期刊文献+
共找到1,056篇文章
< 1 2 53 >
每页显示 20 50 100
Petrogenesis of the Langdu High-K Calc-Alkaline Intrusions in Yunnan Province: Constraints from Geochemistry and Sr-Nd Isotopes 被引量:3
1
作者 REN Tao ZHANG Xingchun +1 位作者 HAN Runsheng MA Meijuan 《Acta Geologica Sinica(English Edition)》 SCIE CAS CSCD 2013年第2期454-466,共13页
The Langdu high-K calc-alkaline intrusions are located in the Zhongdian area, which is the southern part of the Yidun island arc. These intrusive rocks consist mainly of monzonite porphyry, granodiorite, and diorite p... The Langdu high-K calc-alkaline intrusions are located in the Zhongdian area, which is the southern part of the Yidun island arc. These intrusive rocks consist mainly of monzonite porphyry, granodiorite, and diorite porphyry. The K20 content of majority of these rocks is greater than 3%, and, in the K20-SiO2 diagram, all the samples fall into the high-K calc-alkaline to shoshonitic fields. They are enriched in light rare earth elements (LREEs) and depleted in heavy rare earth elements (HREEs; LaN/YbN = 14.3-21.2), and show slightly negative Eu anomalies (6Eu = 0.77-1.00). These rocks have high K, Rb, Sr, and Ba contents; moderate to high enrichment of compatible elements (Cr = 36.7-79.9 ppm, Co = 9.6-16.4 ppm, and MgO = 2.2%-3.4%); low Nb, Ta, and Ti contents, and characteristic of low high field strength elements(HFSEs) versus incompatible elements ratios (Nb/Th = 0.75, Nb/La = 0.34) and incompatible elements ratios (Nb/U = 3.0 and Ce/Pb = 5.1, Ba/Rb = 12.0). These rocks exhibit restricted Sr and Nd isotopic compositions, with (87Sr/S6Sr)i values ranging from 0.7044 to 0.7069 and ENd(t) values from -2.8 to -2.2. The Sr-Nd isotope systematic and specific trace element ratios suggest that Langdu high-K calc-alkaline intrusive rocks derived from a metasomatized mantle source. The unique geochemical feature of intrusive rocks can be modeled successfully using different members of a slightly enriched mantle, a slab-derived fluid, and terrigenous sediments. It can be inferred that the degree of partial melting and the presence of specific components are temporally related to the tectonic evolution of the Zhongdian island arc. Formation of these rocks can be explained by the various degrees of melting within an ascending region of the slightly enriched mantle, triggered by the subduction of the Garz^--Litang ocean, and an interaction between the slab-derived fluid and the terrigenous sediments. 展开更多
关键词 high-k calc-alkaline intrusions GEOCHEMISTRY isotope Zhongdian island arc
在线阅读 下载PDF
基于N-K和SNA的高层住宅火灾事故风险因素分析及控制
2
作者 武乾 杨建宏 徐树文 《防灾减灾工程学报》 北大核心 2025年第1期128-136,178,共10页
高层住宅火灾安全防控是一个复杂系统问题,从系统层面确定其风险耦合形式及关键风险因素对提升我国高层住宅消防安全水平具有重要意义。为分析高层住宅火灾事故风险因素并提出防控策略,通过收集2015~2023年我国发生的162起高层住宅火灾... 高层住宅火灾安全防控是一个复杂系统问题,从系统层面确定其风险耦合形式及关键风险因素对提升我国高层住宅消防安全水平具有重要意义。为分析高层住宅火灾事故风险因素并提出防控策略,通过收集2015~2023年我国发生的162起高层住宅火灾较大事故案例,结合专家访谈和已有的事故致因分类模型,将高层住宅火灾事故风险因素分为5类一级风险因素和26个二级风险因素;基于N-K模型求解出风险因素耦合值,将风险耦合形式量化并进行耦合致险性评价;利用社会网络分析(Social Network Analysis,SNA)可视化风险因素间的作用关系,分析其中心度和可达性,挖掘出风险因素的发展态势和诱发其他风险因素出现的可能性;结合N-K和SNA对各风险节点的出度进行修正,确定高层住宅火灾事故的关键风险因素。结果表明:多风险因素耦合导致事故发生的概率较大;火灾事故的起因在较大程度上是居民方的原因,开发商、物业、社区、监管单位四方的风险易使灾情扩大、程度升级;防控开发商-监管单位两风险因素耦合可有效避免事故发生;开发商、社区、监管单位风险因素的出现易连通各风险节点,引发耦合效应;从开发商、物业、社区及监管单位角度出发进行防控是重点。 展开更多
关键词 安全工程 高层住宅 火灾事故 N-k模型 社会网络分析 风险耦合
在线阅读 下载PDF
4H-SiC基功率器件的high-k栅介质材料研究进展
3
作者 刘帅 宋立辉 +1 位作者 杨德仁 皮孝东 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第12期2027-2042,共16页
金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)作为碳化硅绝缘栅结构的典型器件被广泛使用,然而SiO_(2)介电常数低的缺点和SiO_(2)/4H-SiC界面特性差的问题一直制约着4H-SiC绝缘栅结构(金属-绝缘体-半导体,MIS)器件更大规模商业化应用,因此科... 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)作为碳化硅绝缘栅结构的典型器件被广泛使用,然而SiO_(2)介电常数低的缺点和SiO_(2)/4H-SiC界面特性差的问题一直制约着4H-SiC绝缘栅结构(金属-绝缘体-半导体,MIS)器件更大规模商业化应用,因此科研工作者一直致力于寻找能够替代或弥补SiO_(2)的high-k栅介质材料。本文对该科学问题的研究现状进行综述,首先指出合适的high-k栅介质材料应该拥有较宽的禁带宽度、较高的介电常数、良好的界面特性和热稳定性。然后,主要从栅薄膜制备工艺、沉积温度、栅介质界面特性和电学性能等方面对典型high-k栅介质材料的研究结果进行评价,包括氧化铪(HfO_(2))、氧化铝(Al_(2)O_(3))、氮化铝(AlN)、氧化钇(Y_(2)O_(3))、氧化铈(CeO_(2))、氧化锆(ZrO_(2))、氧化镧(La_(2)O_(3))、五氧化二钽(Ta_(2)O_(5))、钛酸钡(BaTiO_(3))、氧化钬(Ho_(2)O_(3))和由它们组合而成的堆栈栅介质。最后,对未来该领域的研究方向进行了展望和建议,例如对栅漏电流机理的研究、对新材料的更多尝试、器件在极端环境下的可靠性问题等。 展开更多
关键词 4H-SiC MOS电容器 high-k栅介质材料 堆栈栅介质 界面特性 电学性能
在线阅读 下载PDF
基于K近邻算法的高粘结性能混凝土抗压强度预测
4
作者 伍晓圆 刘艳 《粘接》 2025年第3期24-27,共4页
针对掺合料种类繁多,无法适应粘结界面的粗糙度,降低了抗压强度的预测精度问题,从不同硅灰掺量、钢纤维掺量、粉煤灰掺量角度,制备不同配合比条件的高粘结性能混凝土试件,将不同配合比掺量数据作为K近邻算法的输入,以适应粘结界面的粗糙... 针对掺合料种类繁多,无法适应粘结界面的粗糙度,降低了抗压强度的预测精度问题,从不同硅灰掺量、钢纤维掺量、粉煤灰掺量角度,制备不同配合比条件的高粘结性能混凝土试件,将不同配合比掺量数据作为K近邻算法的输入,以适应粘结界面的粗糙度,计算新配比样本与参考配比样本配比特征的欧几里得距离,将距离最小的参考配比样本中混凝土抗压强度作为新配比样本中混凝土抗压强度预测值,提高抗压强度的预测精度。试验结果表明,硅灰掺量、钢纤维掺量、粉煤灰掺量分别是25%、4%、10%时,高粘结性能混凝土抗压强度较优。 展开更多
关键词 k近邻算法 高粘结性能 抗压强度 超高性能混凝土 配合比
在线阅读 下载PDF
60 K直线型百赫兹脉管制冷机优化及实验研究
5
作者 王晓玫 陈曦 +3 位作者 周振东 王利峰 张宇轩 祁影霞 《真空与低温》 2025年第1期80-87,共8页
目前空间用红外探测器对工作温区和冷量的需求日益增长,在低温制冷机的轻量化方面提出了更高的要求。高频脉管制冷机因具备结构紧凑、轻便、低噪声以及高运行可靠性等特性,而被视为冷却红外探测器件的理想冷源。国内外对于60 K温区下100... 目前空间用红外探测器对工作温区和冷量的需求日益增长,在低温制冷机的轻量化方面提出了更高的要求。高频脉管制冷机因具备结构紧凑、轻便、低噪声以及高运行可靠性等特性,而被视为冷却红外探测器件的理想冷源。国内外对于60 K温区下100 Hz频率的脉管制冷机方面研究较少,工作频率均在50 Hz左右。为了满足空间红外焦平面阵列所需温区及冷量,本文设计并研制了一台小型直线型100 Hz高频60 K脉管制冷机,利用Regen3.3对关键部件-回热器进行了优化分析,得出回热器长度、填料丝网目数以及分层填充时的比例对回热器损失以及制冷系数的影响规律。基于Sage软件对脉管制冷机内脉冲管、调相机构等重要部件结构参数进行仿真模拟与优化设计,其中制冷机的冷指部分质量仅为1.5 kg。此外,通过搭建脉管制冷机测试系统,深入分析运行频率、水冷温度以及输入电功对脉管制冷机性能的影响。研究结果表明:当回热器内混合填充1∶1的400目和635目的不锈钢丝网时,脉管制冷机的性能达到最优。与单段惯性管调相相比,采用变径的多段惯性管可显著提高制冷机的制冷性能。实验结果显示:在输入300 W电功时,可以获得42.69 K无负荷最低温度;在60 K可以得到7.4 W的制冷量,整机相对卡诺效率为9.6%。研究结果为相同温区下小型高频脉管制冷机设计提供有益参考。 展开更多
关键词 脉管制冷机 高频 60 k温区 制冷性能 实验
在线阅读 下载PDF
KELIM及BRCA突变状态在预测晚期高级别浆液性卵巢癌预后中的价值
6
作者 江珊 朱靖 +3 位作者 王莹莹 邢娟 申震 周颖 《现代妇产科进展》 2025年第3期185-190,195,共7页
目的:探究糖类抗原125消除速率常数K(KELIM)及BRCA突变状态对接受初次肿瘤细胞减灭术(PDS)的晚期高级别浆液性卵巢癌(HGSOC)患者的预后价值。方法:回顾分析2018年1月至2022年12月中国科学技术大学附属第一医院(安徽省立医院)收治的212例... 目的:探究糖类抗原125消除速率常数K(KELIM)及BRCA突变状态对接受初次肿瘤细胞减灭术(PDS)的晚期高级别浆液性卵巢癌(HGSOC)患者的预后价值。方法:回顾分析2018年1月至2022年12月中国科学技术大学附属第一医院(安徽省立医院)收治的212例行PDS的晚期HGSOC患者的临床信息及随访资料,计算患者的KELIM值并分析其对晚期HGSOC患者的预后价值,同时探讨KELIM联合BRCA1/2基因突变状态对于患者的预后价值。结果:212例晚期HGSOC患者中KELIM值<1组102例(48.1%),KELIM值≥1组110例(51.9%)。KELIM<1组的化疗疗程数、使用抗血管生成药物比例高于KELIM≥1组(P=0.001)。Logistic回归分析结果显示,无肉眼残余病灶(P=0.005)、KELIM≥1(P=0.003)及携带BRCA突变(P=0.007)为有效的预测铂耐药因素。生存分析结果表明,无肉眼残余病灶、携带BRCA基因突变及KELIM≥1是影响患者无进展生存期(PFS)的独立预测因素(P<0.05);FIGOⅢ期(HR=0.420,95%CI为0.215~0.821)及KELIM≥1(HR=0.460,95%CI为0.234~0.908)是预测晚期HGSOC患者总生存期(OS)的独立影响因素。亚组分析中,KELIM对于BRCA基因突变患者的PFS及OS有显著预测价值,而在野生型患者中无显著差异。结论:KELIM值可作为评估晚期HGSOC患者预后的指标之一,尤其是携带BRCA基因突变的人群。 展开更多
关键词 高级别浆液性卵巢癌 糖类抗原125 CA125消除速率常数k
在线阅读 下载PDF
基于高空台排气扩压器非平衡流动k-ωSST湍流模型系数优化
7
作者 聂博文 张健平 +3 位作者 张松 但志宏 陈律江 杨豪 《机床与液压》 北大核心 2025年第2期125-133,共9页
为了准确模拟高空台排气扩压器湍流非平衡流动,采用Fluent软件分析k-ωSST湍流模型系数对扩压器出口静压模拟精度的影响,并通过响应面试验优化模型系数。结果表明:随着α_(1)的增大,模拟精度先提高后降低,达到0.341后保持不变。β^(*)... 为了准确模拟高空台排气扩压器湍流非平衡流动,采用Fluent软件分析k-ωSST湍流模型系数对扩压器出口静压模拟精度的影响,并通过响应面试验优化模型系数。结果表明:随着α_(1)的增大,模拟精度先提高后降低,达到0.341后保持不变。β^(*)的增大使模拟值逐渐接近目标值,从而提高精度;当模拟值大于目标值时,精度先降低再提高;而模拟值小于目标值时,精度急剧降低。β_(2)的增大也使得模拟值逐渐接近目标值,从而提高精度;当模拟值小于目标值,精度急剧降低。而σ_(ω2)的增大则使得模拟值迅速接近目标值,提高精度;但当模拟值小于目标值时,精度缓慢降低。模型系数α_(1)、β^(*),β_(2)、σ_(ω2)优选范围为0.2973~0.325、0.056~0.098、0.0756~0.089、0.69~1.1984。在此基础上,通过响应面试验显著性分析得到敏感性顺序为α_(1)>β_(2)>β^(*)>σ_(ω2),β^(*)与α_(1)、α_(1)和σ_(ω2)、β_(2)和β^(*)交互作用的影响显著,模型系数α_(1)、β^(*)、β_(2)、σ_(ω2)最佳组合为0.3052、0.0611、0.0826、0.853。最后通过试验验证合理性,结果表明模型系数最佳组合能较好地提高模拟计算准确性。 展开更多
关键词 k-ωSST湍流模型系数 不确定性 高空台排气扩压器 数值模拟 响应面试验
在线阅读 下载PDF
具有高K背栅的无电压回跳RC-IGBT静态特性研究
8
作者 王楠 徐勇根 胡夏融 《现代电子技术》 北大核心 2025年第4期34-39,共6页
针对传统RC-IGBT导通压降大、击穿电压低等问题,提出一种具有高介电常数(高K)背栅的RC-IGBT器件结构,其特点是位于底部集电极的背栅介质采用高介电常数材料。高K介质增大了正向导通时背栅周围的空穴浓度,不仅消除了电压回跳,还降低了导... 针对传统RC-IGBT导通压降大、击穿电压低等问题,提出一种具有高介电常数(高K)背栅的RC-IGBT器件结构,其特点是位于底部集电极的背栅介质采用高介电常数材料。高K介质增大了正向导通时背栅周围的空穴浓度,不仅消除了电压回跳,还降低了导通压降。仿真结果表明:在高正向导通电流密度下(I_(CE)=925 A/cm^(2)),高K背栅RC-IGBT的导通压降为1.71 V,相比传统RC-IGBT降低了19.34%,相比氧化层背栅RC-IGBT降低了13.20%;另一方面,在阻断状态下,高K介质增强了背栅周围的电子积累,增大了击穿电压。高K背栅RC-IGBT的击穿电压为1 312 V,相较于氧化层背栅RC-IGBT提高了44.18%。此外,高K背栅RC-IGBT的反向导通压降相比传统RC-IGBT降低了43.43%,相比氧化层背栅RC-IGBT降低了13.85%。将所提出的高K背栅的RC-IGBT应用于高压、大功率的电子电力系统,可提高系统的可靠性并降低损耗。 展开更多
关键词 RC-IGBT 电压回跳 高介电常数 背栅 导通压降 阻断特性
在线阅读 下载PDF
High-k材料研究进展与存在的问题 被引量:4
9
作者 杨雪娜 王弘 +4 位作者 张寅 姚伟峰 尚淑霞 周静涛 刘延辉 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期731-735,共5页
随着集成电路的飞速发展,SiO2作为传统的栅介质将不能满足MOSFET器件高集成度的要求,需要一种新型High-k材料来代替传统的SiO2,这就要综合考虑以下几个方面问题:(1)介电常数和势垒高度;(2)热稳定性;(3)薄膜形态;(4)界面质量;(5)与Si基... 随着集成电路的飞速发展,SiO2作为传统的栅介质将不能满足MOSFET器件高集成度的要求,需要一种新型High-k材料来代替传统的SiO2,这就要综合考虑以下几个方面问题:(1)介电常数和势垒高度;(2)热稳定性;(3)薄膜形态;(4)界面质量;(5)与Si基栅兼容;(6)工艺兼容性;(7)可靠性。本文综述了几类High-k栅介质材料的研究现状及存在的问题。目前任何一种有望替代SiO2的栅介质材料都不能完全满足上述几点要求。但是,科学工作者们已经发现了几种有希望的High-k候选材料。 展开更多
关键词 high-k材料 介电常数 势垒高度 热稳定性 薄膜形态 界面质量 栅介质材料 半导体材料
在线阅读 下载PDF
TiO_2/Al_2O_3堆栈结构high-k薄膜的制备及性能 被引量:1
10
作者 凌惠琴 丁冬雁 +2 位作者 周晓强 李明 毛大立 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第A01期326-329,共4页
采用磁控溅射法制备了TiO_2/Al_2O_3堆栈结构高k栅介质薄膜,研究了不同后处理条件对等效氧化物厚度,界面电荷和界面扩散的影响。实验结果表明:400℃退火后,TiO_2已经结晶,退火可以降低漏电流密度和介电层中的电荷密度。同时,退火使Ti进... 采用磁控溅射法制备了TiO_2/Al_2O_3堆栈结构高k栅介质薄膜,研究了不同后处理条件对等效氧化物厚度,界面电荷和界面扩散的影响。实验结果表明:400℃退火后,TiO_2已经结晶,退火可以降低漏电流密度和介电层中的电荷密度。同时,退火使Ti进一步向Al_2O3层扩散,形成TiO_2和Al_2O_3的混合层,Al_2O_3层过薄时不能有效阻挡TiO_2的扩散。 展开更多
关键词 TiO2/Al2O3 堆栈结构 high-k 界面层
在线阅读 下载PDF
High-k材料MOS器件的PISCES-II模拟 被引量:1
11
作者 陈震 向采兰 余志平 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2003年第3期65-67,72,共4页
High-k材料是指介电常数k高于SiO2的材料。使用high-k材料做栅绝缘层,是减小MOS器件栅绝缘层直接隧道击穿(DirectTunneling,DT)电流的有效方法。文章在二维器件模拟软件PISCES-II中添加了模拟以high-k材料为栅绝缘层的MOS器件模型,并对S... High-k材料是指介电常数k高于SiO2的材料。使用high-k材料做栅绝缘层,是减小MOS器件栅绝缘层直接隧道击穿(DirectTunneling,DT)电流的有效方法。文章在二维器件模拟软件PISCES-II中添加了模拟以high-k材料为栅绝缘层的MOS器件模型,并对SiO2和high-k材料的MOS晶体管器件特性进行了模拟比较,成功地验证了所加high-k材料MOS器件模型的正确性。改进后的PISCES-II程序,可以方便地对以各种high-k材料为栅绝缘层的器件性能进行模拟。 展开更多
关键词 high-k材料 MOS器件 PISCES-Ⅱ模拟 隧道击穿 MOSFET器件
在线阅读 下载PDF
Gate Current for MOSFETs with High k Dielectric Materials 被引量:2
12
作者 刘晓彦 康晋锋 韩汝琦 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第10期1009-1013,共5页
The MOSFET gate currents of high k gate dielectrics due to direct tunneling are investigated by using a new direct tunneling current model developed.The model includes both the inversion layer quantization effect with... The MOSFET gate currents of high k gate dielectrics due to direct tunneling are investigated by using a new direct tunneling current model developed.The model includes both the inversion layer quantization effect with finite barrier height and the polysilicon depletion effect.The impacts of dielectric constant and conduction band offset as well as the band gap on the gate current are discussed.The results indicate that the gate dielectric materials with higher dielectric constant,larger conduction band offset and the larger band gap are necessary to reduce the gate current.The calculated results can be used as a guide to select the appropriate high k gate dielectric materials for MOSFETs. 展开更多
关键词 MOSFET direct tunneling gate current high k gate dielectric
在线阅读 下载PDF
MOS器件Hf基高k栅介质的研究综述
13
作者 吕品 白永臣 邱巍 《辽宁大学学报(自然科学版)》 CAS 2024年第1期24-32,共9页
随着金属氧化物半导体(MOS)器件尺寸的持续缩小,HfO2因其介电常数(k)高、带隙大等特点,成为取代传统SiO2栅介质最有希望的候选材料.本文综述了Hf基高k栅介质薄膜的近年的研究进展.针对HfO2结晶温度低、在HfO2薄膜和Si衬底间易形成界面... 随着金属氧化物半导体(MOS)器件尺寸的持续缩小,HfO2因其介电常数(k)高、带隙大等特点,成为取代传统SiO2栅介质最有希望的候选材料.本文综述了Hf基高k栅介质薄膜的近年的研究进展.针对HfO2结晶温度低、在HfO2薄膜和Si衬底间易形成界面层导致漏电流大、界面态密度高、击穿电压低等问题,回顾了最近论文报道的两种策略,即掺杂改性和插入缓冲层.接着举例讨论了Hf基材料从二元到掺杂氧化物/复合物的演变、非Si衬底上淀积Hf基高k栅介质、Hf基高k栅介质的非传统MOS器件结构,为集成电路(IC)中MOS器件的长期发展提供一些思路. 展开更多
关键词 Hf基高k材料 栅介质 MOS器件 介电常数
在线阅读 下载PDF
A Preliminary Study on Dynamics and Models of N,P,K Absorption for High-Yield Cotton 被引量:6
14
作者 WANGKe-ru LIShao-kun +3 位作者 CAOLian-pu SONGGuang-jie CHENGang CAOSuan-zhu 《Agricultural Sciences in China》 CAS CSCD 2003年第7期752-759,共8页
The field experiments were carried out to investigate the dynamics and models of N, P and K absorption for the cotton plants with a lint of 3 000 kg ha-1 in Xinjiang. The main results were as follows: The contents of ... The field experiments were carried out to investigate the dynamics and models of N, P and K absorption for the cotton plants with a lint of 3 000 kg ha-1 in Xinjiang. The main results were as follows: The contents of N, P2O5, K2O in cotton leaves, stems, squares and bolls decreased obviously with the time over the whole growth duration and the falling extent was greater in high-yield cotton than in CK. Contents of N in leaves, squares and bolls, in particular in the leaves of fruit-bearing shoot was higher in high-yield cotton than in CK. Contents of P2O5 in squares and bolls and that of K2O in stems were higher in high-yield cotton than in CK during the whole growing period. The accumulations of N, P2O5 and K2O in the cotton plants could be described with a logistic curve equation. There was the fastest nutrient uptake at about 90 d for N, 92 d for P2O5 and 85 d for K2O after emergence, respectively. Total nutrient accumulation of N, P2O5 and K2O was 385.8, 244. 7 and 340.3 kg ha-1, respectively. Approximately 12. 5 kg N, 8. 0 kg P2O5 and 11.1 kg K2O were needed for producing 100 kg lint with the leaves and stems under the super high yield condition of 3 000 kg ha-1 in Xinjiang. 展开更多
关键词 XINJIANG Cultivation of high yield COTTON N P k Absorption dynamics Model
在线阅读 下载PDF
Characterization of Sub-100nm MOSFETs with High K Gate Dielectric
15
作者 朱晖文 刘晓彦 +2 位作者 沈超 康晋锋 韩汝琦 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第9期1107-1111,共5页
The short-channel performance of typical 70nm MOSFETs with high K gate dielectric is widely studied by using a two dimensional(2-D) device simulator.The short-channel performance is degraded from the fringing field a... The short-channel performance of typical 70nm MOSFETs with high K gate dielectric is widely studied by using a two dimensional(2-D) device simulator.The short-channel performance is degraded from the fringing field and lower the source/drain junction resistance.The sidewall material is found very useful to eliminate the fringing-induced berrier lowing effect. 展开更多
关键词 high k materials gate dielectrics MOSFET
在线阅读 下载PDF
Exosomes Derived from Human Umbilical Cord Mesenchymal Stem Cells Enhance the Osteoblastic Differentiation of Periodontal Ligament Stem Cells Under High Glucose Conditions Through the PI3K/AKT Signaling Pathway 被引量:6
16
作者 YANG Shuo ZHU Biao +4 位作者 TIAN Xiao Yu YU Han Ying QIAO Bo ZHAO Li Sheng ZHANG Bin 《Biomedical and Environmental Sciences》 SCIE CAS CSCD 2022年第9期811-820,共10页
Objective High glucose(HG)can influence the osteogenic differentiation ability of periodontal ligament stem cells(PDLSCs).Human umbilical cord mesenchymal stem cell-derived exosomes(hUCMSC-exo)have broad application p... Objective High glucose(HG)can influence the osteogenic differentiation ability of periodontal ligament stem cells(PDLSCs).Human umbilical cord mesenchymal stem cell-derived exosomes(hUCMSC-exo)have broad application prospects in tissue healing.The current study aimed to explore whether hUCMSC-exo could promote the osteogenic differentiation of hPDLSCs under HG conditions and the underlying mechanism.Methods We used a 30 mmol/L glucose concentration to simulate HG conditions.CCK-8 assay was performed to evaluate the effect of hUCMSC-exo on the proliferation of hPDLSCs.Alkaline phosphatase(ALP)staining,ALP activity,and qRT-PCR were performed to evaluate the pro-osteogenic effect of hUCMSC-exo on hPDLSCs.Western blot analysis was conducted to evaluate the underlying mechanism.Results The results of the CCK-8 assay,ALP staining,ALP activity,and qRT-PCR assay showed that hUCMSC-exo significantly promoted cell proliferation and osteogenic differentiation in a dosedependent manner.The Western blot results revealed that hUCMSC-exo significantly increased the levels of p-PI3K and p-AKT in cells,and the effect was inhibited by LY294002(PI3K inhibitor)or MK2206(AKT inhibitor),respectively.Moreover,the increases in osteogenic indicators induced by hUCMSC-exo were significantly suppressed by LY294002 and MK2206.Conclusion hUCMSC-exo promote the osteogenic differentiation of hPDLSCs under HG conditions through the PI3K/AKT signaling pathway. 展开更多
关键词 EXOSOMES Human umbilical cord mesenchymal stem cell Periodontal ligament stem cell Osteogenic differentiation high glucose PI3k/AkT
在线阅读 下载PDF
Fabrication and characteristics of high-K HfO2 gate dielectrics on n-germanium 被引量:2
17
作者 韩德栋 康晋锋 +3 位作者 刘晓彦 孙雷 罗浩 韩汝琦 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第1期245-248,共4页
This paper reports that the high-K HfO2 gate dielectrics are fabricated on n-germanium substrates by sputtering Hf on Ge and following by a furnace annealing. The impacts of sputtering ambient, annealing ambient and a... This paper reports that the high-K HfO2 gate dielectrics are fabricated on n-germanium substrates by sputtering Hf on Ge and following by a furnace annealing. The impacts of sputtering ambient, annealing ambient and annealing temperature on the electrical properties of high-K HfO2 gate dielectrics on germanium substrates are investigated. Experimental results indicate that high-K HfO2 gate dielectrics on germanium substrates with good electrical characteristics are obtained, the electrical properties of high-K HfO2 gate dielectrics is strongly correlated with sputtering ambient, annealing ambient and annealing temperature. 展开更多
关键词 GERMANIUM high-k HFO2
在线阅读 下载PDF
6 W@80 K空间同轴脉管制冷机设计与实验研究 被引量:1
18
作者 王冲聪 庄昌佩 +4 位作者 闫春杰 罗新奎 许国太 何嘉华 屈方杰 《低温工程》 CAS CSCD 北大核心 2024年第2期1-7,43,共8页
针对某空间红外载荷需求,基于Sage平台搭建了同轴脉管制冷机整机模型,根据仿真结果对冷头结构参数进行了设计计算。在此基础上,利用实验方法探究了回热器填充方式、惯性管组合方式、充气压力、输入功率、冷头方向对制冷机性能的影响,并... 针对某空间红外载荷需求,基于Sage平台搭建了同轴脉管制冷机整机模型,根据仿真结果对冷头结构参数进行了设计计算。在此基础上,利用实验方法探究了回热器填充方式、惯性管组合方式、充气压力、输入功率、冷头方向对制冷机性能的影响,并与仿真结果比较,两者吻合度较高。研制成功的脉管制冷机整机质量为3.5 kg,输入功率150 W时,无负荷制冷温度为39.74 K,可获得7.23 W@80 K的冷量,整机相对卡诺效率13.26%,在空间用同轴脉管制冷机中处于先进水平。 展开更多
关键词 空间 80 k 同轴脉管 高效 制冷机
在线阅读 下载PDF
Enhanced Loading of ^(40)K from Natural Abundance Potassium Source with a High Performance 2D^+ MOT 被引量:1
19
作者 杨江陵 龙云 +3 位作者 高威威 晋兰 左战春 王如泉 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2018年第3期22-24,共3页
40K is one of the most important atomic species for ultra-cold atomic physics. Due to the extremely low con- centration (0.012%) of 40K in natural abundance of potassium, most experiments use 4-10% enriched potassiu... 40K is one of the most important atomic species for ultra-cold atomic physics. Due to the extremely low con- centration (0.012%) of 40K in natural abundance of potassium, most experiments use 4-10% enriched potassium source, which have greatly suffered from the extremely low annual production and significant price hikes in recent years. Using naturally abundant potassium source, we capture 5.4 × 10 6 cold 40K atoms with the help of a high performance of two-dimensional magneto-optical trap (2D+ MOT), which is almost three orders of magnitude greater than previous results without the 2D+ MOT. The number of the 40K atoms is sufficient for most ultra-cold 40K experiments, and our approach provides an ideal alternative for the field. 展开更多
关键词 Enhanced Loading of MOT k from Natural Abundance Potassium Source with a high Performance 2D
在线阅读 下载PDF
Numerical and analytical investigations for the SOI LDMOS with alternated high-k dielectric and step doped silicon pillars 被引量:3
20
作者 Jia-Fei Yao Yu-Feng Guo +3 位作者 Zhen-Yu Zhang Ke-Meng Yang Mao-Lin Zhang Tian Xia 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第3期460-467,共8页
This paper presents a new silicon-on-insulator(SOI) lateral-double-diffused metal-oxide-semiconductor transistor(LDMOST) device with alternated high-k dielectric and step doped silicon pillars(HKSD device). Due to the... This paper presents a new silicon-on-insulator(SOI) lateral-double-diffused metal-oxide-semiconductor transistor(LDMOST) device with alternated high-k dielectric and step doped silicon pillars(HKSD device). Due to the modulation of step doping technology and high-k dielectric on the electric field and doped profile of each zone, the HKSD device shows a greater performance. The analytical models of the potential, electric field, optimal breakdown voltage, and optimal doped profile are derived. The analytical results and the simulated results are basically consistent, which confirms the proposed model suitable for the HKSD device. The potential and electric field modulation mechanism are investigated based on the simulation and analytical models. Furthermore, the influence of the parameters on the breakdown voltage(BV) and specific on-resistance(R_(on,sp)) are obtained. The results indicate that the HKSD device has a higher BV and lower R_(on,sp) compared to the SD device and HK device. 展开更多
关键词 high-k dielectric STEP doped silicon PILLAR model BREAkDOWN voltage
在线阅读 下载PDF
上一页 1 2 53 下一页 到第
使用帮助 返回顶部