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深浮雕连续微光学元件制作方法(英文) 被引量：6
1
作者 曾红军 陈波 +4 位作者 郭履容 杜春雷 邱传凯 王永茹 潘丽 《光电工程》 EI CAS CSCD 2000年第4期1-6,共6页
提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考... 提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考察和讨论 ,并以微棱镜为例进行了实验验证 ,为进一步制作大数值孔径连续表面微光学元件打下了技术基础。 展开更多
关键词 微光学元件 蚀刻 连续深浮雕
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一种控制明胶材料微浮雕结构线性蚀刻深度的新方法 被引量：1
2
作者 董小春 杜春雷 +3 位作者 陈波 潘丽 王永茹 刘强 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第8期1006-1009,共4页
提出了一种用于扩展固定配方明胶版蚀刻范围的新方法—预曝光蚀刻法 ( for-exposuremothod) ,并通过对光刻过程中各参量的控制 ,最终实现了用固定配方明胶版对多种不同线性深度微浮雕透镜列阵的蚀刻 ,该方法在蚀刻范围、蚀刻效果等方面... 提出了一种用于扩展固定配方明胶版蚀刻范围的新方法—预曝光蚀刻法 ( for-exposuremothod) ,并通过对光刻过程中各参量的控制 ,最终实现了用固定配方明胶版对多种不同线性深度微浮雕透镜列阵的蚀刻 ,该方法在蚀刻范围、蚀刻效果等方面都大大地优于传统的蚀刻方法 .本文通过对比预曝光蚀刻法与常用的几种蚀刻方法 ,详尽的阐述了预曝光蚀刻法的原理及优点 ,为深浮雕光刻工艺的进一步发展奠定了基础 . 展开更多
关键词 连续深浮雕微透镜列阵 预曝光蚀刻法 线性深度 线性面形 深浮雕光刻工艺 明胶材料 微光学元件
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