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一种优化设计的高频高压电力半导体器件 被引量:7
1
作者 邹德恕 亢宝位 +3 位作者 杜金玉 王东风 高国 王敬元 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1996年第6期29-32,共4页
介绍一种优化设计的静电屏蔽晶体管(GAT)的结构、工作原理。通过采用网格版图设计,加场限环,使器件具有更好的高耐压、高频率、快速开关和宽的安全工作区等良好性能。
关键词 静电屏蔽晶体管 栅极 半导体器件
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在液氮温度下具有高增益的SiGe/SiHBT 被引量:4
2
作者 邹德恕 陈建新 +8 位作者 沈光地 高国 杜金玉 张时明 袁颖 王东凤 邓军 W.X.Ni G.V.Hansson 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第5期367-370,共4页
本文分析了硅双极晶体管电流增益在低温下减小的原因.通过优化设计,研制出在液氮温度下具有高增益的SiGe/SiHBT,并分析了其工作机理.
关键词 液氮温度 硅双极晶体管 增益 设计
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射频溅射SiO_2在制造Si/SiGeHBT中的应用 被引量:3
3
作者 邹德恕 徐晨 +4 位作者 罗辑 陈建新 高国 魏泽民 沈光地 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1999年第4期12-14,共3页
介结了射频溅射SiO2的原理与工艺,对制造出的Si/SiGeHBT作了分析。
关键词 Si/SiGeHBT 射频溅射 二氧化硅
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基区杂质外扩对SiGe/Si HBT低温特性的影响 被引量:2
4
作者 邹德恕 高国 +7 位作者 陈建新 杜金玉 张京燕 沈光地 邓军 赵贞勇 黄绮 周钧铭 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1998年第3期10-13,共4页
SiGe/SiHBT的基区杂质在工艺过程中外扩到发射区和收集区,使得低温增益下降。提出采用适当厚度的隔离层的方法,使HBT电流增益在低温下增长。
关键词 HBT 低温特性 杂质外扩 锗化硅
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新型聚酰亚胺电容式湿度传感器 被引量:6
5
作者 邹德恕 王东凤 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 1992年第1期6-7,共2页
本文叙述了以聚酰亚胺为感湿膜的电容式湿度传感器的结构及制备工艺,研究了它的湿敏特性,概述了工作原理。
关键词 湿度传感器 相对湿度 聚酰亚胺
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GSMBE生长的用于研制HBT的SiGe/Si异质结材料 被引量:1
6
作者 邹德恕 徐晨 +7 位作者 陈建新 史辰 杜金玉 高国 沈光地 黄大定 李建平 林兰英 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第8期1035-1037,共3页
用 GSMBE法生长了 Si/ Si Ge/ Si异质结构材料 .采用双台面结构制造了 Si Ge/ Si NPN异质结晶体管 .在发射结条宽为 4μm,面积为 4μm× 1 8μm的条件下 ,其共发射极直流放大倍数为 75,截止频率为 2 0 GHz.给出了结构设计。
关键词 气态源分子束外延 异质结晶体管 GSMBE生长 HBT 异质结构材料
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SiGe/Si异质结构的x射线双晶衍射 被引量:1
7
作者 邹德恕 徐晨 +8 位作者 罗辑 魏欢 董欣 周静 杜金玉 高国 陈建新 沈光地 王玉田 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2000年第1期36-38,共3页
通过x射线双晶衍射图形讨论了SiGe/SiHBT的电学特性与晶格结构的关系
关键词 X射线 双晶衍射 外延生长 锗化硅 异质结构
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SiGe/SiHBT及逆向制造方法 被引量:1
8
作者 邹德恕 陈建新 +4 位作者 沈光地 高国 杜金玉 张时明 袁颖 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1997年第2期23-25,共3页
叙述了SiGe/Si异质结双极晶体管(HBT)的工作原理以及一种双台面结构的逆向制造方法
关键词 窄能带 逆向 锗化硅 HBT 双极晶体管
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f_T为9GHz的SiGe/Si异质结双极晶体管 被引量:1
9
作者 邹德恕 陈建新 +5 位作者 高国 沈光地 杜金玉 王东凤 张时明 袁颍 《北京工业大学学报》 CAS CSCD 1996年第4期55-59,共5页
叙述了SiGe/Si异质结双极晶体管(HBT)的设计考虑,双台面结构的制作方法,并制作出f_T为9GHz的SiGe/SiHBT。同时根据对不同尺寸HBT的测试结果得到分布参数是影响f_T的重要因素之一。
关键词 硅锗合金 异质结构 双台面结构 双极晶体管
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碳掺杂GaAs激光器侧向扩展电流的研究 被引量:1
10
作者 邹德恕 廉鹏 +6 位作者 殷涛 李爽 刘莹 高国 罗辑 杜金玉 沈光地 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1999年第6期10-11,19,共3页
实验研究了碳掺杂GaAs激光器帽层的侧向扩展电流对阈值的影响。
关键词 砷化镓激光器 掺杂 侧向扩展电流 激光器
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多发射极Si/SiGe异质结晶体管 被引量:1
11
作者 邹德恕 袁颖 +7 位作者 史辰 徐晨 杜金玉 陈建新 董欣 王东风 高国 沈光地 《北京工业大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期179-181,共3页
在硅衬底上外延生长一层Si_(1-x)Ge_x合金材料,它的带隙随组分x的增加而变窄,如果用Si_(1-x)Ge_x窄带材料作晶体管基区,利用硅作为集电极和发射极构成双极晶体管,就可以很容易实现器件的高频、高速、大功率。设计了一种以Si/Si_(1-x)Ge_... 在硅衬底上外延生长一层Si_(1-x)Ge_x合金材料,它的带隙随组分x的增加而变窄,如果用Si_(1-x)Ge_x窄带材料作晶体管基区,利用硅作为集电极和发射极构成双极晶体管,就可以很容易实现器件的高频、高速、大功率。设计了一种以Si/Si_(1-x)Ge_x/Si为纵向结构,梳状10指发射区为横向结构的异质结晶体管,利用双台面工艺方法制造出具有如下参数的器件:电流增益β=26、V_(CB)=7V、I_(CM)≥180mA、f_T≤ 2GHz,实现了高频大功率,充分显示出Si/Si_(1-x)Ge_x材料的优越性。 展开更多
关键词 Si/SiGe异质结双极晶体管 梳状结构 双台面工艺 功率晶体管
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SiGe/SiHBT制造中干法、湿法腐蚀技术的研究 被引量:1
12
作者 邹德恕 陈建新 +3 位作者 袁颖 董欣 高国 沈光地 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1997年第1期26-28,共3页
介绍了对SiGe/Si材料干法、湿法腐蚀的机理、腐蚀方法、影响腐蚀的主要因素。
关键词 硅锗合金 干法腐蚀 湿法腐蚀 异质结晶体管
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射频溅射法镀LD腔面光学薄膜的工艺研究 被引量:1
13
作者 邹德恕 徐晨 +5 位作者 鲁鹏程 杜金玉 崔碧峰 舒雄文 刘莹 沈光地 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2003年第6期451-453,共3页
 介绍了用普通多靶射频溅射台镀半导体激光器腔面光学膜的工艺方法,给出了实验的工艺条件、采用的光学膜的材料以及具体的工艺参数,讨论了此方法镀光学膜的结果以及优点。
关键词 射频溅射 增透膜 高反射膜 量子效率
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980nm半导体激光器远场特性的优化 被引量:1
14
作者 邹德恕 廉鹏 +7 位作者 张丽 王东凤 杜金玉 刘莹 韩金茹 徐晨 高国 沈光地 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期259-261,共3页
制作小功率半导体激光器时 ,为了减小阈值电流 ,提高斜率效率 ,一般都采用深腐蚀法形成脊形结构以克服电流横向扩展。但是由于工艺的原因 ,往往使得激光器远场特性恶化 ,特别是水平发散角θ//形成多瓣。研究发现这与光刻工艺有着重要关... 制作小功率半导体激光器时 ,为了减小阈值电流 ,提高斜率效率 ,一般都采用深腐蚀法形成脊形结构以克服电流横向扩展。但是由于工艺的原因 ,往往使得激光器远场特性恶化 ,特别是水平发散角θ//形成多瓣。研究发现这与光刻工艺有着重要关系 ,并利用自对准自然解理边形成TiAu欧姆接触方法克服了此现象 ,改善了远场特性。 展开更多
关键词 半导体激光器 远场特性 自对准 自然解理边
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SiGe/SiHBT离子注入自对准的研究 被引量:1
15
作者 邹德恕 高国 +4 位作者 陈建新 沈光地 张京燕 杜金玉 邓军 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1998年第5期36-39,共4页
介绍了离子注入技术自对准制作SiGe/SiHBT的方法,分析了对器件特性的影响。
关键词 离子注入 自对准 半导体器件
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电子束蒸发二氧化硅薄膜在Si/Si_(1-x)Ge_x HBT中的应用研究
16
作者 邹德恕 陈建新 +2 位作者 沈光地 张时明 邓军 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1996年第2期42-43,共2页
本文介绍了电子束蒸发二氧化硅薄膜的工艺方法,影响蒸发二氧化硅薄膜质量的因素,以及用于Si/Si1-xGexHBT的结果。
关键词 HBT 异质结 应变层 折射率 电子束
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77K下电流增益为2.6万的SiGe/Si HBT
17
作者 邹德恕 陈建新 +6 位作者 徐晨 魏欢 史辰 杜金玉 高国 邓军 沈光地 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第3期51-52,55,共3页
通过优化设计SiGe/Si HBT的纵向参数,找到一种低温工艺方法,研制出了在液氮温度下电流增益达到26000的高增益异质结晶体管。
关键词 HBT 电流增益 锗化硅 异质结晶体管
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新型低温高增益SiGe/SiHBT的研究
18
作者 邹德恕 陈建新 +5 位作者 张时明 高国 杜金玉 董欣 沈光地 安玉芹 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1997年第6期31-33,共3页
分析了硅双极晶体管电流增益在低温下减少的原因,通过优化设计,研制出了在液氮温度下具有高增益的SiGe/SiHBT。
关键词 异质结 应变层 电流增益 硅双极晶体管
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MOS型集成氨敏传感器 被引量:1
19
作者 邹德恕 王东风 高国 《传感器世界》 1997年第7期6-8,共3页
本文介绍了MOS型集成氨敏传感器的基本工作原理、主要参数、测试方法、主要用途和广阔的市场前景.
关键词 集成氨敏传感器 MOS型 氨气 传感器
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新型电容式湿度传感器简介 被引量:1
20
作者 邹德恕 王东风 高国 《传感器世界》 1996年第9期35-37,共3页
本文介绍了一种新型高分子有机聚酰亚胺电容式湿度传感器的工作原理、简便标定方法及应用.
关键词 电容式 湿度传感器 传感器 聚酰亚胺材料
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