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镍钛合金心血管支架的电化学抛光工艺
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作者 王雅丽 李志永 +2 位作者 张威 于亚洲 柴明霞 《电镀与涂饰》 北大核心 2025年第2期30-35,共6页
[目的]选择性激光熔化(SLM)技术制备的镍钛合金组件表面品质往往较差,表面常附着一些部分熔化的粉末,应进行适当的表面处理。[方法]采用氯化钠-乙二醇电解液对选区激光熔化制备的镍钛合金心血管支架进行电化学抛光。研究了电压、温度和... [目的]选择性激光熔化(SLM)技术制备的镍钛合金组件表面品质往往较差,表面常附着一些部分熔化的粉末,应进行适当的表面处理。[方法]采用氯化钠-乙二醇电解液对选区激光熔化制备的镍钛合金心血管支架进行电化学抛光。研究了电压、温度和抛光时间对镍钛合金心血管支架表面粗糙度的影响。分析了较佳条件下电化学抛光后心血管支架的表面形貌、化学成分和表面润湿性。[结果]较佳的电化学抛光参数为:电压25 V,温度28℃,时间25 min。在该条件下电化学抛光后,NiTi合金支架表面变得光滑均匀,表面粗糙度Sa低至0.31μm,水接触角增大到103.5°,即疏水性提升。[结论]电化学抛光能够显著提高以SLM工艺制备的镍钛合金心血管支架的表面品质,提高其生物兼容性。 展开更多
关键词 镍钛合金 心血管支架 电化学抛光 表面粗糙度 形貌 疏水性
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等离子体电化学抛光参数对GH2787变形高温合金的影响分析
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作者 李欣 潘娜 +3 位作者 邓娟 程鑫 蒋玉平 辛彬 《新技术新工艺》 2025年第2期37-43,共7页
通过对GH2787合金材料表面进行等离子体电化学抛光试验,分别利用光学显微镜、X射线衍射仪(XRD)和电化学极化曲线测量技术对其表面形貌、相结构、残余应力和耐蚀性进行了表征。结果发现:在电解液浓度ω=5%、加热温度T=80℃、抛光时间t=5 ... 通过对GH2787合金材料表面进行等离子体电化学抛光试验,分别利用光学显微镜、X射线衍射仪(XRD)和电化学极化曲线测量技术对其表面形貌、相结构、残余应力和耐蚀性进行了表征。结果发现:在电解液浓度ω=5%、加热温度T=80℃、抛光时间t=5 min、电压U=260、280和300 V条件下,等离子体电化学抛光可快速将表面粗糙度Ra从530 nm降低至63.8 nm,基体表面未产生新的物相,并且残余应力、近表面硬度与初始状态相当,基体耐蚀性提高。该抛光方法为表面改性提供了良好基础,分析了电压对抛光效果和基体材质的影响:电压较低时,对材料去除速率较慢,升高至300 V时,基体材料吸氢增加且腐蚀速率未进一步提升。本试验采用的最佳抛光参数:U=280 V,ω=5%,T=80℃,t=5 min。 展开更多
关键词 等离子体电化学抛光 表面粗糙度 氢含量 变形高温合金 抛光参数 耐蚀性
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高温氧化316L不锈钢电解抛光工艺
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作者 张硕 梁潇 +5 位作者 束春慧 朱晴晴 赵雪同 燕爱林 王振卫 汪玉 《电镀与涂饰》 北大核心 2025年第2期20-29,共10页
[目的]不锈钢在高温烧结后表面会形成致密的灰黑色氧化膜,影响后续加工及使用,因此需要采取措施去除该氧化膜。[方法]对高温氧化后的316L不锈钢先进行浸蚀和酸洗处理,再电解抛光。通过正交试验和单因素实验优化了酸洗液的配方和工艺条... [目的]不锈钢在高温烧结后表面会形成致密的灰黑色氧化膜,影响后续加工及使用,因此需要采取措施去除该氧化膜。[方法]对高温氧化后的316L不锈钢先进行浸蚀和酸洗处理,再电解抛光。通过正交试验和单因素实验优化了酸洗液的配方和工艺条件。重点研究了电解抛光过程中电流密度和抛光时间对316L不锈钢表面粗糙度和耐蚀性的影响。对比了不同工序处理后316L不锈钢的表面轮廓和微观形貌变化。[结果]较佳的酸洗配方和工艺条件为:盐酸220 mL/L,硫酸70 mL/L,金属盐X 60 g/L,温度70℃,时间6 min。电解抛光的较佳工艺条件为:电流密度50 A/dm^(2),抛光时间85 s。在此条件下处理后,316L不锈钢的表面粗糙度Ra降至0.3262μm,表面均匀平滑,耐蚀性显著提升。[结论]通过浸蚀和酸洗前处理再电解抛光,可有效去除高温氧化316L不锈钢表面的氧化膜,降低表面粗糙度,并显著提高其耐蚀性。 展开更多
关键词 不锈钢 高温氧化 表面处理 酸洗 电解抛光 耐腐蚀性能
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电化学加工表面均匀性的多变量统计过程控制
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作者 樊双蛟 李登榜 +1 位作者 杨逸 庞桂兵 《机床与液压》 北大核心 2024年第19期21-26,共6页
零件表面粗糙度对其使用性能有重要影响。为了解决零件表面单一粗糙度参数不能全面反映零件加工表面缺陷的问题,提出一种将基于相关性分析和主元分析的多变量统计过程控制应用于电化学光整加工零件表面均匀性评价的方法。设计无表面缺... 零件表面粗糙度对其使用性能有重要影响。为了解决零件表面单一粗糙度参数不能全面反映零件加工表面缺陷的问题,提出一种将基于相关性分析和主元分析的多变量统计过程控制应用于电化学光整加工零件表面均匀性评价的方法。设计无表面缺陷和有表面缺陷两个样件进行对比实验,在电化学光整加工之后记录两个样件的多项表面粗糙度参数,先进行多个参数的单变量统计过程控制,再对多个粗糙度参数进行相关性分析和主元分析,得到综合评价值绘制统计控制图。对比分析结果表明:对于存在局部缺陷的表面,相比单一粗糙度参数,采用综合评价控制图检测零件表面缺陷更准确;基于相关性分析和主元分析的多变量统计过程控制是评价电化学光整加工零件表面均匀性的有效方法。 展开更多
关键词 表面质量 多变量统计过程控制 主元分析 粗糙度参数
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18CrNiMo7-6渗碳合金钢电解抛光参数研究 被引量:1
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作者 王书艳 张悦 +1 位作者 路留成 王刚 《热加工工艺》 北大核心 2024年第2期121-125,共5页
为提高18CrNiMo7-6渗碳合金钢表面变质层的电解抛光加工质量,开展18CrNiMo7-6渗碳合金钢表面变质层不同渗碳层深度下的电解抛光工艺分析与试验。结果表明,选择浓磷酸与浓硫酸混合溶液作为电解液,温度为40~45℃,首先研究18CrNiMo7-6渗碳... 为提高18CrNiMo7-6渗碳合金钢表面变质层的电解抛光加工质量,开展18CrNiMo7-6渗碳合金钢表面变质层不同渗碳层深度下的电解抛光工艺分析与试验。结果表明,选择浓磷酸与浓硫酸混合溶液作为电解液,温度为40~45℃,首先研究18CrNiMo7-6渗碳合金钢表层试样在不同抛光电压、抛光电流及抛光时间工艺参数下电解抛光后的表面质量,得到18CrNiMo7-6渗碳合金钢表层的最佳电解抛光参数为10 V、1.8~1.9 A、70 s;再对得到的表层最佳参数进行微调,得到不同渗碳深度下试样的最佳电解抛光参数,次表层电解抛光参数为10 V、1.6~1.7 A、65 s,心部电解抛光参数为10 V、1.5~1.6A、60 s。 展开更多
关键词 18CrNiMo7-6渗碳合金钢 电解抛光 最佳参数
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选区激光熔化316L不锈钢随形冷却通道电解抛光工艺优化 被引量:1
6
作者 于亚洲 李志永 +2 位作者 李德佳 柴明霞 刘育辰 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2024年第5期65-72,共8页
[目的]改善选区激光熔化(SLM)制备的316L不锈钢随形冷却通道内壁的表面品质。[方法]采用由NaCl、乙二醇及三乙醇胺组成的绿色环保电解液,通过阴阳极互换的方式对316L不锈钢随形冷却通道内壁进行电解抛光,通过正交试验及单因素实验探究... [目的]改善选区激光熔化(SLM)制备的316L不锈钢随形冷却通道内壁的表面品质。[方法]采用由NaCl、乙二醇及三乙醇胺组成的绿色环保电解液,通过阴阳极互换的方式对316L不锈钢随形冷却通道内壁进行电解抛光,通过正交试验及单因素实验探究阳极电流密度、温度、阴阳极置换次数及每次的电解时间对样件表面粗糙度及微观形貌的影响。[结果]电解抛光的较优工艺条件为:阳极电流密度0.55 A/cm^(2),温度40℃,阴阳极置换3次,单次电解10 min,总电解抛光时长60 min。在该条件下电解抛光后,冷却通道内壁光亮平整,表面粗糙度Sa为0.436μm。[结论]电解抛光能够显著提高以SLM工艺制备的随形冷却通道的表面品质。本文的研究结果可为模具工业注塑模型制造提供技术参考。 展开更多
关键词 不锈钢 选区激光熔化 随形冷却通道 电解抛光 表面粗糙度
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单烷基磷酸酯钾盐抑制剂对Co互连化学机械抛光的影响
7
作者 田雨暄 王胜利 +5 位作者 罗翀 王辰伟 张国林 孙纪元 冯鹏 盛媛慧 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2024年第10期84-91,共8页
针对抛光液中传统抑制剂如苯丙三氮唑(BTA)等具有毒性,会污染环境等问题,以SiO2为磨料,在甘氨酸-双氧水体系下,使用单烷基磷酸酯钾盐(MAPK)作为新型抑制剂制备Co互连粗抛抛光液,通过抛光和静态腐蚀实验和电化学、光电子能谱、接触角分... 针对抛光液中传统抑制剂如苯丙三氮唑(BTA)等具有毒性,会污染环境等问题,以SiO2为磨料,在甘氨酸-双氧水体系下,使用单烷基磷酸酯钾盐(MAPK)作为新型抑制剂制备Co互连粗抛抛光液,通过抛光和静态腐蚀实验和电化学、光电子能谱、接触角分析等表征方式揭示MAPK在化学机械抛光(CMP)中对Co表面质量的改善以及对Co的抑制机制。结果表明:MAPK通过物理吸附和化学吸附方式在Co表面形成的致密钝化膜,可以很好地抑制Co的腐蚀,从而可以在较低的静态腐蚀速率下获取较高的去除速率;加入MAPK可以提高抛光液的润湿性,能够显著改善Co互连抛光后的表面质量,使Co的去除速率大于500 nm/min,静态腐蚀速率小于1 nm/min,表面粗糙度小于0.5 nm。 展开更多
关键词 化学机械抛光 抑制剂 去除速率 表面质量
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粉末床熔融钛合金的表面抛光技术研究进展
8
作者 周迪 吴松全 +4 位作者 李紫杨 刘磊 杨义 王皞 黄爱军 《材料保护》 CAS CSCD 2024年第8期147-154,205,共9页
粉末床熔融钛合金作为一种重要的金属材料,在航空航天、医疗器械以及汽车等领域得到广泛应用。然而,由于特殊的材料性质和加工方法,其表面质量与性能仍然是制约其应用的关键问题之一。对粉末床熔融钛合金的表面抛光技术研究进展进行了综... 粉末床熔融钛合金作为一种重要的金属材料,在航空航天、医疗器械以及汽车等领域得到广泛应用。然而,由于特殊的材料性质和加工方法,其表面质量与性能仍然是制约其应用的关键问题之一。对粉末床熔融钛合金的表面抛光技术研究进展进行了综述,介绍了化学抛光、电化学抛光、等离子电解抛光、激光抛光和机械抛光等技术的研究进展。这些技术为粉末床熔融钛合金的表面质量和性能满足不同应用需求提供了选择,同时还对复合抛光技术及相关技术发展进行了展望。 展开更多
关键词 钛合金 粉末床熔融 选区激光熔化 选区电子束熔化 抛光 粗糙度
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碳化硅化学机械抛光中材料去除非均匀性研究进展
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作者 孙兴汉 李纪虎 +2 位作者 张伟 曾群锋 张俊锋 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第4期585-599,共15页
化学机械抛光已经成为半导体制造中关键的工艺步骤之一,该技术是目前实现碳化硅晶片超精密加工的一种常用且有效的方法,可用于加工晶片表面,以获得高材料去除率、高表面质量和高表面平整性的晶片。然而,在碳化硅晶片化学机械抛光中,晶... 化学机械抛光已经成为半导体制造中关键的工艺步骤之一,该技术是目前实现碳化硅晶片超精密加工的一种常用且有效的方法,可用于加工晶片表面,以获得高材料去除率、高表面质量和高表面平整性的晶片。然而,在碳化硅晶片化学机械抛光中,晶片表面材料去除非均匀性一直是一个具有挑战性的问题,减小晶片表面材料去除非均匀性对确保半导体器件的高性能和稳定性至关重要。本文介绍了碳化硅材料的性质及应用与化学机械抛光工艺,研究了不同碳化硅化学机械抛光技术的材料去除机理、不同化学机械抛光技术的发展状况和性能及优缺点,综述了碳化硅晶片化学机械抛光中材料去除非均匀性影响因素,如:抛光压力、抛光液(磨粒)和转速等因素,最后对未来碳化硅化学机械抛光中材料去除非均匀性研究做出了展望。 展开更多
关键词 碳化硅 化学机械抛光 材料去除 抛光压力 抛光液 抛光垫
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蓝宝石衬底CMP中氧化硅磨粒粒度分布对抛光液体系性能影响研究 被引量:2
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作者 王晓剑 李薇薇 +3 位作者 钟荣锋 肖银波 许宁徽 孙运乾 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期168-174,200,共8页
目的 化学机械抛光(CMP)包含化学腐蚀和机械磨削两方面,抛光液p H、磨粒粒径和浓度等因素均会不同程度地影响其化学腐蚀和机械磨削能力,从而影响抛光效果。方法 采用30~150 nm连续粒径磨粒抛光液、120 nm均一粒径磨粒抛光液、50 nm和120... 目的 化学机械抛光(CMP)包含化学腐蚀和机械磨削两方面,抛光液p H、磨粒粒径和浓度等因素均会不同程度地影响其化学腐蚀和机械磨削能力,从而影响抛光效果。方法 采用30~150 nm连续粒径磨粒抛光液、120 nm均一粒径磨粒抛光液、50 nm和120 nm配制而成的混合粒径磨粒抛光液,分别对蓝宝石衬底晶圆进行循环CMP实验,研究CMP过程中抛光液体系的变化。结果 连续粒径磨粒抛光液中磨粒大规模团聚,满足高材料去除率的抛光时间仅有4 h,抛光后的晶圆表面粗糙度为0.665 nm;均一粒径磨粒抛光液中磨粒稳定,无团聚现象,抛光9 h内材料去除率较连续粒径磨粒抛光液高94.7%,能至少维持高材料去除率18 h,抛光后的晶圆表面粗糙度为0.204 nm;混合粒径磨粒抛光液初始状态下磨粒稳定性较高,抛光9 h内材料去除率较连续粒径磨粒抛光液高114.8%,之后磨粒出现小规模团聚现象,后9h材料去除率仅为均一粒径磨粒抛光液的59.6%,18 h内材料去除率仅为均一粒径磨粒抛光液的87.7%,但抛光后的晶圆表面粗糙度为0.151 nm。结论 一定时间内追求较高的材料去除率和较好的晶圆表面粗糙度选用混合粒径磨粒抛光液,但需要长时间CMP使用均一粒径磨粒抛光液更适合,因此,在工业生产中需要根据生产要求配合使用混合粒径磨粒抛光液和均一粒径磨粒抛光液。 展开更多
关键词 化学机械抛光 蓝宝石 抛光液 磨粒 微观形貌 材料去除率
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3D打印镍基合金GH3536化学机械抛光机理研究
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作者 杭伟 王应刚 +3 位作者 韦岚清 韩云晓 马毅 陈泓谕 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第20期143-157,共15页
目的实现无瑕疵的3D打印镍基合金GH3536超光滑镜面,揭示镍基合金GH3536在不同成分溶液下的化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)去除机理。方法采用单因素实验法通过CMP对镍基合金GH3536展开研究。采用电化学测试技术和X射... 目的实现无瑕疵的3D打印镍基合金GH3536超光滑镜面,揭示镍基合金GH3536在不同成分溶液下的化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)去除机理。方法采用单因素实验法通过CMP对镍基合金GH3536展开研究。采用电化学测试技术和X射线光电子能谱(X-rayPhotoelectron Spectroscopy,XPS)分析3D打印镍基合金GH3536在不同p H值、不同氧化剂浓度和不同抛光液类型下的溶解与钝化行为。结果当pH值为3~3.5、H_(2)O_(2)质量分数为10%时,可获得最优的材料去除率(MRR为20.24 nm/min)和表面粗糙度(Surface Roughness,其中Ra为0.684 nm,S_(a)为1.699 nm),CMP抛光面可达到超光滑低损伤的镜面效果。根据电化学和XPS测量结果,建立了化学反应方程,确定了去除机理,具体为:在化学机械抛光过程中,镍基合金GH3536表面首先被H_(2)O_(2)氧化成Ni、Fe等氧化物;其次,在酸性H^(+)作用下,氧化物转化为Ni^(2+)、Ni^(3+)和Fe^(3+)等多价离子;最后,多价离子会与柠檬酸发生络合反应生成较软的柠檬酸盐络合物,在CMP抛光中发生去除。结论与传统电化学加工相比,采用CMP加工的3D打印镍基合金GH3536的表面粗糙度更低,表面形貌更好,可用于对面型精度要求较高的镍基合金的超精密加工。基于电化学测试技术和XPS深度剖析的方法有效揭示了镍基合金GH3536的材料去除机理,获得了不同p H值、氧化剂浓度和不同抛光液种类对材料去除机理的影响规律。为获得新型高质量表面的3D打印合金材料提供指导意义。 展开更多
关键词 增材制造 镍基合金GH3536 化学机械抛光 表面粗糙度 加工机理
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随形冷却通道电解抛光的仿真模拟及试验研究
12
作者 李德佳 李志永 +2 位作者 于亚洲 柴明霞 杨丛丛 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2024年第9期69-77,共9页
[目的]研究不同工艺参数对316L不锈钢随形冷却通道内壁电解抛光效果的影响,以期优化电解抛光工艺,提高随形冷却通道内壁的表面品质。[方法]通过COMSOL数值模拟软件,对电解抛光过程的流场、电场和温度场进行了多场耦合分析,通过模拟电解... [目的]研究不同工艺参数对316L不锈钢随形冷却通道内壁电解抛光效果的影响,以期优化电解抛光工艺,提高随形冷却通道内壁的表面品质。[方法]通过COMSOL数值模拟软件,对电解抛光过程的流场、电场和温度场进行了多场耦合分析,通过模拟电解液流速和工作电压的变化,研究了二者对抛光效果的影响,并通过电解抛光试验进行验证。[结果]随着电解液流速的增大,出入口温差减小、材料去除率减小、内壁表面粗糙度增大,抛光效率下降;随着电压的增大,出入口温差增大、材料去除率增大、内壁表面粗糙度减小,抛光效率上升。在电压25 V、流速0.3 m/s的条件下抛光效果最佳,表面粗糙度可降至0.195μm。[结论]电解抛光试验结果与仿真结果基本一致,证实了仿真模型的准确性,为优化随形冷却通道内表面的处理工艺提供了重要参考。 展开更多
关键词 电解抛光 随形冷却通道 仿真模拟 多场耦合 不锈钢
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磨粒振动对碳化硅CMP的微观结构演变和材料去除的影响
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作者 唐爱玲 苑泽伟 +1 位作者 唐美玲 王颖 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2024年第1期109-122,共14页
针对化学机械抛光中磨料易团聚、机械和化学作用不能充分发挥等问题,采用振动辅助的方法进行优化。通过分子动力学模拟,分析磨粒振动的频率、振幅及其压入深度、划切速度对工件表面微观原子迁移的演变规律,揭示振动对材料去除和表面改... 针对化学机械抛光中磨料易团聚、机械和化学作用不能充分发挥等问题,采用振动辅助的方法进行优化。通过分子动力学模拟,分析磨粒振动的频率、振幅及其压入深度、划切速度对工件表面微观原子迁移的演变规律,揭示振动对材料去除和表面改善的促进机制;并通过振动辅助化学机械抛光工艺试验和表面成分分析,验证振动辅助的抛光效果和去除机制。结果表明:适当增大磨粒的振动频率、振动振幅及其压入深度、划切速度,可有效提高工件表面的原子势能和温度;磨粒振动有利于提高工件表面原子的混乱度,促进碳化硅参与氧化反应,形成氧化层并以机械方式去除;抛光试验和成分分析也证实振动可以提高材料去除率约50.5%,改善表面质量约25.4%。 展开更多
关键词 碳化硅 振动 化学机械抛光 分子动力学
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化学机械抛光液的研究现状 被引量:2
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作者 王东哲 张恒飞 +3 位作者 付玉 刘茂举 庄锐 蔡颖辉 《化学世界》 2024年第1期60-66,共7页
化学机械抛光(CMP)是一种化学腐蚀和机械磨削协同作用的超精密加工技术。化学机械抛光液是化学机械抛光技术中关键的一部分,对材料的全局平坦化处理起到了至关重要的作用。综述了化学机械抛光液中各组分对抛光性能的影响研究。
关键词 化学机械抛光液 组分 影响研究
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Pulsed Unipolar-Polarisation Plasma Electrolytic Polishing of Ni-Based Superalloys:A Proof of Conception
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作者 Chuanqiang Zhou Ning Qian +3 位作者 Honghua Su Jingyuan He Wenfeng Ding Jiuhua Xu 《Chinese Journal of Mechanical Engineering》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第5期163-179,共17页
The enhanced performance of aerospace equipment drives parts development towards integration,complexity,and structural optimization.This advancement promotes metal near-net fabrication technologies like wire electrica... The enhanced performance of aerospace equipment drives parts development towards integration,complexity,and structural optimization.This advancement promotes metal near-net fabrication technologies like wire electrical discharge machining(WEDM)and 3D printing.However,the high initial surface roughness from WEDM or 3D printing poses significant challenges for the high-performance surface finishing required.To effectively reduce the surface roughness of the workpieces with high initial surface roughness,this paper proposes pulsed unipolar-polarisation plasma electrolytic polishing(PUP-PEP).The study examined the material removal mechanisms and surface polishing quality of PUP-PEP.This technique combines the high current density and material removal rate of the electrolytic polishing mode with the superior surface polishing quality of PEP through voltage waveform modulation.For an Inconel-718 superalloy part fabricated by WEDM,PUP-PEP reduced surface roughness from R_(a)7.39μm to R_(a)0.27μm in 6 min under optimal conditions.The roughness decreased from R_(a)7.39μm to R_(a)0.78μm in the first 3 min under pulsed unipolar-polarisation voltage,resulting in a remarkable 233%increase in efficiency compared to that with conventional PEP.Subsequently,the voltage output voltage is transformed into a constant voltage mode,and PEP is continued based on PUP-PEP to finally reduce the workpiece surface roughness value to R_(a)0.27μm.The proposed PUP-PEP technology marks the implementation of‘polishing’instead of conventional rough-finish machining processes,presenting a new approach to the surface post-processing of metal near-net fabrication technologies. 展开更多
关键词 Pulsed unipolar-polarisation Plasma electrolytic polishing Voltage waveform SUPERALLOY Surface roughness Material removal rate
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A novel approach of jet polishing for interior surface of small-grooved components using three developed setups
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作者 Qinming Gu Zhenyu Zhang +6 位作者 Hongxiu Zhou Jiaxin Yu Dong Wang Junyuan Feng Chunjing Shi Jianjun Yang Junfeng Qi 《International Journal of Extreme Manufacturing》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第2期428-447,共20页
It is a challenge to polish the interior surface of an additively manufactured component with complex structures and groove sizes less than 1 mm.Traditional polishing methods are disabled to polish the component,meanw... It is a challenge to polish the interior surface of an additively manufactured component with complex structures and groove sizes less than 1 mm.Traditional polishing methods are disabled to polish the component,meanwhile keeping the structure intact.To overcome this challenge,small-grooved components made of aluminum alloy with sizes less than 1 mm were fabricated by a custom-made printer.A novel approach to multi-phase jet(MPJ)polishing is proposed,utilizing a self-developed polisher that incorporates solid,liquid,and gas phases.In contrast,abrasive air jet(AAJ)polishing is recommended,employing a customized polisher that combines solid and gas phases.After jet polishing,surface roughness(Sa)on the interior surface of grooves decreases from pristine 8.596μm to 0.701μm and 0.336μm via AAJ polishing and MPJ polishing,respectively,and Sa reduces 92%and 96%,correspondingly.Furthermore,a formula defining the relationship between linear energy density and unit defect volume has been developed.The optimized parameters in additive manufacturing are that linear energy density varies from 0.135 J mm^(-1)to 0.22 J mm^(-1).The unit area defect volume achieved via the optimized parameters decreases to 1/12 of that achieved via non-optimized ones.Computational fluid dynamics simulation results reveal that material is removed by shear stress,and the alumina abrasives experience multiple collisions with the defects on the heat pipe groove,resulting in uniform material removal.This is in good agreement with the experimental results.The novel proposed setups,approach,and findings provide new insights into manufacturing complex-structured components,polishing the small-grooved structure,and keeping it unbroken. 展开更多
关键词 abrasive air jet polishing multi-phase jet polishing interior curved surface small-grooved component aluminum alloy
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低共熔溶剂中乙醇添加对激光选区熔化GH4169合金电化学抛光行为的影响
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作者 王超群 吴松全 +2 位作者 杨义 王皞 黄爱军 《航空制造技术》 CSCD 北大核心 2024年第12期71-78,共8页
激光选区熔化GH4169合金的高表面粗糙度是其应用过程中需要解决的一大难题,为了替代传统电化学抛光(电抛)使用的酸基电解液,本研究采用绿色安全的氯化胆碱-乙二醇体系作为低共熔溶剂(DES)对激光选区熔化GH4169合金进行电抛的研究。以电... 激光选区熔化GH4169合金的高表面粗糙度是其应用过程中需要解决的一大难题,为了替代传统电化学抛光(电抛)使用的酸基电解液,本研究采用绿色安全的氯化胆碱-乙二醇体系作为低共熔溶剂(DES)对激光选区熔化GH4169合金进行电抛的研究。以电抛前后试样的表面形貌、粗糙度、光泽度、润湿角和电化学工作站测试的结果为指标,探索在氯化胆碱-乙二醇中加入不同摩尔比例的乙醇对试样表面电抛效果的影响。结果表明,电抛后的试样表面质量得到了显著的改善。其中,在氯化胆碱∶乙二醇∶乙醇摩尔比1∶1.9∶0.1,电抛参数为温度60℃、时间30 min、电压3 V、磁子转速240 r/min和电极间距13 mm时,试样表面被整平抛亮,抛光效果最好,粗糙度Ra达到(0.403±0.010)μm,光泽度达到(357.9±2.2)GU,润湿角以及电化学行为也验证了电抛后的试样表面更有利于耐蚀性。同时,探讨了合金在氯化胆碱-乙二醇体系中的电抛机理。 展开更多
关键词 高温合金 激光选区熔化(SLM) 电化学抛光 表面粗糙度 表面光泽度
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激振抛磨对ZM6镁合金航空机匣表面形貌及耐腐蚀性能的影响
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作者 丁欣 李东祥 +3 位作者 崔岩峰 邵童阁 郝玉鹏 崔建国 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2024年第11期80-87,共8页
[目的]激振抛磨技术具有加工效率高、操作灵活、适用性广等优点,在航空航天零部件制造领域得到广泛应用。目前有关激振抛磨处理对ZM6镁合金航空零部件表面形貌及耐蚀性影响的研究报道还较少。[方法]采用自行研发的激振抛磨实验平台,对取... [目的]激振抛磨技术具有加工效率高、操作灵活、适用性广等优点,在航空航天零部件制造领域得到广泛应用。目前有关激振抛磨处理对ZM6镁合金航空零部件表面形貌及耐蚀性影响的研究报道还较少。[方法]采用自行研发的激振抛磨实验平台,对取自ZM6镁合金低压砂型铸造航空机匣的样块进行加工。对比了激振抛磨前后ZM6镁合金的表面形貌、粗糙度、元素组成及耐蚀性。[结果]激振抛磨处理后ZM6镁合金的表面形貌得到显著改善,表面粗糙度降低,裂纹和孔隙被去除,表面氧元素的原子分数降低了49.0%,基体元素的原子分数增大,耐蚀性显著提高。[结论]激振抛磨后ZM6镁合金的耐蚀性之所以提高,主要与其表面粗糙度的降低及表面致密均匀氧化膜的生成有关。 展开更多
关键词 镁合金 激振抛磨 表面形貌 粗糙度 耐蚀性
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聚二烯丙基二甲基氯化铵对钨和SiO_(2)去除速率选择性的影响
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作者 李丁杰 周建伟 +4 位作者 罗翀 王辰伟 孙纪元 杨云点 冯鹏 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2024年第11期102-108,共7页
为了提高钨(W)和SiO_(2)在化学机械抛光(CMP)过程中的去除速率选择比,提出将绿色环保的聚二烯丙基二甲基氯化铵(PDADMAC)作为SiO_(2)去除速率的抑制剂;以普通硅溶胶为磨料,研究酸性抛光液中不同PDADMAC添加量对W和SiO_(2)去除速率以及... 为了提高钨(W)和SiO_(2)在化学机械抛光(CMP)过程中的去除速率选择比,提出将绿色环保的聚二烯丙基二甲基氯化铵(PDADMAC)作为SiO_(2)去除速率的抑制剂;以普通硅溶胶为磨料,研究酸性抛光液中不同PDADMAC添加量对W和SiO_(2)去除速率以及表面粗糙度的影响,并探究PDADMAC在CMP过程中对W和SiO_(2)的不同作用机制。结果表明:随着PDADMAC添加量的增加,W的去除速率小幅度下降,SiO_(2)的去除速率大幅度下降,从而提高了W和SiO_(2)之间的去除速率选择比;PDADMAC会在W表面发生静电吸引作用和在SiO_(2)表面发生吸附作用,这些作用会明显增加W和SiO_(2)的去除速率选择比和改善W和SiO_(2)镀膜片的表面质量;以PDADMAC为抑制剂,使用普通硅溶胶为磨料即可实现较高的W去除速率和较高的W和SiO_(2)去除速率选择比。 展开更多
关键词 化学机械抛光 去除速率选择性 表面粗糙度 聚二烯丙基二甲基氯化铵
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GH625镍基高温合金化学抛光工艺
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作者 马宁 张峻山 《电镀与涂饰》 CAS 北大核心 2024年第4期79-86,共8页
[目的]化学抛光是高温合金化学铣切的关键步骤之一,能够去除高温合金表面的微观不平整缺陷,令其满足航空航天、石油化工等领域对零件表面高品质的要求。[方法]通过正交试验和单因素实验研究了抛光液配方和工艺参数对GH625高温合金化学... [目的]化学抛光是高温合金化学铣切的关键步骤之一,能够去除高温合金表面的微观不平整缺陷,令其满足航空航天、石油化工等领域对零件表面高品质的要求。[方法]通过正交试验和单因素实验研究了抛光液配方和工艺参数对GH625高温合金化学抛光速率和表面粗糙度的影响。[结果]GH625高温合金化学抛光的较佳配方和工艺条件为:盐酸100 g/L,硝酸170 g/L,氢氟酸90 g/L,Fe^(3+)170 g/L,温度50℃,时间5 min,试片水平放置。在该条件下化学抛光后,GH625高温合金表面变得平整均匀而富有金属光泽,表面粗糙度Ra从初始的10.3μm降至1.1μm。[结论]本文的研究结果可为GH625高温合金的化学抛光提供参考。 展开更多
关键词 镍基高温合金 化学抛光 表面粗糙度 材料去除速率
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