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半球形基底镀膜膜厚均匀性理论分析 被引量：13
1
作者 吴伟 王济洲 +2 位作者 熊玉卿 王多书 冯煜东 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期320-324,共5页
对特殊的非平面基片-半球表面上镀制薄膜的膜厚均匀性进行了理论分析研究。首先,推导了半球面静止时球面各点的膜厚方程以及此时半球面能够镀膜的区域。然后推算了半球表面沿通过球心竖直方向的轴转动后球面各位置处的膜厚方程,另外当... 对特殊的非平面基片-半球表面上镀制薄膜的膜厚均匀性进行了理论分析研究。首先,推导了半球面静止时球面各点的膜厚方程以及此时半球面能够镀膜的区域。然后推算了半球表面沿通过球心竖直方向的轴转动后球面各位置处的膜厚方程,另外当蒸发源与球心的水平距离小于半球面半径时,存在一定区域无法镀膜,对该区域进行了理论计算。最后通过计算相对膜厚分析了半球表面膜层厚度分布情况。选择合适的蒸发源与基底间的几何配置可获得小范围内相对较为均匀的镀膜区域。该研究工作对半球面这种复杂的非平面基片上镀膜膜厚均匀性研究工作具有理论指导意义,同时对改善此种表面上的膜厚分布研究提供了相关的理论依据。 展开更多
关键词 膜厚均匀性 半球形基底 真空镀膜 理论分析
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离子束溅射淀积光学薄膜的膜厚均匀性实验 被引量：6
2
作者 李凌辉 熊胜明 +2 位作者 申林 刘洪祥 张云洞 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2004年第B12期67-69,72,共4页
介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法。研究了修正板技术,根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均匀性修正。分别研究了靶摆动和不摆动的情况下,淀积薄膜的均匀性修正。实验结果表明,修正后的均匀性结... 介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法。研究了修正板技术,根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均匀性修正。分别研究了靶摆动和不摆动的情况下,淀积薄膜的均匀性修正。实验结果表明,修正后的均匀性结果优于 1%,能满足实际应用的要求;靶摆动修正的均匀性结果优于修正板技术。 展开更多
关键词 离子束溅射 Ta2O5薄膜 膜厚均匀性 修正板
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椭球反射镜膜厚均匀性与工艺技术的探讨 被引量：2
3
作者 高丽峰 熊胜明 +2 位作者 张云洞 黄伟 叶红伟 《光电工程》 CAS CSCD 2000年第5期69-72,共4页
讨论了深紫外曝光系统中椭球反射镜镀制装置在薄膜沉积中的镀制条件对膜厚和膜厚均匀性的影响 ,计算了椭球镜的膜厚均匀性并对如何改善椭球镜膜厚分布作了介绍 ,实验得到均匀性符合要求的反射镜。
关键词 椭球反射镜 膜厚均匀性 镀膜技术 薄膜 曝光系统
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多工位磁控溅射镀膜系统膜厚均匀性的研究 被引量：2
4
作者 王涛 于贺 +2 位作者 吴志明 蒋亚东 董翔 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期218-222,共5页
本文建立了多工位公自转磁控溅射系统镀膜过程的物理模型,通过把基片运动与镀膜过程的模拟结合在一起,运用时间步长划分的算法仿真公自转系统下矩形靶沉积的三维膜厚分布,并使用同样的方法计算纯自转磁控溅射系统沉积薄膜的厚度分布,最... 本文建立了多工位公自转磁控溅射系统镀膜过程的物理模型,通过把基片运动与镀膜过程的模拟结合在一起,运用时间步长划分的算法仿真公自转系统下矩形靶沉积的三维膜厚分布,并使用同样的方法计算纯自转磁控溅射系统沉积薄膜的厚度分布,最后将两个结果进行对比。研究表明,随着自转与公转速度比例的调节,公自转系统在最优转速比0.5时所制得的薄膜厚度均匀性较纯自转系统得到明显地改善,此结论与实验结果保持一致。 展开更多
关键词 磁控溅射 转速比 膜厚均匀性
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用EA-CVD方法制备的大尺寸金刚石厚膜的品质和膜厚均匀性的研究 被引量：3
5
作者 吕宪义 金曾孙 杨广亮 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期270-273,共4页
根据金刚石厚膜的实际应用要求,建立了EA-CVD(E lectron Assisted Chem ical Vapor Deposition)方法,制备出直径为80mm,膜厚为1mm以上的大尺寸高品质的均匀金刚石厚膜,其膜厚不均匀性小于5%,热导率不均匀性小于10%,膜片中部和边缘磨耗... 根据金刚石厚膜的实际应用要求,建立了EA-CVD(E lectron Assisted Chem ical Vapor Deposition)方法,制备出直径为80mm,膜厚为1mm以上的大尺寸高品质的均匀金刚石厚膜,其膜厚不均匀性小于5%,热导率不均匀性小于10%,膜片中部和边缘磨耗比基本相同,大约在1.5×105左右。同时研究了制备参数对膜的品质和膜厚均匀性的影响。结果表明:甲烷浓度、工作气压、偏流、灯丝与基片间距等参数对金刚石厚膜的品质和膜厚均匀性都产生影响。辉光等离子体的状态对膜的均匀生长作用明显,较低的工作气压,较大的偏流和较大的灯丝与基片间距有利于气体分解和辉光等离子体的发散,从而导致大面积金刚石厚膜不同位置的品质和膜厚趋于均匀。 展开更多
关键词 EA—CVD 金刚石厚膜 品质和膜厚均匀性
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真空镀膜中膜厚均匀性的研究 被引量：4
6
作者 穆长生 张辉军 温殿忠 《传感器技术》 CSCD 北大核心 2002年第5期8-10,共3页
在半导体器件生产过程中 ,器件的引线大都是由蒸镀的方法来解决的。蒸镀不仅能制备引线 ,同时也是传感器件敏感膜制作的主要手段。但蒸镀中常常发现膜厚度不均匀 ,影响膜厚的因素很多 ,实际生产中 ,陪片由于与其它正片的几何位置不同 ,... 在半导体器件生产过程中 ,器件的引线大都是由蒸镀的方法来解决的。蒸镀不仅能制备引线 ,同时也是传感器件敏感膜制作的主要手段。但蒸镀中常常发现膜厚度不均匀 ,影响膜厚的因素很多 ,实际生产中 ,陪片由于与其它正片的几何位置不同 ,因此膜厚不同。其差别可达 1%～ 2 0 %,但在大量的文献分析及应用中被忽略。针对两种常见的蒸发源 ,通过理论计算与实验给出了陪片、基片与蒸发源的最佳位置 ,使误差可控制在 1%,甚至 0 .1%。 展开更多
关键词 真空镀膜 蒸发源位形 膜厚均匀性
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离子束刻蚀改善膜厚均匀性的研究(特邀) 被引量：2
7
作者 付秀华 王一博 +2 位作者 潘永刚 何云鹏 任海峰 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第9期51-62,共12页
为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性,用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性,用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度,并研究不同离子束密度对Ti_(3)O_(5)膜层均匀性的影响。采用电子束与离子辅助沉积技术在未安装修正挡板的三级公自转行... 为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性,用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性,用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度,并研究不同离子束密度对Ti_(3)O_(5)膜层均匀性的影响。采用电子束与离子辅助沉积技术在未安装修正挡板的三级公自转行星盘真空镀膜机进行实验,对测试结果用Optilayer进行膜厚拟合,并用Zygo干涉仪测量粗糙度,分析离子束刻蚀对透镜表面形貌的影响。结果表明通过离子束的刻蚀,可见光波段Ti_(3)O_(5)单层膜的均匀性为0.36%,粗糙度由0.036 nm变为0.037 nm。 展开更多
关键词 光学薄膜 膜厚均匀性 离子束刻蚀 三级公自转行星系统 光学透镜
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有限元法计算膜厚均匀性 被引量：6
8
作者 阴晓俊 费书国 +1 位作者 章月州 孔志坤 《光学仪器》 2001年第5期5-10,共6页
利用有限元法模拟计算了旋转平面夹具、旋转球面夹具、行星旋转球面夹具的膜厚均匀性 ,分析了均匀性的影响因素 。
关键词 膜厚均匀性 发射特性 蒸发源 旋转 倾斜 光学薄膜 有限元法
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大面积户外照明光学薄膜膜厚均匀性研究 被引量：3
9
作者 王小辉 卫红 +3 位作者 曹一鸣 刘志宇 盘巍 姬海峰 《光学仪器》 2006年第4期172-175,共4页
户外照明采用大面积光学薄膜,对薄膜均匀性提出较高的要求。采用平面公自转行星夹具镀制户外照明用大面积光学薄膜,分析计算了光学薄膜膜厚的均匀性,探讨各个参数对膜厚均匀性的影响,经测试分析,得到理论偏差和实际偏差结果。
关键词 光学薄膜 膜厚均匀性 户外照明 平面行星夹具
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小靶大基片镀膜的膜厚均匀性分析 被引量：1
10
作者 陈海峰 薛莹洁 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第2期108-112,共5页
目的通过改变传统基片与靶材的相对运动方式,来实现小靶材在大面积基片上的均匀镀膜。方法采用基片绕中心轴做匀速旋转运动,靶材沿着基片半径做直线间歇运动,并建立了相应的理论模型,通过数值分析软件MATLAB对膜厚进行分析拟合,研究靶... 目的通过改变传统基片与靶材的相对运动方式,来实现小靶材在大面积基片上的均匀镀膜。方法采用基片绕中心轴做匀速旋转运动,靶材沿着基片半径做直线间歇运动,并建立了相应的理论模型,通过数值分析软件MATLAB对膜厚进行分析拟合,研究靶基距、偏心距、靶材运动方式对膜层均匀度的影响。结果在靶基距H=30 mm时,膜厚均匀性主要受到两个重要参数的影响:靶材在各径向运动等距点的停顿时间T和移动步长d。与靶材在各径向运动等距点的停顿时间T=C(C为常数)的情况相比,当靶材的停顿时间T与其在基片上的覆盖面积A成正比增加时,膜厚的均匀性得到极大的改善。同时,膜厚的均匀性很大程度上取决于靶材的移动步长,膜层之间的差异性随着移动步长的减小而减小,结果显示当移动步长d=5mm时的膜厚均匀性最佳。改善基片中心附近的膜厚分布可以通过增加靶基距来实现,结果显示在偏心距e=0 mm、靶基距H≥70 mm时,膜厚相对偏差δ均小于0.1。结论该方法改变了传统靶材固定不动的方式,在薄膜沉积过程中,通过调节靶材的移动步长和停顿时间,能有效减小膜层之间的差异,从而获得均匀度较高的薄膜,对实际生产具有指导意义。 展开更多
关键词 磁控溅射 沉积速率 理论模型 膜厚均匀性 停顿时间 移动步长
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大口径超薄基板双面溅射膜厚均匀性研究 被引量：1
11
作者 付秀华 刘俊岐 +4 位作者 李卓霖 刘海成 任海峰 王一博 韩克旭 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第6期109-117,共9页
可见光高透射近红外高截止滤光片采用大口径超薄尺寸的玻璃作为基板,在两面同时沉积制备而成,因此对薄膜均匀性及成膜后基板面型有着较高的要求。以Nb/Si作为薄膜靶材,采用反应溅射镀膜的方法,从靶材磁场强度分布、公-自转系统、基板夹... 可见光高透射近红外高截止滤光片采用大口径超薄尺寸的玻璃作为基板,在两面同时沉积制备而成,因此对薄膜均匀性及成膜后基板面型有着较高的要求。以Nb/Si作为薄膜靶材,采用反应溅射镀膜的方法,从靶材磁场强度分布、公-自转系统、基板夹具遮挡角度三个方面分析膜厚均匀性的差异,采用对称膜系结构,实现红外截止滤光片上下表面薄膜应力平衡。最终制备的薄膜均匀性在300 mm范围内达到0.13%,基板翘曲度为0.085 mm,满足使用需求。 展开更多
关键词 光学薄膜 磁控溅射 膜厚均匀性 大口径超薄基板 红外截止滤光片
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车身电泳膜厚均匀性调试提升 被引量：1
12
作者 刘哲 潘明明 张佳朋 《汽车制造业》 2018年第19期62-64,共3页
电泳膜厚均匀性提升意味着在电泳最低膜厚不变的前提条件下,整车平均膜厚的降低。通过调整电泳温度、电泳电压等手段可使公司以较少的成本投入满足产品KPI品质需求。电泳涂装是带电荷的水溶性涂料粒子,在电场作用下,在相反电荷电极上沉... 电泳膜厚均匀性提升意味着在电泳最低膜厚不变的前提条件下,整车平均膜厚的降低。通过调整电泳温度、电泳电压等手段可使公司以较少的成本投入满足产品KPI品质需求。电泳涂装是带电荷的水溶性涂料粒子,在电场作用下,在相反电荷电极上沉积形成涂层的工艺。自20世纪60年代末,福特汽车公司建成世界上第一条汽车电泳涂装生产线以来,由于其无可比拟的高效、少污染等突出优点,使得电泳涂装广泛应用于汽车涂装线体。 展开更多
关键词 膜厚均匀性 电泳涂装 福特汽车公司 调试 车身 相反电荷 涂装生产线 品质需求
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基于卷对卷矩形靶的溅射膜厚均匀性控制
13
作者 黄云翔 温万昱 +3 位作者 孙佳伟 槐创锋 曾海峰 钟褔回 《华南理工大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第11期81-86,共6页
提出一种基于卷对卷矩形靶的溅射理论模型,借助Matlab模拟仿真软件,对卷绕柔性衬底(宽度为100 mm,弯曲半径为100 mm,弯曲角为80°)的膜厚均匀性进行分析.首先,在主辊静态条件下,改变靶材几何尺寸和靶基距,研究此时膜厚均匀性误差的... 提出一种基于卷对卷矩形靶的溅射理论模型,借助Matlab模拟仿真软件,对卷绕柔性衬底(宽度为100 mm,弯曲半径为100 mm,弯曲角为80°)的膜厚均匀性进行分析.首先,在主辊静态条件下,改变靶材几何尺寸和靶基距,研究此时膜厚均匀性误差的分布情况,发现:膜厚均匀性误差随着靶材几何尺寸的变大而整体减小;随着靶基距的增大,均匀性误差的中部先增大后减小,而两边一直减小.其次,在主辊动态条件下,固定靶材几何尺寸,仅改变靶基距,研究此时膜厚均匀性误差的分布规律,发现:随着靶基距的增大,膜厚均匀性误差先增大后减小.仿真实验结果还表明,动态膜厚均匀性误差位于静态膜厚均匀性误差分布曲线Max-Min的中部极值点与该分布曲线上参考点均值之间.通过对文中模型的仿真,可以较快地预测基于卷对卷矩形靶的动态膜厚均匀性误差范围,大大减少膜厚均匀性的实验调试次数. 展开更多
关键词 矩形靶 卷对卷 真空磁控溅射 膜厚均匀性 仿真
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2.4米主镜反射膜膜厚均匀性的优化设计
14
作者 陈鑑辉 伦宝利 秦松年 《天文研究与技术》 CSCD 2023年第5期463-470,共8页
膜厚均匀性是制备高性能光学薄膜的一项重要指标。为进一步提高2.4 m主镜反射膜膜厚均匀性,针对大口径望远镜镀膜设计了膜厚均匀性优化方案。基于真空热蒸发遵循的余弦分布律,结合ZZ3200型真空镀膜机的几何结构和望远镜镀膜的实际需求,... 膜厚均匀性是制备高性能光学薄膜的一项重要指标。为进一步提高2.4 m主镜反射膜膜厚均匀性,针对大口径望远镜镀膜设计了膜厚均匀性优化方案。基于真空热蒸发遵循的余弦分布律,结合ZZ3200型真空镀膜机的几何结构和望远镜镀膜的实际需求,编写膜厚计算程序,模拟膜厚理论分布情况,给出膜厚优化设计方法和优化结果。方法一:在蒸发源内侧合适的位置加入修正挡板,结果表明,挡板的曲率半径安装误差在3 mm以内,膜厚均匀性峰谷(Peak to Valley,PV)值由不加挡板时的15%下降到4%,该方法具有一定的普适性,但是挡板安装位置要精确控制;方法二:结合反射主镜中间的圆孔结构,设计双圈蒸发源,结果表明,当内外圈蒸发源的中心距分别为10 cm和130 cm,且满足外圈蒸发源的数量为内圈的12倍时,膜厚均匀性峰谷值为1.85%。该方法是针对中心具有圆孔镜面设计的,适用于大多数反射式天文望远镜镀膜。 展开更多
关键词 望远镜镀膜 膜厚均匀性 球面夹具 修正挡板
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热蒸镀镀膜机膜厚均匀性问题 被引量：1
15
作者 唐怡 魏明逊 《云南师范大学学报（自然科学版）》 1992年第1期18-22,共5页
本文依据L.Holland的膜厚公式和I.A.Neil的关手光学元件表面的数学表达式讨论了热蒸镀形镀膜机的膜厚均匀性,计算了平面、球面。高次曲面载盘的膜厚分布。关于载盘形状得出了一些有意义的结论。并特别地计算了DM450C镀膜机的膜厚均匀性。
关键词 热蒸镀 镀膜 膜厚均匀性 蒸发源
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离子束溅射Lan-WDM滤光膜膜厚均匀性的研究
16
作者 齐双阳 刘冬梅 +2 位作者 朱忠尧 张于帅 韩克旭 《长春理工大学学报（自然科学版）》 2023年第2期25-31,共7页
光通信Lan-WDM滤光膜采用离子束溅射(IBS)沉积制备时,由于膜厚分布不均匀会导致光谱中心波长的漂移,影响有效镀膜区域。分析了离子束溅射膜厚分布特点,根据Ove Lyngnes提出的膜厚均匀性修正模型,通过修正Mask挡板来改善Ta_(2)O_(5)、SiO... 光通信Lan-WDM滤光膜采用离子束溅射(IBS)沉积制备时,由于膜厚分布不均匀会导致光谱中心波长的漂移,影响有效镀膜区域。分析了离子束溅射膜厚分布特点,根据Ove Lyngnes提出的膜厚均匀性修正模型,通过修正Mask挡板来改善Ta_(2)O_(5)、SiO_(2)的膜厚均匀性。经过多次修正Mask实验,最终在12英寸的基板上,分别将Ta_(2)O_(5)和SiO_(2)的主Mask挡板在径向方向每一点膜厚均匀性修到小于0.1%;辅Mask挡板将内圈和外圈的膜厚均匀性修到大于1.5%,且呈线性关系。制备中心波长分别为1 295.56 nm、1 300.05 nm、1 304.58 nm、1 309.14 nm的Lan-WDM(细波分复用)滤光膜,测得光谱透射率有效镀膜区面积相比原来分别增大了2.01倍、2.20倍、2.25倍、2.04倍,提高了滤光膜的生产效率。 展开更多
关键词 薄膜 离子束溅射 膜厚均匀性 修正挡板 窄带滤光片
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提高产品横向膜厚均匀性的吹膜模头
17
《橡塑技术与装备》 CAS 2016年第18期80-81,共2页
本发明涉及一种提高产品横向膜厚均匀性的吹膜模头，属于塑料加工的技术领域，吹膜模头包括分流间隙、模唇间隙和阻流环，并且塑料熔体从分流间隙沿径向分流并经过模唇间隙轴向流出，
关键词 膜厚均匀性 模头 吹膜 产品 塑料加工 塑料熔体 间隙 分流
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磁控溅射沉积工艺条件对薄膜厚度均匀性的影响 被引量：22
18
作者 温培刚 颜悦 +1 位作者 张官理 望咏林 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 2007年第3期66-68,共3页
薄膜厚度均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标。在自行设计的磁控溅射沉积设备上,对薄膜沉积工艺中靶基间距、溅射功率、工作气压对膜厚均匀性的影响进行了研究,由连续光谱椭圆偏光仪SE800测量薄膜厚度。结果表明:靶基间... 薄膜厚度均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标。在自行设计的磁控溅射沉积设备上,对薄膜沉积工艺中靶基间距、溅射功率、工作气压对膜厚均匀性的影响进行了研究,由连续光谱椭圆偏光仪SE800测量薄膜厚度。结果表明:靶基间距较大的情况下,薄膜均匀性明显改善;溅射功率和工作气压对薄膜均匀性也有较大的影响。 展开更多
关键词 磁控溅射 膜厚均匀性 膜厚测量
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三级公自转行星系统中弯月透镜表面膜厚均匀性的研究 被引量：1
19
作者 张静 陈延涵 +7 位作者 朱忠尧 付秀华 张功 齐双阳 常艳贺 杨飞 金海俊 陆致远 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第10期256-264,共9页
为提高弯月透镜表面的膜厚均匀性,对三级公自转行星系统中弯月透镜表面进行了膜厚均匀性的研究。构建了三级公自转行星盘的运动轨迹方程,并根据膜厚计算公式,建立了与三级盘倾角、公转半径有关的弯月透镜表面相对膜厚分布模型,采用电子... 为提高弯月透镜表面的膜厚均匀性,对三级公自转行星系统中弯月透镜表面进行了膜厚均匀性的研究。构建了三级公自转行星盘的运动轨迹方程,并根据膜厚计算公式,建立了与三级盘倾角、公转半径有关的弯月透镜表面相对膜厚分布模型,采用电子束蒸发和离子束辅助沉积技术对分布模型进行了实验验证。此外,根据多次实验结果优化三级公自转行星系统结构参数,以提高弯月透镜表面的膜厚均匀性。实验结果表明,在未使用修正挡板技术的情况下,当公转半径为650 mm、倾角为60°时,可将弯月透镜凸面表面膜厚均匀性控制在±2.45%以内。 展开更多
关键词 薄膜 三级公自转行星系统 相对膜厚分布模型 弯月透镜 膜厚均匀性
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基片摆动对磁控溅射膜厚均匀性的影响研究
20
作者 乔大勇 苑伟政 《航空精密制造技术》 2010年第6期6-8,共3页
研究了基片摆动和基片自转的磁控溅射系统中基片摆动角振幅和基片自转角速度对磁控溅射膜厚均匀性的影响。在理论分析的基础上,进行了铜膜溅射实验,实验结果和理论分析符合,在摆动角振幅为π/3弧度,自转角速度为π弧度/秒的条件下,于4... 研究了基片摆动和基片自转的磁控溅射系统中基片摆动角振幅和基片自转角速度对磁控溅射膜厚均匀性的影响。在理论分析的基础上,进行了铜膜溅射实验,实验结果和理论分析符合,在摆动角振幅为π/3弧度,自转角速度为π弧度/秒的条件下,于4英寸硅基片上得到了±5.6%的膜厚均匀性。 展开更多
关键词 磁控溅射 基片摆动 基片自转 膜厚均匀性
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