连续快速常压化学气相沉积法制备TiO_2自清洁镀膜玻璃 被引量：9

1

作者 翁伟浩 宋晨路 +3 位作者 翁文剑 刘军波 应益明 韩高荣 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期16-20,共5页

以四异丙醇钛(TTIP)为先驱体,采用常压化学气相沉积(APCVD)法模拟镀膜工艺过程,制备出了TiO2自清洁镀膜玻璃。通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见透射光谱(UV-Vis)等手段对样品进行分析,并研究了基板温度和移动速率与薄膜性... 以四异丙醇钛(TTIP)为先驱体,采用常压化学气相沉积(APCVD)法模拟镀膜工艺过程,制备出了TiO2自清洁镀膜玻璃。通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见透射光谱(UV-Vis)等手段对样品进行分析,并研究了基板温度和移动速率与薄膜性能之间的关系。结果表明,当基板温度升高至580℃时,能够形成平整致密的薄膜,薄膜的结晶度,光催化性能和亲水性能也达到最好;基板移动速度下降到1.5 m/min时,薄膜的结晶度,光催化性和亲水性也可得到改善。依据光催化性能和亲水性能测试,表明沉积TiO2薄膜的最佳条件为基板温度58O℃,基板速度1.5 m/min。 展开更多

关键词 TIO2 常压化学气相沉积 自清洁 镀膜玻璃

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铜基底上双层至多层石墨烯常压化学气相沉积法制备与机理探讨 被引量：6

2

作者 李浩 付志兵 +3 位作者 王红斌 易勇 黄维 张继成 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第5期301-306,共6页

化学气相沉积是目前最重要的ー种制备高质量、大面积石墨烯的方法.而铜是化学气相沉积法制备石墨烯中最常用的生长基底.虽然有大量文章报道了关于石墨烯的生长条件及生长机理,但是作为最广泛采用的材料,铜基底上双层及多层石墨烯的生长... 化学气相沉积是目前最重要的ー种制备高质量、大面积石墨烯的方法.而铜是化学气相沉积法制备石墨烯中最常用的生长基底.虽然有大量文章报道了关于石墨烯的生长条件及生长机理,但是作为最广泛采用的材料,铜基底上双层及多层石墨烯的生长机理仍然在探索中,本文采用常压化学气相沉积法,以乙醇为碳源在铜基底上生长石墨烯,并将其转移到SiO_2/Si基底上.用场发射扫描电镜、透射电镜、拉曼光谱、光学显微镜对所制备的石墨烯进行表征和层数分析,对转移到不同基底上的不同层数的石墨烯进行了透光性分析.结果表明,常压条件下铜箔表面能够生长出质量较高、连续性较好的双层至多层石墨烯.此外,我们还对铜基底上双层至多层石墨烯的生长机理进行了探讨. 展开更多

关键词 石墨烯 常压化学气相沉积 双层至多层 生长机理

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用常压化学气相沉积法制备SiO_2/S复合涂层的研究 被引量：8

3

作者 周建新 徐宏 +1 位作者 刘京雷 戚学贵 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期11-13,共3页

以二甲基二硫(DMDS)和正硅酸乙酯(TEOS)为反应物,采用常压化学气相沉积法在HP40合金基体上成功制备了SiO2/S复合涂层。采用扫描电子显微镜(SEM)及其附带能谱仪(EDAX)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)、Raman光谱等技术对涂层的形貌... 以二甲基二硫(DMDS)和正硅酸乙酯(TEOS)为反应物,采用常压化学气相沉积法在HP40合金基体上成功制备了SiO2/S复合涂层。采用扫描电子显微镜(SEM)及其附带能谱仪(EDAX)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)、Raman光谱等技术对涂层的形貌、元素成分、结构进行了表征,并对反应机理做了初步探讨。结果表明,SiO2/S复合涂层为无定形结构,主要由Si-O四面体的变形结构组成,S以S4及+4价状态与Si-O四面体的变形结构结合,涂层完整、致密。 展开更多

关键词 常压化学气相沉积(APCVD) SiO2/S复合涂层 HP40合金

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掺氮二氧化钛薄膜的常压化学气相沉积及其结构性能研究 被引量：9

4

作者 郭玉 张溪文 韩高荣 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期190-194,共5页

用常压化学气相沉积(APCVD)法,以四氯化钛(TiCl4)、氧气(O2)和氨气(NH3)作为气相反应先驱体,成功制备了掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜。XRD、XPS和UV-Vis透射光谱研究表明,氮掺杂在二氧化钛薄膜中引入Ti4O7相,抑制了锐钛矿相向金红石相的转变... 用常压化学气相沉积(APCVD)法,以四氯化钛(TiCl4)、氧气(O2)和氨气(NH3)作为气相反应先驱体,成功制备了掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜。XRD、XPS和UV-Vis透射光谱研究表明,氮掺杂在二氧化钛薄膜中引入Ti4O7相,抑制了锐钛矿相向金红石相的转变;氮掺杂促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。该工艺成本低廉,成膜速度快(150 nm/min),适用于工业化浮法玻璃生产线,产业化前景广阔。 展开更多

关键词 常压化学气相沉积 掺氮TiO2薄膜 光催化性 亲水性

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氢气浓度对常压化学气相沉积ZrC涂层的影响 被引量：4

5

作者 李国栋 郑湘林 +1 位作者 熊翔 孙威 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第9期1795-1801,共7页

采用ZrCl4-CH4-H2-Ar体系在C/C材料基体上进行常压化学气相沉积(APCVD)制备碳化锆(ZrC)涂层。通过X射线衍射技术(XRD)和扫描电镜(SEM)对不同H2浓度下制备的ZrC涂层进行分析。对H2在沉积过程中的作用机制进行了讨论。结果表明:H2浓度对... 采用ZrCl4-CH4-H2-Ar体系在C/C材料基体上进行常压化学气相沉积(APCVD)制备碳化锆(ZrC)涂层。通过X射线衍射技术(XRD)和扫描电镜(SEM)对不同H2浓度下制备的ZrC涂层进行分析。对H2在沉积过程中的作用机制进行了讨论。结果表明:H2浓度对涂层的相组成、晶体的择优取向和结构形态有重要影响;无H2或H2浓度较低时,涂层含有大量的热解碳,由ZrC和碳两相组成,涂层呈多孔颗粒状;当H2浓度(体积分数)增加到30%以上时,涂层的相成分变为单一ZrC相;当H2的浓度增加到90%时,ZrC晶体取向由(111)、(200)转变为强烈的(220)择优取向,晶粒形貌变为纳米针状。 展开更多

关键词 ZrC涂层 常压化学气相沉积 H2浓度 择优取向

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TiN镀膜玻璃的常压化学气相沉积法制备及其光电性能研究 被引量：8

6

作者 张涛 赵高凌 韩高荣 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期309-311,共3页

本研究以TiCl4和NH3为反应气体,N2为保护气氛,用常压化学气相沉积法(APCVD)在玻璃基板上沉积制备得到了一系列不同反应温度和原料浓度的TiN薄膜。利用X射线衍射(XRD)和方块电阻仪研究了反应温度和原料浓度对薄膜结晶性能和电性能的影响... 本研究以TiCl4和NH3为反应气体,N2为保护气氛,用常压化学气相沉积法(APCVD)在玻璃基板上沉积制备得到了一系列不同反应温度和原料浓度的TiN薄膜。利用X射线衍射(XRD)和方块电阻仪研究了反应温度和原料浓度对薄膜结晶性能和电性能的影响规律。研究结果表明随着基板温度升高、TiCl4浓度的增加,薄膜结晶性能提高,同时电阻率降低。在反应温度为600℃时得到了结晶性能较好的TiN薄膜,其方块电阻为186.7Ω,红外光反射率为0.2526。 展开更多

关键词 TIN 常压化学气相沉积 方块电阻

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在线常压化学气相沉积方法制备TiO_2自洁薄膜玻璃(英文) 被引量：2

7

作者 庞世红 王承遇 +3 位作者 马眷荣 马振珠 张国武 WANG W Pual 《大连工业大学学报》 CAS 北大核心 2009年第6期433-437,共5页

利用常压化学气相沉积技术,在浮法玻璃线上制备了TiO2自洁薄膜玻璃。研究了水和氧气对薄膜沉积速率的影响,结果表明水和氧气的加入增加了薄膜的沉积速率。分别用原子力显微镜和X-射线衍射分析仪研究了薄膜的表面形貌和晶型结构,薄膜表... 利用常压化学气相沉积技术,在浮法玻璃线上制备了TiO2自洁薄膜玻璃。研究了水和氧气对薄膜沉积速率的影响,结果表明水和氧气的加入增加了薄膜的沉积速率。分别用原子力显微镜和X-射线衍射分析仪研究了薄膜的表面形貌和晶型结构,薄膜表面的平均粗糙度为84 nm,其晶型由锐钛矿和金红石组成。同时还研究了自洁玻璃的光催化活性和亲水性,随着紫外光照时间的增加,薄膜的光催化活性增加且对水的接触角由光照前的54°降到光照后的6°。 展开更多

关键词 自洁玻璃 常压化学气相沉积 光催化 亲水性

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常压化学气相沉积硅镀膜玻璃结构、表面形貌与光学性能比较研究

8

作者 莫建良 朱文斌 +3 位作者 刘峰 王昕 张溪文 韩高荣 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 2000年第z2期646-649,共4页

本文通过高分辨电镜(HREM)、原子力显微镜(AFM)分析,反射率、透射率测试以及薄膜厚度的测试,研究了常压化学气相沉积法硅镀膜玻璃硅薄膜的结构、表面形貌(颗粒数量、大小和分布)对镀膜玻璃反射率、透射率的影响.研究发现不同的制备工艺... 本文通过高分辨电镜(HREM)、原子力显微镜(AFM)分析,反射率、透射率测试以及薄膜厚度的测试,研究了常压化学气相沉积法硅镀膜玻璃硅薄膜的结构、表面形貌(颗粒数量、大小和分布)对镀膜玻璃反射率、透射率的影响.研究发现不同的制备工艺(沉积温度和基板走速)对薄膜的平均反射率和平均透过率有很大的影响,通过控制合适的工艺参数可以制得具有纳米颗粒镶嵌结构的复合薄膜.具有此种形貌结构的薄膜能在基本部增大透过率的情况下有效减少薄膜镜面反射,减少光污染. 展开更多

关键词 常压化学气相沉积 硅镀膜玻璃 表面形貌 光污染

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基板温度对常压化学气相沉积法制备TiO_2复合薄膜性能的影响 被引量：8

9

作者 林明贤 赵高凌 +4 位作者 汪建勋 翁文剑 刘军波 应益明 韩高荣 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1520-1525,共6页

以Ti(OC_3H_7)_4为先驱体,SnO_2:F镀膜玻璃为基板,采用常压化学气相沉积法制备了TiO_2/SnO_2:F复合薄膜。用扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见一近红外透射光谱等手段对样品的物相和性能进行了研究。结果表明:金红石相的SnO_2:F底膜促进了... 以Ti(OC_3H_7)_4为先驱体,SnO_2:F镀膜玻璃为基板,采用常压化学气相沉积法制备了TiO_2/SnO_2:F复合薄膜。用扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见一近红外透射光谱等手段对样品的物相和性能进行了研究。结果表明:金红石相的SnO_2:F底膜促进了TiO_2金红石相的形成:当基板温度为480℃时。TiO_2/SnO_2:F复合薄膜出现针状结构。但随着基板温度继续升高,针状结构消失。样品的可见光透过率随基板温度而变化,其值为60%～90%,基本满足建筑物的采光要求。当基板温度为530℃时,TiO_2/SnO_2:F复合薄膜的光催化性能最好。 展开更多

关键词 二氯化钛 掺氟二氧化锡 常压化学气相沉积 节能 光催化性

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常压化学气相沉积法制备氮化钛薄膜结构和节能性能研究 被引量：2

10

作者 段钢锋 赵高凌 +5 位作者 林小璇 吴历清 杜丕一 翁文剑 汪建勋 韩高荣 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期847-850,共4页

在普通玻璃基板上利用常压化学气相沉积法在580℃条件下制备得到了氮化钛薄膜。对薄膜的结晶性能、断面形貌、方块电阻以及光学透过率和反射率进行了研究。随着沉积时间的增长,薄膜由单层结构变为一种特殊的双层结构,这种双层结构的形... 在普通玻璃基板上利用常压化学气相沉积法在580℃条件下制备得到了氮化钛薄膜。对薄膜的结晶性能、断面形貌、方块电阻以及光学透过率和反射率进行了研究。随着沉积时间的增长,薄膜由单层结构变为一种特殊的双层结构,这种双层结构的形成是沉积过程中气相成核机制引起的。光谱结果显示制备得到的薄膜具备一定的阳光控制性能。然而,双层薄膜的红外反射率随沉积时间的增长迅速降低,影响了其阳光控制性能。 展开更多

关键词 氮化钛 常压化学气相沉积法 沉积时间 结构 阳光控制性能

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常压化学气相沉积法制备SnO_2微纳米材料及其催化发光性质研究 被引量：1

11

作者 余凌竹 鲁建 +1 位作者 路姣 孟国龙 《电子显微学报》 CAS CSCD 2016年第6期482-489,共8页

本文利用一种简单的常压化学气相沉积法在氧化石墨烯基底上制备SnO_2材料。通过改变沉积参数(氯化亚锡溶液浓度和沉积时间)得到了多种形貌的SnO_2微纳米材料。利用SEM,EDS和XPS对其形貌,成分及元素价态进行表征,并对SnO_2材料的催化发... 本文利用一种简单的常压化学气相沉积法在氧化石墨烯基底上制备SnO_2材料。通过改变沉积参数(氯化亚锡溶液浓度和沉积时间)得到了多种形貌的SnO_2微纳米材料。利用SEM,EDS和XPS对其形貌,成分及元素价态进行表征,并对SnO_2材料的催化发光性能进行测试。结果表明,以该材料建立的催化发光气体传感器分别对进样2μL的甲醇,乙醇,异丙醇和丙酮展示了较高的灵敏度,快的响应速度及好的重现性。 展开更多

关键词 常压化学气相沉积 SNO2 催化发光 VOCS

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常压化学气相沉积法制备二维六方氮化硼

12

作者 姚茜 陈珊珊 《曲靖师范学院学报》 2017年第3期23-29,共7页

采用常压化学气相沉积(APCVD)法制备二维六方氮化硼的基本方法,系统探究衬底抛光处理、衬底与前驱体间距、前驱体加热温度、生长温度等对六方氮化硼生长的影响,通过优化调控生长因子,成功制备出高质量单层六方氮化硼薄膜.

关键词 常压化学气相沉积 六方氮化硼 二维材料 单原子层

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采用紫外激光引发聚合乙炔基三甲基硅烷常压化学气相沉积聚碳硅烷薄膜

13

作者 彭补之 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期77-77,共1页

关键词 紫外激光 引发聚合 乙炔基三甲基硅烷 常压化学气相沉积 聚碳硅烷薄膜

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常压化学气相沉积法制备二氧化钛薄膜的沉积工艺及薄膜均匀性 被引量：13

14

作者 庞世红 王承遇 +1 位作者 马眷荣 马振珠 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期64-67,共4页

利用常压化学气相沉积法在浮法玻璃表面制备了二氧化钛薄膜。研究了水蒸气、氧气含量和衬底温度以及反应器与衬底的距离对薄膜制备过程中沉积速率的影响。结果表明:当水蒸气质量浓度为50mg/L。氧气含量为总气体流量的8%时,薄膜的沉积速... 利用常压化学气相沉积法在浮法玻璃表面制备了二氧化钛薄膜。研究了水蒸气、氧气含量和衬底温度以及反应器与衬底的距离对薄膜制备过程中沉积速率的影响。结果表明:当水蒸气质量浓度为50mg/L。氧气含量为总气体流量的8%时,薄膜的沉积速率可达30nm/s,随着衬底温度从300℃升到600℃,薄膜的沉积速率从15nm/s增加到30nm/s;然而随着反应器与衬底的距离从2mm增加到12mm,薄膜的沉积速率从30nm/s降到10nm/s,但大面积薄膜层的厚度差从10nm降低到2nm,薄膜比较均匀。 展开更多

关键词 常压化学气相沉积 二氧化钛 沉积速率 薄膜均匀性

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常压化学气相沉积法制备氟掺杂TiO_2自清洁薄膜 被引量：9

15

作者 宋晨路 刘军波 +1 位作者 翁伟浩 翁文剑 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期58-63,共6页

以四异丙醇钛[Ti(OC3H7)4,TTIP]和三氟乙醇(CF3CH2OH,TFE)为前驱体,采用常压化学气相沉积制备了氟(F)掺杂TiO2自清洁薄膜。通过扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见透射光谱等手段对样品进行分析,研究了前驱体TFE的流量与薄膜性能之间的关... 以四异丙醇钛[Ti(OC3H7)4,TTIP]和三氟乙醇(CF3CH2OH,TFE)为前驱体,采用常压化学气相沉积制备了氟(F)掺杂TiO2自清洁薄膜。通过扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见透射光谱等手段对样品进行分析,研究了前驱体TFE的流量与薄膜性能之间的关系。结果表明:前驱体TFE的引入会在TiO2中掺入F并抑制薄膜中锐钛矿相的形成。光催化性能和亲水性能测试表明,沉积F掺杂TiO2薄膜的最佳TFE流量为5.94L/min。 展开更多

关键词 二氧化钛 氟 掺杂 常压化学气相沉积 自清洁

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常压化学气相沉积SiO_2涂层的制备及其性能研究 被引量：3

16

作者 马良 黄志荣 +1 位作者 罗小秋 钱瑜明 《腐蚀科学与防护技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第2期113-116,共4页

以正硅酸乙酯(TEOS)为源物质,空气为载气和稀释气,采用常压化学气相沉积法(APCVD)在HP40钢表面制备了SiO2涂层.采用光学显微镜、扫描电子显微镜、能量色散能谱仪、D\MAX-C型X射线衍射仪、显微硬度仪等,研究了SiO2涂层的组织结构、表面... 以正硅酸乙酯(TEOS)为源物质,空气为载气和稀释气,采用常压化学气相沉积法(APCVD)在HP40钢表面制备了SiO2涂层.采用光学显微镜、扫描电子显微镜、能量色散能谱仪、D\MAX-C型X射线衍射仪、显微硬度仪等,研究了SiO2涂层的组织结构、表面形貌、物相组成和显微硬度;并用热震实验法和剥离实验法研究了涂层与HP40基体的结合强度.结果表明,所制备的SiO2涂层厚度约为1μm,由细小颗粒组成,颗粒比较均匀、大部分颗粒的粒径均在1μm以下;涂层无明显孔隙,与基体的结合强度较高;其显微硬度明显高于HP40基体. 展开更多

关键词 常压化学气相沉积法(APCVD) SiO2涂层 HP40钢 粘结强度

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常压化学气相沉积法制备Ti_5Si_3薄膜及其镀膜玻璃 被引量：3

17

作者 黄燕飞 任招娣 +4 位作者 沈美 杜军 魏德法 马宁 杜丕一 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第10期1694-1699,共6页

以制备兼具阳光控制和低辐射功能的镀膜玻璃为目的,以硅烷与四氯化钛为反应前驱体,氮气为保护气体和稀释气体,通过常压化学气相沉积法模拟玻璃浮法在线镀膜工艺,在玻璃基板上成功制备了Ti5Si3薄膜,用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、... 以制备兼具阳光控制和低辐射功能的镀膜玻璃为目的,以硅烷与四氯化钛为反应前驱体,氮气为保护气体和稀释气体,通过常压化学气相沉积法模拟玻璃浮法在线镀膜工艺,在玻璃基板上成功制备了Ti5Si3薄膜,用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、四探针测阻仪和分光光度计对薄膜的相结构、形貌、电学、光学性能进行了表征。结果表明:薄膜为六方结构的Ti5Si3晶相,晶相含量较高,晶粒尺寸为23nm,薄膜中的晶粒以200nm左右的多晶颗粒团聚体形式存在。薄膜电阻率为122μΩ·cm,与Ti5Si3晶体的本征电阻率相当。这种单层镀膜玻璃的红外反射率可高达92.1%,可见光区的透过率为25%,兼具阳光控制和低辐射功能。 展开更多

关键词 常压化学气相沉积法 硅化钛 红外反射 透射率 电阻率

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常压化学气相沉积技术生长ZnO:H薄膜的光学性质 被引量：1

18

作者 李璠 王立 +3 位作者 戴江南 蒲勇 方文卿 江风益 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第10期1585-1588,共4页

采用常压金属有机物化学气相沉积技术(AP-MOCVD),以二乙基锌(DEZn)为Zn源,去离子水(H2O)为氧源,N2作载气,在外延ZnO薄膜的反应气氛中通入少量氢气,在c-Al2O3衬底上生长出了ZnO∶H薄膜。用X射线双晶衍射和光致发光谱对ZnO∶H薄膜的结晶... 采用常压金属有机物化学气相沉积技术(AP-MOCVD),以二乙基锌(DEZn)为Zn源,去离子水(H2O)为氧源,N2作载气,在外延ZnO薄膜的反应气氛中通入少量氢气,在c-Al2O3衬底上生长出了ZnO∶H薄膜。用X射线双晶衍射和光致发光谱对ZnO∶H薄膜的结晶性能和光学性质进行表征。结果表明,ZnO∶H薄膜(002)和(102)面的Ω扫描半峰全宽分别为46.1 mrad和81.4 mrad,表明该薄膜具有良好的结晶性能;室温下,ZnO∶H薄膜具有较强的紫外光发射(380 nm),在低温10 K光致发光谱中观测到位于3.3630 eV处与氢相关的中性施主束缚激子峰(I4)及其位于3.331 eV处的双电子卫星峰(TES)。采用退火的方法,通过观测I4峰的强度变化,研究了氢在ZnO∶H薄膜中的热稳定性。发现随着退火温度的升高,I4峰的强度逐渐减弱,表明在高温下退火,氢会从ZnO薄膜中逸出。 展开更多

关键词 薄膜光学 氧化锌 氢 常压金属有机物化学气相沉积 光致发光

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纳米多孔硅基薄膜的常压等离子体化学气相沉积过程研究 被引量：3

19

作者 夏磊 周荃 +1 位作者 徐金洲 张菁 《东华大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期117-121,共5页

采用常压等离子体化学气相沉积(APECVD)的方法制备了带有新颖结构和特殊蓝紫光(400nm左右)发光特性的硅基薄膜.通过在自行研制的等离子体反应装置中通入按100∶1∶1的体积比进行配比的SiH4∶H2∶Ar混合气体进行APECVD,在加负偏压条件下... 采用常压等离子体化学气相沉积(APECVD)的方法制备了带有新颖结构和特殊蓝紫光(400nm左右)发光特性的硅基薄膜.通过在自行研制的等离子体反应装置中通入按100∶1∶1的体积比进行配比的SiH4∶H2∶Ar混合气体进行APECVD,在加负偏压条件下获得了由Si基组成的絮状多孔纳米结构薄膜.通过等离子体发射光谱测定了沉积过程中的电子温度在2.2eV左右,扫描电子显微镜(SEM)观测薄膜表面形貌后肯定了偏压对薄膜纳米结构的形成起着重要的作用. 展开更多

关键词 常压等离子体化学气相沉积(APECVD) 多孔硅基薄膜 负偏压 荧光(PL)

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常压等离子体化学气相沉积制备UHMWPE/SiO_xC_yH_z锂离子杂化隔膜 被引量：5

20

作者 王超梁 彭释 +2 位作者 戴协 石建军 张菁 《东华大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2016年第2期179-184,共6页

采用常压等离子体化学气相沉积(APECVD)方法裂解六甲基二硅氧烷(HMDSO),在高强高模聚乙烯(UHMWPE)隔膜表面进行沉积,形成双面微纳米颗粒膜涂覆的UHMWPE/SiO_xC_yH_z杂化隔膜,并分别通过扫描电子显微镜(SEM)、衰减全反射傅里叶变换红外光... 采用常压等离子体化学气相沉积(APECVD)方法裂解六甲基二硅氧烷(HMDSO),在高强高模聚乙烯(UHMWPE)隔膜表面进行沉积,形成双面微纳米颗粒膜涂覆的UHMWPE/SiO_xC_yH_z杂化隔膜,并分别通过扫描电子显微镜(SEM)、衰减全反射傅里叶变换红外光谱(ATR-FTIR)、热性能测试方法等,研究了不同O2/HMDSO流量比对杂化隔膜结构与热性能的影响.研究结果表明,沉积薄膜为具有一定结晶特性的SiO_xC_yH_z微纳米颗粒薄膜,具有较好的多孔特性及与UHMWPE隔膜纤维的黏结.随着O2/HMDSO流量比的增加,在颗粒薄膜的亲水性、透气率及对隔膜的覆盖率提高的同时,明显地改善了杂化隔膜的耐热收缩性能,120℃下热处理30 min,热收缩率仅为2%左右,在具有较高耐热性要求的锂离子动力电池隔膜方面具有很好的应用前景. 展开更多

关键词 常压等离子体化学气相沉积(APECVD) SiOxCyHz多孔纳米颗粒薄膜 高强高模聚乙烯(UHMWPE) 锂离子电池隔膜 热收缩

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