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GM系列直流断路器级差配合试验分析 被引量:7
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作者 王鹏 韩京哲 +4 位作者 刘润生 甘银辉 郭鹏武 李铮 郝伟兵 《供用电》 2003年第2期21-24,共4页
针对发电厂、变电站直流系统发生短路时GM系列直流断路器的级差配合问题进行了试验 ,表明直流断路器的级差配合与其分断时间参数无明显的相关关系 ,但与采用不同的脱扣器类型相关较大。当采用不同脱扣器类型的直流断路器组合时 ,实际级... 针对发电厂、变电站直流系统发生短路时GM系列直流断路器的级差配合问题进行了试验 ,表明直流断路器的级差配合与其分断时间参数无明显的相关关系 ,但与采用不同的脱扣器类型相关较大。当采用不同脱扣器类型的直流断路器组合时 ,实际级差配合可延伸到上级断路器电磁脱扣区的一定范围内 ,这为设计中直流断路器的组合选择提供了更大的灵活性。最后还对级差配合中断路器的内部动作机理进行了分析 。 展开更多
关键词 GM系列直流断路器 级差配合 试验分析 脱扣器
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微机相控整流式充电机的改进分析 被引量:1
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作者 巩晓昕 郝伟兵 +1 位作者 颜湘武 郝维荣 《电力自动化设备》 EI CSCD 北大核心 2007年第3期57-60,共4页
对相控整流式充电机进行研究,从其充电方式、晶闸管移相控制原理及比例积分微分(PID)软件调节设计等方面作了详细分析。对WCD-Ⅳ型微机相控整流式充电机提出了进一步的改进措施:将单脉冲或双脉冲触发信号改进为一组宽度为120°、脉... 对相控整流式充电机进行研究,从其充电方式、晶闸管移相控制原理及比例积分微分(PID)软件调节设计等方面作了详细分析。对WCD-Ⅳ型微机相控整流式充电机提出了进一步的改进措施:将单脉冲或双脉冲触发信号改进为一组宽度为120°、脉冲间隔为0.12°的脉冲列,并进行高频调制和功率放大,确保晶闸管的可靠导通;采用改进的不完全微分型PID控制算法,并引入积分分离法,通过分离法算式,实现理想调节特性,从而避免积分饱和、减小超调、加快过渡过程,得到了良好的空载稳压特性;增加了逆变放电、高精度全自动充电、温度补偿及相序自适应等功能。 展开更多
关键词 充电机 相控整流 浮充电 PID控制算法
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微机相控整流式充电机的改进研究 被引量:1
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作者 巩晓昕 郝伟兵 +1 位作者 颜湘武 郝维荣 《电力电子》 2006年第4期32-36,共5页
随着电站自动化技术的发展和新型蓄电池-阀控式密封铅酸蓄电池(俗称免维护电池)的广泛使用,磁饱和式和早期分立元件控制的可控硅充电机已不能满足新时期的要求。与此同时,微机控制晶闸管充电装置技术的发展,使相控式充电机的各项性能指... 随着电站自动化技术的发展和新型蓄电池-阀控式密封铅酸蓄电池(俗称免维护电池)的广泛使用,磁饱和式和早期分立元件控制的可控硅充电机已不能满足新时期的要求。与此同时,微机控制晶闸管充电装置技术的发展,使相控式充电机的各项性能指标都有了较大的改善,文章从电气结构特点、工作原理、综合性能等方面对相控整流式充电机进行了分析并提出了进一步的改进措施,使这一先进技术得到广泛应用,以更好的提高电力直流系统运行的整体性能。同时指出了现阶段大、中型发电厂(变电站)直流系统充电设备适宜使用此种充电方案。 展开更多
关键词 充电机 相控整流
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变电站蓄电池的运行与维护 被引量:1
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作者 巩晓昕 郝伟兵 《农村电气化》 2006年第9期24-26,共3页
该文章从蓄电池的结构、原理出发,及对蓄电池的性能指标、对阀控式密封铅酸蓄电池的运行维护作一介绍,并将这一新技术广泛地应用于电力系统,以确保系统可靠稳定的运行。
关键词 蓄电池 阀控式密封铅酸蓄电池 活性物质
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β-Ga_(2)O_(3) junction barrier Schottky diode with NiO p-well floating field rings
5
作者 何启鸣 郝伟兵 +6 位作者 李秋艳 韩照 贺松 刘琦 周选择 徐光伟 龙世兵 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第12期73-79,共7页
Recently,β-Ga_(2)O_(3),an ultra-wide bandgap semiconductor,has shown great potential to be used in power devices blessed with its unique material properties.For instance,the measured average critical field of the ver... Recently,β-Ga_(2)O_(3),an ultra-wide bandgap semiconductor,has shown great potential to be used in power devices blessed with its unique material properties.For instance,the measured average critical field of the vertical Schottky barrier diode(SBD)based onβ-Ga_(2)O_(3) has reached 5.45 MV/cm,and no device in any material has measured a greater before.However,the high electric field of theβ-Ga_(2)O_(3) SBD makes it challenging to manage the electric field distribution and leakage current.Here,we showβ-Ga_(2)O_(3) junction barrier Schottky diode with NiO p-well floating field rings(FFRs).For the central anode,we filled a circular trench array with NiO to reduce the surface field under the Schottky contact between them to reduce the leakage current of the device.For the anode edge,experimental results have demonstrated that the produced NiO/β-Ga_(2)O_(3) heterojunction FFRs enable the spreading of the depletion region,thereby mitigating the crowding effect of electric fields at the anode edge.Additionally,simulation results indicated that the p-NiO field plate structure designed at the edges of the rings and central anode can further reduce the electric field.This work verified the feasibility of the heterojunction FFRs inβ-Ga_(2)O_(3) devices based on the experimental findings and provided ideas for managing the electric field ofβ-Ga_(2)O_(3) SBD. 展开更多
关键词 gallium oxide Schottky barrier diode nickel oxide floating field rings
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硅掺杂MOCVD氧化镓中的非故意掺杂效应:浅施主态 被引量:2
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作者 向学强 李立恒 +10 位作者 陈陈 徐光伟 梁方舟 谭鹏举 周选择 郝伟兵 赵晓龙 孙海定 薛堪豪 高南 龙世兵 《Science China Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第2期748-755,共8页
本文利用MOCVD外延生长了不同载流子浓度的高质量β-Ga_(2)O_(3)薄膜并通过变温霍尔测量和二次离子质谱(SIMS)分析研究了薄膜中的浅施主态.通过拟合提取出薄膜中存在的两个电离能分别为~36和~140 meV的施主能级.进一步研究发现非故意掺... 本文利用MOCVD外延生长了不同载流子浓度的高质量β-Ga_(2)O_(3)薄膜并通过变温霍尔测量和二次离子质谱(SIMS)分析研究了薄膜中的浅施主态.通过拟合提取出薄膜中存在的两个电离能分别为~36和~140 meV的施主能级.进一步研究发现非故意掺杂(UID)效应对这两个能级都有影响:第一个施主能级不仅来源于硅掺杂也来源于非故意碳掺杂取代Ga位,第二个施主能级主要来源于与非故意掺杂氢相关的双电荷缺陷.通过分析生长条件与施主态之间的关系结合密度泛函理论计算我们发现在生长过程中降低氧分压可能有助于降低UID效应.该工作为硅掺杂MOCVDβ-Ga_(2)O_(3)薄膜载流子浓度的精确控制奠定了基础. 展开更多
关键词 载流子浓度 施主能级 非故意掺杂 MOCVD 外延生长 霍尔测量 氧化镓 密度泛函理论计算
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氧化镓基器件异质界面陷阱密度的提取方法
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作者 谢选 郝伟兵 +3 位作者 刘琦 周选择 徐光伟 龙世兵 《中国科学:物理学、力学、天文学》 CSCD 北大核心 2022年第9期43-48,共6页
高性能的半导体功率器件依赖于金属/半导体、半导体/半导体或者半导体/绝缘体间的高质量界面的形成.本文报道了三种提取β-氧化镓(β-Ga_(2)O_(3))基器件界面陷阱密度(Interface Trap Density,D_(it))的方法,分别用于肖特基势垒二极管(S... 高性能的半导体功率器件依赖于金属/半导体、半导体/半导体或者半导体/绝缘体间的高质量界面的形成.本文报道了三种提取β-氧化镓(β-Ga_(2)O_(3))基器件界面陷阱密度(Interface Trap Density,D_(it))的方法,分别用于肖特基势垒二极管(SBD)、PN异质二极管和金属/氧化物/半导体电容(MOS Capacitor).利用对应频率下的电容-电压和电导-电压特性获得了Ni-SBD金半界面的陷阱密度.本文还引入了导纳谱(Admittance Spectroscopy,AS)分析NiO/β-Ga_(2)O_(3)PN二极管的界面陷阱密度.精确的高-低频电容法则用于MOS Capacitor的D_(it)测量.本文验证的界面态测量与提取方法为氧化镓器件界面处理提供量化手段,同时为获得高性能氧化镓器件指明方向. 展开更多
关键词 β-氧化镓 界面陷阱密度 异质界面
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