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基于MOCVD的β-Ga_(2)O_(3)同质外延与Al掺异质结外延生长研究进展
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作者 刘洋 何云龙 +4 位作者 陈谷然 陆小力 郑雪峰 马晓华 郝跃 《固体电子学研究与进展》 2025年第1期1-15,共15页
β-Ga_(2)O_(3)是一种具有超宽带隙、高临界击穿场强和优异的巴利加优值的半导体材料,近年来在电力电子与深紫外光电探测等领域展现出巨大的应用潜力。金属有机化学气相沉积(Metal-organic chemical vapor deposition,MOCVD)技术凭借其... β-Ga_(2)O_(3)是一种具有超宽带隙、高临界击穿场强和优异的巴利加优值的半导体材料,近年来在电力电子与深紫外光电探测等领域展现出巨大的应用潜力。金属有机化学气相沉积(Metal-organic chemical vapor deposition,MOCVD)技术凭借其高生长速率、精确的膜厚控制、优异的薄膜质量和大尺寸生长等优势,成为未来β-Ga_(2)O_(3)走向产业化的潜在方法,并已被广泛应用于β-Ga_(2)O_(3)的外延生长研究。本文对几种常见晶向的β-Ga_(2)O_(3) MOCVD同质外延生长的研究成果进行了概述,并在此基础上介绍了极具潜力的β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)的MOCVD外延生长研究现状。最后,总结了基于MOCVD技术的β-Ga_(2)O_(3)同质外延生长以及β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)O_(3)生长过程中面临的主要问题,并对未来的发展进行了展望。 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3) 金属有机化学气相沉积 同质外延 β-(Al_(x)Ga_(1-x))_(2)o_(3)
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光学浮区法生长Bi掺杂β-Ga_(2)O_(3)单晶及其光谱性质研究
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作者 杨晓龙 唐慧丽 +5 位作者 张超逸 孙鹏 黄林 陈龙 徐军 刘波 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第2期202-211,共10页
超宽禁带半导体β-Ga_(2)O_(3)因出色的光电特性而成为研究的焦点。元素掺杂对β-Ga_(2)O_(3)光谱性质的影响是材料科学领域的一个重要研究方向,具有显著的研究价值和应用前景。本研究通过光学浮区(OFZ)法,在CO_(2)环境中成功生长出β-G... 超宽禁带半导体β-Ga_(2)O_(3)因出色的光电特性而成为研究的焦点。元素掺杂对β-Ga_(2)O_(3)光谱性质的影响是材料科学领域的一个重要研究方向,具有显著的研究价值和应用前景。本研究通过光学浮区(OFZ)法,在CO_(2)环境中成功生长出β-Ga_(2)O_(3)∶6%Bi单晶,并着重研究Bi掺杂β-Ga_(2)O_(3)单晶的光谱性质。利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电子显微镜(SEM)结合能量色散X射线光谱(EDS)、X射线光电子能谱(XPS)以透过光谱和荧光光谱等先进的表征技术,对样品的晶体结构、元素组成及光谱性质进行了较全面的测试与分析。实验结果揭示,由于离子半径差异大,Bi离子较难掺入β-Ga_(2)O_(3)晶格,掺入的Bi离子主要替代了GaO_(6)八面体中的Ga离子位置。与非故意掺杂β-Ga_(2)O_(3)相比,Bi掺杂β-Ga_(2)O_(3)单晶在红外区域的透射率降低,载流子浓度增加;荧光发射光谱强度降低,荧光衰减时间缩短。这些发现不仅深化了对Bi掺杂β-Ga_(2)O_(3)单晶光谱性质的理解,而且为该材料在闪烁和辐射探测等领域的应用提供了技术启示。 展开更多
关键词 Bi掺杂β-ga_(2)o_(3) 光学浮区法 晶体生长 拉曼光谱 光谱特性 发射光谱强度 荧光衰减时间
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MBE同质外延生长Sn掺杂β-Ga_(2)O_(3)(010)薄膜的电子输运性质研究
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作者 张子琦 杨珍妮 +5 位作者 况思良 魏盛龙 徐文静 陈端阳 齐红基 张洪良 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第2期244-254,共11页
本文研究了利用分子束外延技术生长的非故意掺杂(UID)和锡掺杂的β-Ga_(2)O_(3)同质外延薄膜的电子输运性质。薄膜载流子浓度范围为3.2×10^(16)至2.9×10^(19) cm^(-3),载流子浓度为3.2×10^(16) cm^(-3)的非故意掺杂薄膜... 本文研究了利用分子束外延技术生长的非故意掺杂(UID)和锡掺杂的β-Ga_(2)O_(3)同质外延薄膜的电子输运性质。薄膜载流子浓度范围为3.2×10^(16)至2.9×10^(19) cm^(-3),载流子浓度为3.2×10^(16) cm^(-3)的非故意掺杂薄膜显示出优异的室温迁移率,为125 cm^(2)·V^(-1)·s^(-1),在80 K时的峰值迁移率为875 cm^(2)·V^(-1)·s^(-1),达到了当前MBE生长的Ga_(2)O_(3)薄膜的先进水平。利用温度相关霍尔测试表征同质外延薄膜的电子输运性质,计算得到锡掺杂剂的激活能为76.2 meV。通过散射模型的拟合计算,分析了这一系列同质外延薄膜的电子散射性质,在低温到高温过程中,来自本征缺陷的电离杂质散射及晶体中阴阳离子库仑力的极性光学声子(POP)散射限制了迁移率的增长。 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3) 外延薄膜 掺杂 激活能 迁移率 输运性质
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β-Ga_(2)O_(3)基MSM型日盲紫外光电探测器高温电流输运机制的研究
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作者 杜桐 付俊杰 +6 位作者 王紫石 狄静 陶春雷 张赫之 张琦 胡锡兵 梁红伟 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第2期319-328,共10页
本文成功制备了β-Ga_(2)O_(3)基金属半导体金属(MSM)型日盲紫外光电探测器。在室温下偏压为5 V时,具有高质量外延的器件的响应度达到469.6 mA/W(对应外量子效率(EQE)为229.2%),光暗电流比为5.26×10^(3)。为了研究β-Ga_(2)O_(3)基... 本文成功制备了β-Ga_(2)O_(3)基金属半导体金属(MSM)型日盲紫外光电探测器。在室温下偏压为5 V时,具有高质量外延的器件的响应度达到469.6 mA/W(对应外量子效率(EQE)为229.2%),光暗电流比为5.26×10^(3)。为了研究β-Ga_(2)O_(3)基MSM型日盲紫外光电探测器在高温环境下的潜在应用,对该器件在高温下的电流-电压(I-V)和光响应(I-T)特性进行了测试,分析器件在高温下的载流子输运机制。结果表明:在300~375 K时,器件的暗电流主要由低压下的热离子场发射(TFE)和高压下的普尔-弗兰克发射(PFE)主导,由PFE模型拟合的I-V曲线可知,PFE由导带下的0.200 eV附近的缺陷引起;根据光响应特性拟合结果,得到上升时间拟合活化能为0.280 eV,下降时间拟合活化能为0.036 eV。由分析结果可知,光电流的输运过程如下:光生电子首先被导带下0.200~0.280 eV附近的缺陷能级捕获并通过PFE发射进入到导带产生光电流。光生载流子的复合过程为:光电子更倾向于被导带下的0.036 eV附近的缺陷能级捕获,进而与价带中的光生空穴复合。 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3) 金属半导体金属 日盲紫外光电探测器 热离子场发射 普尔-弗兰克发射 缺陷
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不同晶面蓝宝石衬底上α-Ga_(2)O_(3)雾化学气相沉积法生长研究
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作者 李雄杰 宁平凡 +4 位作者 陈世澳 乔思博 程红娟 王英民 牛萍娟 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第2期255-262,共8页
采用雾化学气相沉积(Mist-CVD)法在不同晶面蓝宝石衬底上异质外延生长了α-Ga_(2)O_(3)薄膜,并利用XRD、SEM和紫外-可见分光光度计(UV-Vis)分析了薄膜样品的物相、光学特性和表面形貌。600℃以内,在C、M、A、R面蓝宝石衬底上生长纯相α-... 采用雾化学气相沉积(Mist-CVD)法在不同晶面蓝宝石衬底上异质外延生长了α-Ga_(2)O_(3)薄膜,并利用XRD、SEM和紫外-可见分光光度计(UV-Vis)分析了薄膜样品的物相、光学特性和表面形貌。600℃以内,在C、M、A、R面蓝宝石衬底上生长纯相α-Ga_(2)O_(3)薄膜的温度窗口分别为420~480、480~550、590~600、540~600℃;对应纯相α-Ga_(2)O_(3)薄膜的光学带隙分别为5.12、5.23、5.25、5.21 eV。研究发现与C面蓝宝石衬底相比,在M、A、R面蓝宝石衬底上外延α-Ga_(2)O_(3)薄膜需要更高的生长温度,同时在M、A、R面蓝宝石衬底上获得的薄膜禁带宽度更大。样品表面形貌的SEM表征结果显示,不同晶面的α-Ga_(2)O_(3)薄膜表面形貌差异显著,C面蓝宝石衬底上α-Ga_(2)O_(3)薄膜存在“连续薄膜+大尺寸柱状岛”结构。本文关于不同晶面蓝宝石衬底外延α-Ga_(2)O_(3)薄膜的研究对α-Ga_(2)O_(3)材料的应用有一定参考价值。 展开更多
关键词 α-ga_(2)o_(3) 蓝宝石衬底 雾化学气相沉积 异质外延 生长温度 禁带宽度
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ε-Ga_(2)O_(3)晶体及其本征缺陷的第一性原理研究
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作者 郭满意 吴佳兴 +4 位作者 杨帆 王超 王艳杰 迟耀丹 杨小天 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第2期212-218,共7页
为了探究本征缺陷导电特性,本文采用第一性原理计算方法对ε-Ga_(2)O_(3)进行计算。首先计算ε-Ga 2O 3的晶格常数、能带间隙、态密度和能带结构,然后计算含有多种本征缺陷的ε-Ga_(2)O_(3)的态密度和能带结构,分析了它们的电学性质。... 为了探究本征缺陷导电特性,本文采用第一性原理计算方法对ε-Ga_(2)O_(3)进行计算。首先计算ε-Ga 2O 3的晶格常数、能带间隙、态密度和能带结构,然后计算含有多种本征缺陷的ε-Ga_(2)O_(3)的态密度和能带结构,分析了它们的电学性质。计算结果表明:ε-Ga_(2)O_(3)为直接带隙半导体,禁带宽度为4.26 eV,光吸收系数峰值在80 nm左右,在450 nm处接近零。在本征缺陷中,不同点位Ga空位缺陷使ε-Ga_(2)O_(3)呈现出p型导电特性,不同点位O空位缺陷没有改变ε-Ga_(2)O_(3)的导电特性;O取代Ga之后,ε-Ga_(2)O_(3)呈现p型导电特性;Ga取代O之后,ε-Ga_(2)O_(3)呈现n型导电特性;引入O填隙的ε-Ga_(2)O_(3)的导电特性没有变化;Ga填隙时ε-Ga_(2)O_(3)呈现n型导电特性。 展开更多
关键词 ε-ga_(2)o_(3)晶体 态密度 能带结构 导电特性 第一性原理 密度泛函理论
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β-Ga_(2)O_(3)的变形机理以及单晶衬底的机械加工技术研究进展
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作者 杨冉 金竹 +3 位作者 马可可 夏宁 张辉 杨德仁 《中国材料进展》 北大核心 2025年第2期199-208,共10页
β-Ga_(2)O_(3)是超宽禁带半导体的代表性材料之一,在电子器件、深紫外光电子器件等方面有广泛的应用前景。β-Ga_(2)O_(3)的力学性能在生长、衬底片加工以及器件制备过程中都有重要的影响。综述了β-Ga_(2)O_(3)低温和高温的变形机理,... β-Ga_(2)O_(3)是超宽禁带半导体的代表性材料之一,在电子器件、深紫外光电子器件等方面有广泛的应用前景。β-Ga_(2)O_(3)的力学性能在生长、衬底片加工以及器件制备过程中都有重要的影响。综述了β-Ga_(2)O_(3)低温和高温的变形机理,包括主导塑性变形的位错的滑移系和解理断裂机制的总结分析,旨在全面认识β-Ga_(2)O_(3)的变形行为和机理,为其制备、加工和应用过程中遇到的变形相关问题给出指导;针对β-Ga_(2)O_(3)衬底片的加工过程,对切割、研磨和抛光过程中涉及到的变形机理和工艺探索进行了详细介绍,讨论了加工过程中主要存在的问题以及解决问题的方向。 展开更多
关键词 氧化镓单晶 力学性能 变形机理 机械加工
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Sc-N共掺杂β-Ga_(2)O_(3)电子结构和光学性质的第一性原理研究
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作者 区力函 李海侠 +1 位作者 陈春宇 陈尚举 《中国陶瓷》 北大核心 2025年第1期26-33,共8页
基于密度泛函理论的第一性原理计算,研究了Sc单掺杂、N单掺杂和Sc–N共掺杂β-Ga_(2)O_(3)的晶格常数、电子结构以及光学性质。研究结果表明本征β-Ga_(2)O_(3)的带隙为1.99 eV,掺杂后所有掺杂体系的带隙变小,且均为直接带隙半导体,电... 基于密度泛函理论的第一性原理计算,研究了Sc单掺杂、N单掺杂和Sc–N共掺杂β-Ga_(2)O_(3)的晶格常数、电子结构以及光学性质。研究结果表明本征β-Ga_(2)O_(3)的带隙为1.99 eV,掺杂后所有掺杂体系的带隙变小,且均为直接带隙半导体,电子更加容易跃迁至导带,增强材料的对可见光的吸收性能;光学性质计算结果表明所有掺杂体系的静态介电常数变大,增强电荷束缚能力和极化能力,Sc–N共掺杂后改善β-Ga_(2)O_(3)的可见光区域和紫外光区域的吸收系数,表明Sc–N共掺杂β-Ga_(2)O_(3)的材料有望于应用紫外探测领域。 展开更多
关键词 第一性原理 β-ga_(2)o_(3) 电子结构 光学性质
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基于mist CVD的高纯相α-Ga_(2)O_(3)生长与光电响应特性研究
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作者 姚苏昊 张茂林 +4 位作者 季学强 杨莉莉 李山 郭宇锋 唐为华 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第2期233-243,共11页
超宽禁带半导体氧化镓(Ga_(2)O_(3))在功率电子和信息传感方面有重要应用,其高效、经济的制备方法是实现产业推广的重要环节。本文报道了一种Sn辅助雾相化学气相沉积(mist CVD)技术,基于这种非真空、低成本方法在c面蓝宝石衬底上成功外... 超宽禁带半导体氧化镓(Ga_(2)O_(3))在功率电子和信息传感方面有重要应用,其高效、经济的制备方法是实现产业推广的重要环节。本文报道了一种Sn辅助雾相化学气相沉积(mist CVD)技术,基于这种非真空、低成本方法在c面蓝宝石衬底上成功外延生长了高质量纯相α-Ga_(2)O_(3)薄膜。实验通过mist CVD生长温度的调控探索,获得了纯相α-Ga_(2)O_(3)薄膜外延生长的温度区间为500~600℃。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见吸收光谱、X射线光电子能谱(XPS)等方法对纯相α-Ga_(2)O_(3)薄膜进行了物相、形貌、光学特征、元素含量和价态表征,结果表明600℃生长的α-Ga_(2)O_(3)薄膜具有更高的结晶度,更致密和平整的表面形貌。进一步地,通过构建金属-半导体-金属(MSM)结构的光电探测器,研究了α-Ga_(2)O_(3)薄膜的深紫外(DUV)光电响应性能。500和600℃制备α-Ga_(2)O_(3)薄膜,其光暗电流比(PDCR)分别为5.85×10^(5)和7.48×10^(3),外量子效率(EQE)分别为21.8%和520%,响应度分别为0.044和1.09 A/W。在6 V偏压和254 nm光照下,500℃生长的α-Ga_(2)O_(3)薄膜的响应时间为0.97/0.36 s,600℃的样品响应时间却增大为2.89/4.92 s,这主要是Sn辅助生长在α-Ga_(2)O_(3)薄膜内形成了施主杂质,影响了载流子的输运效率。 展开更多
关键词 α-ga_(2)o_(3) 雾相化学气相沉积 Sn辅助生长 光电响应 沉积温度 掺杂激活
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沟槽结构β-Ga_(2)O_(3)SBD的设计与仿真
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作者 杨震 吴春艳 +3 位作者 吴霞 高金绪龙 陈强 解光军 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第2期196-202,231,共8页
在肖特基势垒二极管(Schottky barrier diode,SBD)漂移层表面刻蚀沟槽形成金属-绝缘体-半导体(metal-insulator-semiconductor,MIS)结构,抑制镜像力效应并减小器件的反向漏电流,是提升器件反向击穿特性的有效途径。为优化沟槽结构β-Ga_... 在肖特基势垒二极管(Schottky barrier diode,SBD)漂移层表面刻蚀沟槽形成金属-绝缘体-半导体(metal-insulator-semiconductor,MIS)结构,抑制镜像力效应并减小器件的反向漏电流,是提升器件反向击穿特性的有效途径。为优化沟槽结构β-Ga_(2)O_(3)SBD的结构参数,文章利用Silvaco Atlas软件仿真不同台面宽度和沟槽深度对器件性能的影响。结果表明,参数优化后(台面宽度1.0μm,沟槽深度0.5μm)的沟槽结构β-Ga_(2)O_(3)SBD开启电压为0.6 V、比导通电阻为1.69 mΩ·cm^(2)、击穿电压为1416 V、功率品质因数为1.19 GW/cm^(2),实现了兼具低开启电压和高击穿电压的良好器件性能。与基础结构SBD和场板结构SBD相比,优化后的器件性能得到显著提升。 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3) 肖特基势垒二极管(SBD) 沟槽结构 功率器件仿真
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金属掺杂对β-Ga_(2)O_(3)光催化分解水制氢性能的影响
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作者 苗瑞霞 牛佳美 +1 位作者 晏杰 贾小坛 《分子催化(中英文)》 北大核心 2025年第1期76-84,I0003,I0004,共11页
β-Ga_(2)O_(3)以其较高的导带底(Conduction Band Minimum,CBM)和较低的价带顶(Valence Band Maximum,VBM),赋予其光生电子和空穴较强的还原与氧化能力,但其宽禁带和高载流子复合率限制了在光催化中的应用.金属离子掺杂被认为是提升光... β-Ga_(2)O_(3)以其较高的导带底(Conduction Band Minimum,CBM)和较低的价带顶(Valence Band Maximum,VBM),赋予其光生电子和空穴较强的还原与氧化能力,但其宽禁带和高载流子复合率限制了在光催化中的应用.金属离子掺杂被认为是提升光催化性能的有效途径.本文基于第一性原理系统研究了Sr、Ba、V、Nb、Ta等二十种元素掺杂对β-Ga_(2)O_(3)光催化性能的影响,研究发现:Sr、Nb、Ta、Mn、Fe、Zn、Hg七种元素掺杂β-Ga_(2)O_(3)后,材料除能保持合适的带边位置外,还具有更高的电子空穴分离效率以及更低的形成能,表明这些元素的引入可有效提升β-Ga_(2)O_(3)光催化效率;Nb、Ta掺杂可显著增强材料在红外光区的吸收,Mn、Fe掺杂则显著提升材料在紫外和可见光区的吸收能力,其中,Nb在0.5 eV处光吸收系数高达1.38×10^(5)cm^(−1),Mn、Fe掺杂在3 eV处光吸收系数可达1×10^(5)cm^(−1),在不同波段均呈现出良好的光吸收能力.此外,Hg掺杂表现出跨红外至深紫外的宽波段增强效果,Hg掺杂后,电子空穴相对有效质量高达109,说明Hg掺杂显著提升载流子分离能力,同时由于其在宽波段显著增强的光吸收效果,因此,Hg可作为β-Ga_(2)O_(3)在光催化制氢中理想的金属掺杂元素,以上研究结果为β-Ga_(2)O_(3)光催化分解水制氢研究提供了价值参考. 展开更多
关键词 光催化 β-ga2o3 掺杂 光学性质
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β-Ga_(2)O_(3)热电性能的第一性原理计算
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作者 邓南发 周贤中 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2025年第1期180-188,共9页
通过使用第一性原理计算方法和玻尔兹曼输运理论,计算了β-Ga_(2)O_(3)的电学、热学和热电性质,并得出了热电性能因子随载流子浓度和温度的变化规律.此外,还考虑了声子散射和极性光学声子散射对平均电子弛豫时间的影响,并详细描述了不... 通过使用第一性原理计算方法和玻尔兹曼输运理论,计算了β-Ga_(2)O_(3)的电学、热学和热电性质,并得出了热电性能因子随载流子浓度和温度的变化规律.此外,还考虑了声子散射和极性光学声子散射对平均电子弛豫时间的影响,并详细描述了不同载流子浓度和温度下β-Ga_(2)O_(3)的Seebeck系数、电导率、电热导率和功率因数的计算结果.最后,给出了β-Ga_(2)O_(3)的热电性能因子随载流子浓度和温度的变化趋势.结果表明,在高载流子浓度和高温下,β-Ga_(2)O_(3)具有较高的热电性能因子. 展开更多
关键词 Ga_(2)o_(3) 第一性原理计算 波尔兹曼输运理论 热电性质
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铀对α-Al_(2)O_(3)中氢与本征点缺陷相互作用的影响
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作者 杨飞龙 向鑫 +2 位作者 胡立 张桂凯 陈长安 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2025年第5期123-129,共7页
在长期高温服役过程中,铀床的氚渗透泄露问题是聚变堆涉氚系统中需要关注的焦点之一,而一种行之有效的解决思路是在内壁制备阻氚涂层.然而,服役过程中通过热扩散渗入涂层内部的铀可能在阻氚涂层氢行为中起作用,进而影响其服役可靠性.基... 在长期高温服役过程中,铀床的氚渗透泄露问题是聚变堆涉氚系统中需要关注的焦点之一,而一种行之有效的解决思路是在内壁制备阻氚涂层.然而,服役过程中通过热扩散渗入涂层内部的铀可能在阻氚涂层氢行为中起作用,进而影响其服役可靠性.基于此,采用第一性原理计算方法,研究了铀对α-Al_(2)O_(3)中氢与本征点缺陷相互作用的影响.结果发现,铀对α-Al_(2)O_(3)中空位型本征点缺陷及氢相关缺陷的存在形式、电荷态及相对稳定性有重要影响.从形成能观点来看,铀对α-Al_(2)O_(3)中空位型本征点缺陷及氢相关缺陷的形成有利,且α-Al_(2)O_(3)中空位型点缺陷对氢的捕陷能力因铀的引入显著增加.研究结果对α-Al_(2)O_(3)基内壁阻氚涂层在氚工艺系统铀床中应用的可靠性评估具有重要的指导意义. 展开更多
关键词 本征点缺陷 氢相关缺陷 相互作用 α-Al_(2)o_(3)
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工艺参数对Al_(2)O_(3)-C耐火材料抗氧化性和抗水化性的影响
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作者 张瑞 孙旭东 +5 位作者 魏瀚 袁彪 王俊涛 袁林 刘士范 陈松林 《耐火材料》 北大核心 2025年第1期65-69,共5页
为了研究各因素对Al_(2)O_(3)-C耐火材料抗氧化和抗水化性能的影响,以优化其制备工艺,以板状刚玉、Al粉、电熔锆刚玉、活性氧化铝粉、鳞片石墨为主要原料,使用热固性酚醛树脂为结合剂,采用液压成型制成?50 mm×50 mm的圆柱体试样,... 为了研究各因素对Al_(2)O_(3)-C耐火材料抗氧化和抗水化性能的影响,以优化其制备工艺,以板状刚玉、Al粉、电熔锆刚玉、活性氧化铝粉、鳞片石墨为主要原料,使用热固性酚醛树脂为结合剂,采用液压成型制成?50 mm×50 mm的圆柱体试样,在埋碳气氛下对试样进行了热处理。选取Al粉加入量(加入质量分数分别为6%、9%和12%)、石墨加入量(加入质量分数分别为5%、15%和25%)、热处理温度(680、950、1 500℃)和保温时间(3、6、9 h)为研究因素,每个因素选取3个水平进行正交设计,分析了其对Al_(2)O_(3)-C耐火材料抗氧化和抗水化性能的影响。结果表明:1)Al粉加入量和石墨加入量为影响抗氧化性能的主要因素,而热处理温度和保温时间为次要因素;2)Al粉加入量和热处理温度是影响抗水化性能的主要因素,而石墨加入量和保温时间为次要因素;3)综合考虑,最优工艺为:Al粉加入量9%(w),石墨加入量5%(w),热处理温度1 500℃,保温时间6 h,制备的试样中存在柱状的Al_(4)O_(4)C,能够显著提高材料的抗氧化和抗水化性能。 展开更多
关键词 Al_(2)o_(3)-C耐火材料 Al_(4)o_(4)C 抗水化性能 抗氧化性能
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具有优异热稳定性的Sr1-xZrSi_(2)O_(7):xDy^(3+)荧光粉的制备及其发光性能
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作者 巴学巍 程诚 +2 位作者 张怀康 张德庆 李淑华 《无机化学学报》 北大核心 2025年第2期357-364,共8页
采用高温固相法制备了Sr_(1-x)ZrSi_(2)O_(7)∶xDy^(3+)荧光粉,并用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和荧光光谱仪对其晶体结构、形貌、光致发光特性和热稳定性进行了研究。结果表明,该荧光粉可以在353nm的近紫外光激发下获得蓝光(493nm)和... 采用高温固相法制备了Sr_(1-x)ZrSi_(2)O_(7)∶xDy^(3+)荧光粉,并用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和荧光光谱仪对其晶体结构、形貌、光致发光特性和热稳定性进行了研究。结果表明,该荧光粉可以在353nm的近紫外光激发下获得蓝光(493nm)和橙红光(581nm)发射峰,这2个峰分别归属于Dy^(3+)离子的^(4)F_(9/2)→^(6)H_(15/2)和^(4)F_(9/2)→^(6)H_(13/2)能级跃迁。在该荧光粉中,Dy^(3+)的猝灭浓度为0.03,猝灭机制是偶极-偶极相互作用。当温度升高到150℃时,其发光强度仍可以保持室温的83%,具有良好的热稳定性。 展开更多
关键词 Sr_(1-x)ZrSi_(2)o_(7):xDy^(3+) 荧光粉 热稳定性 浓度猝灭
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MnCe-Al_(2)O_(3)球形颗粒的制备及其催化燃烧环己烷性能
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作者 尤生萍 付换然 +2 位作者 秦璐 王康 王希涛 《天津大学学报(自然科学与工程技术版)》 北大核心 2025年第2期175-180,共6页
挥发性有机物(VOCs)的大量排放会导致环境污染和健康危害,催化燃烧是高效降解VOCs的重要手段之一.采用海藻酸盐溶胶-凝胶法合成了MnCe-Al_(2)O_(3)球形颗粒作为环己烷催化燃烧催化剂,结果表明,Mn催化剂中适当添加Ce可提高MnOx的分散性,... 挥发性有机物(VOCs)的大量排放会导致环境污染和健康危害,催化燃烧是高效降解VOCs的重要手段之一.采用海藻酸盐溶胶-凝胶法合成了MnCe-Al_(2)O_(3)球形颗粒作为环己烷催化燃烧催化剂,结果表明,Mn催化剂中适当添加Ce可提高MnOx的分散性,降低催化剂H_(2)-TPR还原温度.催化剂中Mn和Ce摩尔比为3∶1、煅烧温度650℃时,催化剂催化燃烧环己烷活性最高,可以在345℃实现环己烷的完全转化.反应24 h后,催化剂仍显示出几乎100%的环己烷转化率,表现了良好的催化稳定性.与浸渍法制备的催化剂相比,MnCe-31-Al_(2)O_(3)-650催化剂活性更高. 展开更多
关键词 挥发性有机物 MnCe-Al_(2)o_(3)球形颗粒 海藻酸盐溶胶-凝胶法 催化燃烧 环己烷
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N掺杂TiO_(2)-Fe_(2)O_(3)/C光催化剂的制备及其光催化降解性研究
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作者 李洁 张佳 +1 位作者 陈连喜 吕博 《化工新型材料》 北大核心 2025年第2期210-214,共5页
为寻找一种简便且具有良好孔结构的光催化剂合成路径,提升并拓宽其光催化应用范围,通过将N掺杂的双金属Ti-Fe MOFs在500℃的空气气氛中直接热解制备N掺杂TiO_(2)-Fe_(2)O_(3)/C纳米结构。获得的产物显示出独特的树枝状结构,且具有较大... 为寻找一种简便且具有良好孔结构的光催化剂合成路径,提升并拓宽其光催化应用范围,通过将N掺杂的双金属Ti-Fe MOFs在500℃的空气气氛中直接热解制备N掺杂TiO_(2)-Fe_(2)O_(3)/C纳米结构。获得的产物显示出独特的树枝状结构,且具有较大比表面积和良好的介孔结构。同时,红外光谱(FT-IR)和X射线光电子能谱(XPS)结果证实,在空气条件下煅烧后,衍生物仍保留了N和C成分。此外,将制备的N掺杂树枝状双金属结构多孔材料作为光催化剂用于降解亚甲基蓝(MB)染料。结果表明:N掺杂TiO_(2)-Fe_(2)O_(3)/C比N掺杂非Fe参与的TiO_(2)/C和非N非Fe掺杂TiO_(2)/C具有更好的光催化性能,且N掺杂TiO_(2)-Fe_(2)O_(3)/C对MB染料的有效降解率达到81%。 展开更多
关键词 Ti基-MoFs Fe基-MoFs Tio_(2)-Fe_(2)o_(3)/C N掺杂 光催化
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MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)类Fenton体系催化降解碘帕醇的性能
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作者 李昊 石楠 +2 位作者 武道吉 傅凯放 罗从伟 《工业水处理》 北大核心 2025年第1期66-72,共7页
以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为软模板,以硫代乙酰胺为硫源、钼酸钠为钼源,采用水热两步法制备了MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)复合材料。采用SEM、XRD等对MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)的形态结构进行了表征分析,考察了MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)/H_(2)O_(2)... 以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为软模板,以硫代乙酰胺为硫源、钼酸钠为钼源,采用水热两步法制备了MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)复合材料。采用SEM、XRD等对MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)的形态结构进行了表征分析,考察了MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)/H_(2)O_(2)体系催化降解碘帕醇(IPM)的效能和作用机理。结果显示,Fe_(3)O_(4)成功负载在MoS_(2)表面,且MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)呈均匀分散的花球状结构,提供了更多催化活性位点。在溶液初始pH为4,MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)投加量为0.15 g/L,H_(2)O_(2)浓度为0.5 mmol/L,IPM浓度为5μmol/L条件下,反应30 min后MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)/H_(2)O_(2)体系对IPM的降解率达到89.85%,与Fe_(3)O_(4)/H_(2)O_(2)体系相比,对IPM的降解率提高约12%。MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)/H_(2)O_(2)体系降解IPM的主要活性物种为·OH和^(1)O_(2)。利用外加磁场能够实现MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)催化剂的循环再利用,6次循环使用后,反应30 min时MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)/H_(2)O_(2)体系对IPM的降解率仍在80%以上,表明MoS_(2)@Fe_(3)O_(4)在反应过程中具有良好的稳定性。 展开更多
关键词 非均相FENToN 二硫化钼 四氧化三铁 碘帕醇
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Al_(2)O_(3)-TiO_(2)复合溶胶性能测定及覆膜参数研究
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作者 郭雅妮 王佳庆 +3 位作者 詹辉 陈维星 张博怡 同帜 《西安工程大学学报》 2025年第1期104-110,120,共8页
为提升多孔陶瓷膜性能,优化Al_(2)O_(3)-TiO_(2)复合溶胶对陶瓷膜支撑体的覆膜条件,采用溶胶-凝胶法制备复合溶胶涂膜液,粉煤灰为骨料制作陶瓷膜支撑体,以浸渍提拉法将涂膜液与支撑体进行涂膜复合,探究涂膜过程中涂膜次数、提拉速度、... 为提升多孔陶瓷膜性能,优化Al_(2)O_(3)-TiO_(2)复合溶胶对陶瓷膜支撑体的覆膜条件,采用溶胶-凝胶法制备复合溶胶涂膜液,粉煤灰为骨料制作陶瓷膜支撑体,以浸渍提拉法将涂膜液与支撑体进行涂膜复合,探究涂膜过程中涂膜次数、提拉速度、浸渍时间等因素对支撑体覆膜的影响。通过测定覆膜支撑体纯水通量、抗折强度、微观形貌及膜附着力等因素表征其覆膜效果。结果表明:Al_(2)O_(3)-TiO_(2)复合溶胶涂膜次数为3次、浸渍时间为60 s、提拉速度恒定为3 mm/s时,所得覆膜后陶瓷膜层厚度均匀、表面形貌较为完整。 展开更多
关键词 Al_(2)o_(3)-Tio_(2)复合溶胶 粉煤灰 多孔陶瓷膜 纯水通量 抗折强度
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Si掺杂对Ga_(2)O_(3)/BP异质结光电性能调控的第一性原理研究 被引量:1
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作者 李佳宏 郝增瑞 +2 位作者 薛瑞鑫 阚红梅 关玉琴 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2025年第4期131-137,共7页
近年来,氧化镓(Ga_(2)O_(3))是新一代超宽禁带(4.9 eV)半导体,基于优越的热稳定和化学稳定性、高击穿场强和可见光透过率等优点,在日盲紫外探测器和透明光电器件领域中引起了广泛的关注.但是,Ga_(2)O_(3)基光电器件存在迁移率较低而限... 近年来,氧化镓(Ga_(2)O_(3))是新一代超宽禁带(4.9 eV)半导体,基于优越的热稳定和化学稳定性、高击穿场强和可见光透过率等优点,在日盲紫外探测器和透明光电器件领域中引起了广泛的关注.但是,Ga_(2)O_(3)基光电器件存在迁移率较低而限制其应用的现象,而构建合适的Ga_(2)O_(3)异质结是改善光电探测器的光电性能的有效手段之一.基于第一性原理构建β-Ga_(2)O_(3)/BP异质结模型,研究了氧空位(Vo)和Si掺杂对β-Ga_(2)O_(3)/BP异质结光电性质的调控以及相关机理.结果显示:β-Ga_(2)O_(3)/BP异质结结构有效降低β-Ga_(2)O_(3)功函数,提高灵敏度,Si掺杂降低结合能,增强稳定性;β-Ga_(2)O_(3)/BP异质结有效减小带隙,Si掺杂以及氧空位的存在,进一步减小带隙,增强光导电性,并且Si掺杂引起了光电导各向异性.此结果对改善Ga_(2)O_(3)基异质结光电性能提供理论参考. 展开更多
关键词 β-ga_(2)o_(3)/BP异质结 缺陷 光电性质 第一性原理
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