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ULSI硅衬底片清洗技术的分析研究
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作者 檀柏梅 刘玉岭 +1 位作者 李薇薇 张楷亮 《洗净技术》 2003年第2期4-8,共5页
本文阐述了ULSI硅衬底片清洗的重要性,介绍了目前世界上采用的各种清洗方法(湿法、干法、超声、激光等)的概况,并通过理论分析及清洗实验研究找出适用于工业规模应用的硅片清洗液和清洗技术。
关键词 ULSI 衬底单晶片 清洗方法 表面活性剂 兆声清洗
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