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基于BSIM深亚微米级MOSFET短沟道效应建模和特征提取方法研究 被引量:2
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作者 赵阳 Parke Stephen burke franklyn 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期841-844,共4页
本文基于BSIM标准研究了现代深亚微米级MOSFET器件的建模和特征提取方法 ,着重在于短沟道效应方面 ,其中测试样品由MicronTM公司提供 ,最短沟道长度仅为 0 16微米 .内容包括一般短沟道效应、基板效应和漏极感应势垒降低效应 (简称DIBL... 本文基于BSIM标准研究了现代深亚微米级MOSFET器件的建模和特征提取方法 ,着重在于短沟道效应方面 ,其中测试样品由MicronTM公司提供 ,最短沟道长度仅为 0 16微米 .内容包括一般短沟道效应、基板效应和漏极感应势垒降低效应 (简称DIBL效应 )等 .研究表明 ,实验数据和BSIM模型结果较好吻合 ,证明文中方法的有效性以及较好的应用前景 . 展开更多
关键词 MOSFET器件 建模与特征提取 短沟道效应 BSIM模型
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