶法制得TiO_2凝胶和Pr掺杂的Y_2SiO_5凝胶,以碳纤维为薄膜载体,并通过浸渍提拉法制备Pr^(3+):Y_2SiO_5/TiO_2层涂薄膜,研究层涂法制备复合薄膜对复合薄膜结构、形貌以及光催化效果的影响。结果复合薄膜具有明显的分层界限,形貌较平整,有较少龟裂;复合薄膜性能受涂覆次序的影响较大。结论依次将Pr^(3+):Y_2SiO_5和TiO_2涂覆在碳纤维上的复合薄膜具有较好的光催化性能,可见光光照2 h,对亚甲基蓝的脱色率达到94%,其可见光催化效率高于TiO_2薄膜的59%。 展开更多
关键词 Pr3%PluS%:Y2sio5/TiO2 复合薄膜 溶胶-凝胶 可见光催化 亚甲基蓝降解
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Eu^(3+)掺杂Lu_2SiO_5发光粉体的制备及发光性能
10
作者 杨磊 杨熠 +1 位作者 陈诗怡 严明 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2018年第4期40-43,47,共5页
分别采用尿素辅助共沉淀法和溶胶凝胶法制备Eu^(3+)掺杂Lu_2SiO_5(Lu_2SiO_5∶Eu^(3+))粉体,对比分析了煅烧温度对粉体物相组成和微观形貌的影响以及Eu^(3+)掺杂量对粉体发光性能的影响.结果表明:两种方法均可制得纯度较高的Lu_2SiO_5粉... 分别采用尿素辅助共沉淀法和溶胶凝胶法制备Eu^(3+)掺杂Lu_2SiO_5(Lu_2SiO_5∶Eu^(3+))粉体,对比分析了煅烧温度对粉体物相组成和微观形貌的影响以及Eu^(3+)掺杂量对粉体发光性能的影响.结果表明:两种方法均可制得纯度较高的Lu_2SiO_5粉体,但溶胶凝胶法可以得到单相纯Lu_2SiO_5粉体,而尿素辅助共沉淀法所得粉体中含有少量Lu2O3杂质相;溶胶凝胶法所得粉体的粒径为200~300nm,且粉体颗粒的表面比尿素辅助共沉淀法制得的粗糙;当Eu^(3+)掺杂量(物质的量分数)为5%时,两种方法所得Lu_2SiO_5∶Eu^(3+)粉体的发光强度均达到最大,且溶胶凝胶法所得Lu_2SiO_5∶Eu^(3+)粉体的发光强度更高. 展开更多
关键词 lu2sio5:Eu3%PluS%粉体 尿素共沉淀法 溶胶凝胶法 闪烁陶瓷
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退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构和应力特性的影响 被引量:7
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作者 刘保剑 段微波 +4 位作者 李大琪 余德明 陈刚 王天洪 刘定权 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第11期172-178,共7页
介质膜反射镜是星载激光测高仪系统中不可缺少的薄膜元件,其面形质量直接影响探测系统测距的分辨率和精度.本文采用离子束辅助电子束蒸发工艺在石英基底上沉积Ta2O5/SiO2多层反射膜,并在200—600℃的空气中做退火处理.通过X射线衍射、... 介质膜反射镜是星载激光测高仪系统中不可缺少的薄膜元件,其面形质量直接影响探测系统测距的分辨率和精度.本文采用离子束辅助电子束蒸发工艺在石英基底上沉积Ta2O5/SiO2多层反射膜,并在200—600℃的空气中做退火处理.通过X射线衍射、原子力显微镜、分光光度计及激光干涉仪等测试手段,系统研究了退火温度对Ta2O5/SiO2多层反射膜结构、光学性能以及应力特性的影响.结果表明:Ta2O5/SiO2多层反射膜退火后,膜层结构保持稳定,膜层表面粗糙度得到有效改善;反射膜在500—600℃退火后,残余应力由压应力向张应力转变;采用合适的退火温度可以有效释放Ta2O5/SiO2薄膜的残余应力,使薄膜与基底构成的介质膜反射镜具有较好的面形精度.本文的实验结果对退火工艺在介质膜反射镜面形控制技术方面的应用具有重要意义. 展开更多
关键词 光学薄膜 Ta2O5/sio2多层反射膜 退火 应力特性
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稀土Nd,Ce掺杂硅基薄膜光致发光特性 被引量:2
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作者 元美玲 刘南生 +2 位作者 王水凤 曾宇昕 汪庆年 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期291-295,共5页
测量了Nd ,Ce稀土离子注入Si基晶片 ,在不同离子注入剂量、不同退火条件下的室温光致发光 (PL)谱 ,结果表明它们均具有蓝、紫发光峰 ,且发光稳定。在一定范围内发光效率随掺杂浓度的增加而增大 ,随退火条件的不同而改变。运用原子力显微... 测量了Nd ,Ce稀土离子注入Si基晶片 ,在不同离子注入剂量、不同退火条件下的室温光致发光 (PL)谱 ,结果表明它们均具有蓝、紫发光峰 ,且发光稳定。在一定范围内发光效率随掺杂浓度的增加而增大 ,随退火条件的不同而改变。运用原子力显微镜 (AFM )对样品的表面形貌进行了观察 ,结果显示 ,样品表面颗粒大小、粗糙度将影响其发光效率。表面颗粒大小均匀 ,均方根粗糙度小的样品发光效率较高。通过对样品的卢瑟福背散射 (RBS)能谱测量 ,对样品的表面结构进行了探讨 ,并讨论了表面结构与光致发光特性之间的联系。对样品的发光机理作了初步探讨。 展开更多
关键词 ce掺杂 硅基薄膜 光致发光特性 稀土掺杂 离子注入 sio2薄膜 表面形貌 表面结构 钕掺杂 铈掺杂 ND掺杂 硅基发光二极管
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Exploring the energy transfer processes in Lu2(1-x)Y2xSiO5:Ce crystals 被引量:3
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作者 Tiantian Wang Dongzhou Ding +2 位作者 Xiaopu Chen Wei Hou Junjie Shi 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第7期685-689,共5页
A systematical exploration of energy transfer processes in Lu2(1-x)Y2xSiO5:Ce(LYSO) crystals under vacuum ultraviolet-ultraviolet(VUV-UV) excitation was implemented. The relationship between energy transfer and... A systematical exploration of energy transfer processes in Lu2(1-x)Y2xSiO5:Ce(LYSO) crystals under vacuum ultraviolet-ultraviolet(VUV-UV) excitation was implemented. The relationship between energy transfer and scintillation properties was established. It is revealed that there are mainly three energy transfer types in the crystal i.e. host → Ce1/Ce2/STEs, Ce1 →Ce2 and STEs → Ce1/Ce2. The influence of Y content of the LYSO crystals on the energy transfer efficiency of the above processes was carefully analyzed. Besides, we find a special component of the crystal i.e. Y content = 45 at% at which the energy resolution and light output of the crystal perform the worst. 展开更多
关键词 lu2(1-x)Y2xsio5 ce Energy transfer ce1 ce2 Self-trapped excitons Rare earths
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光谱法确定离子束溅射Ta_2O_5/SiO_2薄膜的光学常数及其性能 被引量:7
14
作者 尚鹏 熊胜明 +1 位作者 李凌辉 田东 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期298-304,共7页
采用双离子溅射的方法,在硅、石英基底上制备了单层Ta2O5、SiO2及双层Ta2O5/SiO2光学薄膜。结合Cauchy色散模型,利用石英基底上单层Ta2O5及双层Ta2O5/SiO2薄膜透射光谱曲线,采用改进的遗传单纯形混合算法,获得了Ta2O5和SiO2薄膜材料在40... 采用双离子溅射的方法,在硅、石英基底上制备了单层Ta2O5、SiO2及双层Ta2O5/SiO2光学薄膜。结合Cauchy色散模型,利用石英基底上单层Ta2O5及双层Ta2O5/SiO2薄膜透射光谱曲线,采用改进的遗传单纯形混合算法,获得了Ta2O5和SiO2薄膜材料在400-700nm波段的光学常数。结果表明,理论分析值与实验测量值取得了很好的一致性,拟合出的单层Ta2O5薄膜折射率误差小于0.001,膜层厚度误差不超过1nm;双层Ta2O5/SiO2薄膜最大折射率误差小于0.004,最大厚度误差小于2.5nm。此外,还对400℃高温环境下双层Ta2O5/SiO2薄膜的微观结构、应力、表面形貌及光学性能变化进行了研究。 展开更多
关键词 薄膜 光学常数 透射光谱 Ta2O5/sio2
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离子束溅射制备氧化物薄膜沉积速率调整方法 被引量:3
15
作者 刘华松 傅翾 +7 位作者 季一勤 张锋 陈德应 姜玉刚 刘丹丹 王利栓 冷健 庄克文 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第7期2192-2197,共6页
采用正交试验设计方法,系统研究了离子束溅射HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜的沉积速率与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。采用正交表L9(34)设计了9组实验,采用时间监控的离子束溅射沉积方法,分别制备HfO2、Ta2O... 采用正交试验设计方法,系统研究了离子束溅射HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜的沉积速率与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。采用正交表L9(34)设计了9组实验,采用时间监控的离子束溅射沉积方法,分别制备HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜,并对三种薄膜的27个样品采用椭圆偏振法测量并计算物理厚度,继而获得沉积速率。实验结果表明:对Ta2O5和SiO2薄膜沉积速率影响的工艺参数相同,影响权重从大到小依次为离子束流、离子束压、氧气流量和基板温度;对HfO2薄膜沉积速率影响的工艺参数按权重从大到小依次为离子束流、离子束压、基板温度和氧气流量。研究结果为调整HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜沉积速率提供了依据。 展开更多
关键词 离子束溅射 HFO2薄膜 Ta2O5薄膜 sio2薄膜 沉积速率
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Lu-Si-O体系在高温水蒸气环境中的腐蚀行为 被引量:1
16
作者 洪智亮 成来飞 +2 位作者 鲁琳静 张立同 王一光 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期186-190,共5页
采用溶胶-凝胶法制得三种镥硅酸盐体系粉体材料.以氧化物的摩尔比来表示此三种粉体,分别为:Lu2O3.SiO2、Lu2O3.2SiO2和Lu2O3.2.26SiO2.在1400℃、50%H2O-50%O2静态常压气氛下,研究了它们的耐水蒸气腐蚀性能.以单位面积重量变化率表征材... 采用溶胶-凝胶法制得三种镥硅酸盐体系粉体材料.以氧化物的摩尔比来表示此三种粉体,分别为:Lu2O3.SiO2、Lu2O3.2SiO2和Lu2O3.2.26SiO2.在1400℃、50%H2O-50%O2静态常压气氛下,研究了它们的耐水蒸气腐蚀性能.以单位面积重量变化率表征材料的耐水蒸气腐蚀性能,结合X射线衍射(XRD)、傅里叶红外光谱(FTIR)和扫描电镜能谱分析(SEM-EDS)等分析手段,揭示了镥硅酸盐体系在高温水蒸气环境中的腐蚀机制和反应机理.结果表明:三种原始粉体主要物相依次为:Lu2SiO5+Lu2Si2O7、Lu2Si2O7+SiO2和Lu2Si2O7+SiO2.在水蒸气作用下,Lu2SiO5相与Al2O3反应生成新相Lu3Al5O12,而Lu2Si2O7相并未受到水蒸气的作用而发生任何反应,表现出优异的化学稳定性. 展开更多
关键词 lu2sio5 lu2Si2O7 环境障碍涂层 水蒸气腐蚀
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Comparison of energy structure and spectral properties of Ce:LaAlO_3 and Ce:Lu_2(SiO_4)O
17
作者 WANG XiaoDan 1 ,PAN Tao 1 ,ZANG TaoCheng 1 ,LI JianKang 1 ,ZHAO ZhiWei 2 ,ZHANG LianHan 2 &XU Jun3 1Department of Applied Physics,University of Science and Technology of Suzhou,Suzhou 215009,China 2Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences,Shanghai 201800,China 3Shanghai Institute of Ceramics,Chinese Academy of Sciences,Shanghai 201800,China 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2009年第12期3678-3682,共5页
Undoped LaAlO3 and 1 at.%Ce:LaAlO3 single crystals were grown by the Czochralski process.Absorption and fluorescence spectra were measured at room temperature.Detailed energy levels structure of Ce:LaAlO3 was determin... Undoped LaAlO3 and 1 at.%Ce:LaAlO3 single crystals were grown by the Czochralski process.Absorption and fluorescence spectra were measured at room temperature.Detailed energy levels structure of Ce:LaAlO3 was determined.In this paper,two viewpoints were provided.The first one is:the energy levels structure of Ce:LaAlO3 is very similar to that of Ce:Lu2(SiO4)O which is a well-known scintillator.In the energy levels structure of Ce:LaAlO3 and Ce:Lu2(SiO4)O,the lowest 5d energy level of Ce 3+ is located below the bottom of the conduction band of host crystal and the other higher 5d energy levels of Ce 3+ are located above the bottom of the conduction band of host crystal.The second one is:Ce:LaAlO3 single crystal may not be suitable for scintillation application;by comparing the energy levels structures of Ce:LaAlO3 and Ce:Lu2(SiO4)O,the large energy difference(1.13 eV)between the two lowest 5d energy levels of Ce 3+ in LaAlO3 is a crucial factor that causes the luminescence quenching. 展开更多
关键词 ce:LaAlO3 ce:lu2(sio4)O energy-level ABSORPTION luMINESceNce
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电容触摸屏ITO消影膜的设计与制备 被引量:5
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作者 黄翀 李成 +2 位作者 杨玮枫 欧阳艳东 吴永俊 《光电子技术》 北大核心 2014年第4期269-272,277,共5页
设计光学薄膜改善ITO图案,匹配出各个膜层合适的物理厚度,采用直流磁控溅射和双靶中频反应磁控溅射制备ITO消影膜。经过对样品的测试和实际效果对比,证明了所设计的ITO消影膜不仅能有效改善ITO图案明显的问题,在可见光范围内还可以使透... 设计光学薄膜改善ITO图案,匹配出各个膜层合适的物理厚度,采用直流磁控溅射和双靶中频反应磁控溅射制备ITO消影膜。经过对样品的测试和实际效果对比,证明了所设计的ITO消影膜不仅能有效改善ITO图案明显的问题,在可见光范围内还可以使透过率变均匀,提高显示效果。 展开更多
关键词 ITO玻璃 反射率 消影膜 Nb2O5|sio2光学薄膜
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硅酸镥单晶体生长方法研究 被引量:1
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作者 周文平 牛微 +3 位作者 刘旭东 唐坚 毕孝国 孙旭东 《沈阳工程学院学报(自然科学版)》 2015年第1期86-89,共4页
结合掺铈硅酸镥(Ce:Lu2SiO5)粉体的组成与性能特点、提拉法和焰熔法晶体生长工艺异同,讨论了目前使用提拉法生长掺铈硅酸镥单晶体存在的坩埚溶蚀、组分挥发、杂质浸入、闪烁性能不稳定等问题和原因,提出使用焰熔法生长Ce:Lu2SiO5单晶体... 结合掺铈硅酸镥(Ce:Lu2SiO5)粉体的组成与性能特点、提拉法和焰熔法晶体生长工艺异同,讨论了目前使用提拉法生长掺铈硅酸镥单晶体存在的坩埚溶蚀、组分挥发、杂质浸入、闪烁性能不稳定等问题和原因,提出使用焰熔法生长Ce:Lu2SiO5单晶体可以有效解决这些问题,给Ce:Lu2SiO5单晶体的生长提供了一个新的研究方向。 展开更多
关键词 掺铈硅酸镥单晶体(ce:lu2sio ) 提拉法 焰熔法
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Pulling growth technique towards rare earth single crystals 被引量:10
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作者 SUN CongTing XUE DongFeng 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第9期1295-1300,共6页
Pulling growth technique serves as a popular method to grow congruent melting single crystals with multiscale sizes ranging from micrometers to centimeters.In order to obtain high quality single crystals,the crystal c... Pulling growth technique serves as a popular method to grow congruent melting single crystals with multiscale sizes ranging from micrometers to centimeters.In order to obtain high quality single crystals,the crystal constituents would be arranged at the lattice sites by precisely controlling the crystal growth process.Growing interface is the position where the phase transition of crystal constituents occurs during pulling growth process.The precise control of energy at the growing interface becomes a key technique in pulling growth.In this work,we review some recent advances of pulling technique towards rare earth single crystal growth.In Czochralski pulling growth,the optimized growth parameters were designed for rare earth ions doped Y_3Al_5O_(12)and Ce:(Lu_(1-x)Y_x)_2Si O_5on the basis of anisotropic chemical bonding and isotropic mass transfer calculations at the growing interface.The fast growth of high quality rare earth single crystals is realized by controlling crystallization thermodynamics and kinetics in different size zones.On the other hand,the micro pulling down technique can be used for high throughput screening novel rare earth optical crystals.The growth interface control is realized by improving the crucible bottom and temperature field,which favors the growth of rare earth crystal fibers.The rare earth laser crystal fiber can serve as another kind of laser gain medium between conventional bulk single crystal and glass fiber.The future work on pulling technique might focus on the mass production of rare earth single crystals with extreme size and with the size near that of devices. 展开更多
关键词 pulling growth technique rare earth single crystals Czochralski pulling growth micro pulling down growth Y3Al5O12 ce:(lu1-xYx)2sio5 chemical bonding theory of single crystal growth
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