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Ti含量对FePt/Ti_x(FePt)_(100-x)薄膜微结构和磁特性的影响
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作者 张玉杰 赵建国 +2 位作者 孙会元 于红云 封顺珍 《河北师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2006年第5期535-537,共3页
应用直流对靶磁控溅射法在玻璃基片上沉积了FePt/Tix(FePt)100-x薄膜,并在真空中进行原位退火.研究表明,衬底层Ti含量对FePt/Tix(FePt)100-x薄膜的微结构和磁特性影响很大.在退火温度为550℃,衬底层中的Ti含量为78%条件下,FePt形成了高... 应用直流对靶磁控溅射法在玻璃基片上沉积了FePt/Tix(FePt)100-x薄膜,并在真空中进行原位退火.研究表明,衬底层Ti含量对FePt/Tix(FePt)100-x薄膜的微结构和磁特性影响很大.在退火温度为550℃,衬底层中的Ti含量为78%条件下,FePt形成了高度有序的L10织构,表面颗粒尺寸分布均匀,粒径减小到11 nm,矫顽力达到最大. 展开更多
关键词 对靶磁控溅射 磁记录介质 FePt薄膜 有序l10织构 矫顽力
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