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BSRF上同步辐射浓度光刻的实验研究
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作者 彭良强 作福廷 等 《高能物理与核物理》 CSCD 北大核心 2001年第B12期128-130,共3页
大结构深度和高深宽比是同步辐射深度光刻的突出优点。提出采用现有掩模，进行多次曝光、显影的方法，实验获得厚2.2mm的胶结构。系列研究掩模、光刻胶、基底、光谱和光强对深宽比的影响，实验获得深宽比104的胶结构。
关键词 BSRF 实验研究 同步辐射深度光刻 超深结构 高深宽比 掩膜 曝光
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一种微细EDM电极的制造方法 被引量：3
2
作者 彭良强 伊福廷 +2 位作者 张菊芳 韩勇 张院春 《电加工与模具》 2000年第6期43-45,共3页
针对微细EDM异形电极的加工难题 ,提出了利用同步辐射深度光刻和电铸技术相结合制造EDM电极的方法 ,可望较好地解决异形电极的制造问题。
关键词 同步辐射深度光刻 电铸 EDM电极 制造方法 电火花加工
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