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用于提高光刻分辨率的光学成像算法的研究 被引量:1
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作者 王国雄 王雪洁 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第9期24-27,共4页
通过对光刻系统中光学成像系统的模拟,提出了改善光刻分辨率的途径以及基于卷积核的计算光强的方法,并介绍了光学系统的传输交叉系数具体计算过程。建立准确描述由于掩模制造工艺、光刻胶曝光、显影、蚀刻所引起的光学邻近效应和畸变所... 通过对光刻系统中光学成像系统的模拟,提出了改善光刻分辨率的途径以及基于卷积核的计算光强的方法,并介绍了光学系统的传输交叉系数具体计算过程。建立准确描述由于掩模制造工艺、光刻胶曝光、显影、蚀刻所引起的光学邻近效应和畸变所导致的关键尺寸变化的光刻工艺模型,有助于开发由成品率驱动的版图设计工具,自动地实现深亚微米下半导体制造中先进的掩模设计、验证和检查等任务。 展开更多
关键词 光刻仿真 分辨率提高技术 光学成像
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Method of Verification for Manufacturing in Sub-Wavelength Design
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作者 王国雄 严晓浪 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期819-823,共5页
We describe a post resolution-enhancement-technique verification method for use in manufacturing data flow. The goal of the method is to verify whether designs function as intended,or more precisely, whether the print... We describe a post resolution-enhancement-technique verification method for use in manufacturing data flow. The goal of the method is to verify whether designs function as intended,or more precisely, whether the printed images are consistent with the design intent. The process modeling is described for the model-based verifi cation method. The performance of the method is demonstrated by experiment. 展开更多
关键词 verification for manufacturing resolution enhancement technique optical proximity correction
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