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光触发晶闸管光敏区结构的研究
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作者 徐静平 余岳辉 陈涛 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第10期614-622,共9页
本文对光触发晶闸管的两种不同光敏区结构进行了比较分析,对其中颇具吸引力的结构——有一薄n_E层的槽状光敏区结构,从理论和实验上进行了较为详细的研究,着重分析了不同参数条件下,n_B层厚度与触发灵敏度的关系.通过建立理论模型和进... 本文对光触发晶闸管的两种不同光敏区结构进行了比较分析,对其中颇具吸引力的结构——有一薄n_E层的槽状光敏区结构,从理论和实验上进行了较为详细的研究,着重分析了不同参数条件下,n_B层厚度与触发灵敏度的关系.通过建立理论模型和进行数值模拟,得到了一些新的结果,表明对于一定的p_P基区参数和n_E层浓度,存在一最佳nE层厚度,在此厚度下,触发功率最小;而且采用此光敏区结构能得到触发灵敏度与dv/dt容量之间的较好折衷,?计算结果和实验吻合较好. 展开更多
关键词 晶闸管 触发 光敏区 结构
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光敏二极管电压特性研究 被引量:8
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作者 吴会利 郑莹 《微处理机》 2016年第4期16-18,共3页
光敏二极管是在外加反向偏压的情况下体现出其光电转换特性的。对于光敏器件来说,其反向击穿特性至关重要。首先对光敏二极管的结构、工作原理进行了概述,从浅结光敏区、过程缺陷、表面应力、不同结构等方面展开对光敏二极管电压特性的... 光敏二极管是在外加反向偏压的情况下体现出其光电转换特性的。对于光敏器件来说,其反向击穿特性至关重要。首先对光敏二极管的结构、工作原理进行了概述,从浅结光敏区、过程缺陷、表面应力、不同结构等方面展开对光敏二极管电压特性的研究工作。通过实验验证及器件工艺模拟仿真,分别采用快速退火、改进表面清洗工艺、掺氯氧化工艺、采用合理的淀积温度及速率、采用双层膜结构或热退火工艺等方式改善和提高光敏二极管的电压特性。通过研究其反向击穿电压特性,保证其电压参数的同时,可以有效提升产品其它参数如暗电流、光生电压等的控制水平。 展开更多
关键词 反向击穿电压 电流 暗电流 浅结光敏区 层错缺陷 晶格缺陷 沾污 表面应力
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不同光源对激光尘埃粒子计数器性能的影响 被引量:11
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作者 纪运景 卞保民 贺安之 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2004年第3期264-268,共5页
使用BeamProfile2350光束诊断仪测量了氦氖激光和半导体激光两种典型光源的光束特性,并分析了将它们作为激光尘埃粒子计数器的光源时,其在光敏区所产生光场的不均匀性。同时讨论了光场不均匀对计数器性能的影响,计算了两种不同光源下,... 使用BeamProfile2350光束诊断仪测量了氦氖激光和半导体激光两种典型光源的光束特性,并分析了将它们作为激光尘埃粒子计数器的光源时,其在光敏区所产生光场的不均匀性。同时讨论了光场不均匀对计数器性能的影响,计算了两种不同光源下,计数器计数效率和分辨比率的差异。结果表明,以半导体激光作为计数器光源时,光敏区的光强均匀性更好,计数效率更高,粒径的分辨比率较氦氖激光作用时提高了17%,增大了粒径的有效测量范围。 展开更多
关键词 尘埃粒子计数器 光敏区 粒径分辨比率 计数效率
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基于多模光纤传感器的面阵CCD显示匹配技术 被引量:2
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作者 周鑫 王庆福 +1 位作者 倪娟 尹波 《燕山大学学报》 CAS 北大核心 2017年第2期177-182,共6页
传统的面阵CCD图像匹配多采用二维矩阵排列组成光敏区,并通过点对点特征识别约束完成匹配,这种技术在外来光线干扰的环境下存在光学拖影,造成图像识别匹配过程中存在较大误差。提出一种新的多模光纤传感器面阵下的CCD显示匹配方法,通过... 传统的面阵CCD图像匹配多采用二维矩阵排列组成光敏区,并通过点对点特征识别约束完成匹配,这种技术在外来光线干扰的环境下存在光学拖影,造成图像识别匹配过程中存在较大误差。提出一种新的多模光纤传感器面阵下的CCD显示匹配方法,通过构建多模光纤场的传输面阵CCD结构模型,描述CCD成像检测过程,采用分段拟合的方式对光学拖影尺寸进行修正,通过信息融合及噪声测量标定方法实现光学成像,计算图像尺寸相关的脉冲数,以此作为匹配过程的约束条件,从而提高面阵CCD图像匹配性能。仿真结果表明,该CCD图像显示匹配算法能提高CCD光敏面上图像的匹配精度,消除光学拖影,算法简单有效,在多模光纤图像传感器设计图像采集和处理中具有较好的应用价值。 展开更多
关键词 图像 传感器 CCD 光敏区
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荧光相关光谱单分子检测系统的研究 被引量:5
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作者 张普敦 任吉存 《分析化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期899-903,共5页
基于激光共焦构型,构建了一套高灵敏度和高稳定性的荧光相关光谱单分子检测系统。采用高数值孔径物镜使激光束高度聚焦,并用同一物镜收集样品的荧光,单光子计数器用于实时记录荧光信号。优化系统保持物镜焦点、针孔以及单光子计数器光... 基于激光共焦构型,构建了一套高灵敏度和高稳定性的荧光相关光谱单分子检测系统。采用高数值孔径物镜使激光束高度聚焦,并用同一物镜收集样品的荧光,单光子计数器用于实时记录荧光信号。优化系统保持物镜焦点、针孔以及单光子计数器光敏区高度同轴。采用60×1.2(NA)的水浸物镜及直径为160μm的针孔得到的检测系统结构参数为ω0和z0分别为0.42μm和1.33μm,照射微区的体积为1.3fL。单个RhodamineGreen分子可获得13倍的信噪比。用该系统获得了小分子和生物大分子(DNA片段和蛋白质)的高质量荧光相关图谱,成功实现了单个分子的检测。 展开更多
关键词 检测系统 单分子 相关 子计数器 高数值孔径 Green DNA片段 生物大分子 高稳定性 高灵 信号 实时记录 优化系统 结构参数 单个分子 物镜 光敏区 信噪比 蛋白质 小分子 高度 针孔 构型 焦点 直径
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光控晶闸管的集成BOD转折电压
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作者 高山城 罗艳红 +2 位作者 吴飞鸟 李玉玲 高飞 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第6期414-418,共5页
介绍了新型光控晶闸管,其集成了一个非常重要的电气功能,即正向过压保护功能。通过在光控晶闸管光敏区内集成转折二极管(BOD),实现光控晶闸管正向保护功能。如果集成BOD转折电压太高,不能有效保护晶闸管;若转折电压太低,则达不到光控晶... 介绍了新型光控晶闸管,其集成了一个非常重要的电气功能,即正向过压保护功能。通过在光控晶闸管光敏区内集成转折二极管(BOD),实现光控晶闸管正向保护功能。如果集成BOD转折电压太高,不能有效保护晶闸管;若转折电压太低,则达不到光控晶闸管设计的阻断电压要求。通过计算机仿真技术和工艺实验方法,成功地揭示了光控晶闸管集成BOD转折电压与硅材料电阻率、pn结结构尺寸和温度的关系,从而精确设计了光控晶闸管集成BOD转折电压,研制了5英寸(1英寸=2.54 cm)3 125 A/7 600 V特高压光控晶闸管,并成功应用于"云南-广东±800 kV/5 000 MW"特高压直流输电工程中。 展开更多
关键词 控晶闸管(LTT) 光敏区 转折二极管(BOD) 正向保护 转折电压 特高压直流输电(UHVDC)
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二维方框形结构PSD有限元分析 被引量:2
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作者 黄梅珍 黄锦荣 +1 位作者 窦晓鸣 陈钰清 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期382-385,共4页
用有限元方法对二维方框形结构位置敏感探测器(position sensitive detector简称PSD)进行了计算和分析,讨论了结构参数、负载等对位置线性度的影响。得到的结论是:光敏区方块电阻与单位长度边框线电阻的比值ν决定了PSD的线性度,ν越大... 用有限元方法对二维方框形结构位置敏感探测器(position sensitive detector简称PSD)进行了计算和分析,讨论了结构参数、负载等对位置线性度的影响。得到的结论是:光敏区方块电阻与单位长度边框线电阻的比值ν决定了PSD的线性度,ν越大,器件的线性越好,比较适当的取值范围是1 0 <ν<2 0 ,PSD位置换算式中系数k的最佳取值不一定为器件长度之半,负载电阻的存在将导致附加位置误差。 展开更多
关键词 PSD 有限元分析 方框 二维 位置感探测器 有限元方法 结构参数 单位长度 方块电阻 取值范围 位置误差 负载电阻 线性度 线电阻 光敏区 换算式 器件
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SiNx钝化256元InGaAs短波红外焦平面探测器
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作者 唐恒敬 张可锋 +4 位作者 吴小利 王妮丽 陈新禹 李雪 龚海梅 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2008年第3期424-427,共4页
为了改善器件的响应均匀性,通过优化台面制作与SiNx钝化工艺制备了高均匀性256元线列正照射InGaAs探测器,实现了该探测器与读出电路的互连,测试了器件的I-V特性、光谱响应、信号和噪声,并利用激光感生电流技术研究了探测器的串音和光敏... 为了改善器件的响应均匀性,通过优化台面制作与SiNx钝化工艺制备了高均匀性256元线列正照射InGaAs探测器,实现了该探测器与读出电路的互连,测试了器件的I-V特性、光谱响应、信号和噪声,并利用激光感生电流技术研究了探测器的串音和光敏感区的扩大问题。测试结果表明:在-0.5V偏压下,探测器的暗电流典型值约为0.9nA,平均峰值探测率为7.8×1011cm·Hz1/2·W-1,响应的不均匀性为4.8%。LBIC测试结果表明:光敏元区没有扩大,光敏元之间串音较小,并成功实现了室温扫描成像,图像比较清晰。 展开更多
关键词 INGAAS 焦平面 探测器 LBIC 非均匀性 串音 光敏区
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Silicon Photodiode with Very Small Sensitive Area
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作者 ① YIN Changsong,LI Xiaojun (Wuhan University,Wuhan 430072,CHN) 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 1996年第4期289-292,共4页
The silicon PN junction photodiode with very small sensitive area has been investigated.The device gets superhigh light current density J LS counted by the sensitive area in the planar PN junction.The superhi... The silicon PN junction photodiode with very small sensitive area has been investigated.The device gets superhigh light current density J LS counted by the sensitive area in the planar PN junction.The superhigh light current density is due to the light current transferred by the photogenerated minority carriers in the area around edges of the dopant diffused region.Then,we can determine the diffusion length of the photogenerated minority carriers in the substance by measuring the light current of the PN junction photodiode with very small sensitive area. 展开更多
关键词 PHOTODIODE Photoelectric Conversion PN Junction
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