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模型低晃动的无标识增强现实系统
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作者 康朝海 张子南 +3 位作者 任伟建 霍凤财 任璐 张永丰 《计算机与数字工程》 2024年第11期3246-3251,3290,共7页
基于视觉SLAM的无标识增强现实,提出了一种优化的无标识增强现实方法。在平面拟合前增加了基于点云重叠率的点云拼接模块,使得连续帧拟合平面过渡更为平滑;平面拟合阶段在主成分分析法的基础上结合自适应阈值的RANSAC算法,剔除点云数据... 基于视觉SLAM的无标识增强现实,提出了一种优化的无标识增强现实方法。在平面拟合前增加了基于点云重叠率的点云拼接模块,使得连续帧拟合平面过渡更为平滑;平面拟合阶段在主成分分析法的基础上结合自适应阈值的RANSAC算法,剔除点云数据中的异常值和粗差,以提高平面拟合精度。测试结果表明该方法具有更高的拟合精度和稳定性。 展开更多
关键词 增强现实 点云重叠区域 点云拼接 平面拟合
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等离子体平板背光源单元放电特性的研究
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作者 张子南 李青 刘杰 《光电子技术》 CAS 北大核心 2010年第1期16-21,共6页
采用粒子网格-蒙特卡罗碰撞(P IC-M CC)方法对等离子体平板背光源单元的放电过程进行了数值模拟,获得了放电过程中各带电粒子在空间区域的分布以及各区域的形成和性质,并结合模拟结果,详细分析了等离子体平板背光源单元的放电特性。结... 采用粒子网格-蒙特卡罗碰撞(P IC-M CC)方法对等离子体平板背光源单元的放电过程进行了数值模拟,获得了放电过程中各带电粒子在空间区域的分布以及各区域的形成和性质,并结合模拟结果,详细分析了等离子体平板背光源单元的放电特性。结果表明,放电单元采用大电极间距可获得正柱区放电,正柱区的形成是正离子在阴极鞘层区不断积累将电位抬高所致。通过增加电极间距以增加正柱区的长度,可以有效地改善放电特性,从而提高背光源的发光效率。 展开更多
关键词 粒子网络-蒙特卡罗碰撞 大电极间距 正柱区 发光效率
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整流装置在氯碱电解生产中的节能运行
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作者 张子南 《中国氯碱》 CAS 1991年第Z1期67-72,共6页
本文的目的是针对整流装置在制造厂现有的水平所能达到的效率的条件下,对电解在运行范围内能达到的整流效率进行初步的定量分析,以便在设计阶段或技术改造措施中更多地节约电能。以下各项分析为了简便起见都采用可控硅整流器作为例子。... 本文的目的是针对整流装置在制造厂现有的水平所能达到的效率的条件下,对电解在运行范围内能达到的整流效率进行初步的定量分析,以便在设计阶段或技术改造措施中更多地节约电能。以下各项分析为了简便起见都采用可控硅整流器作为例子。二级管整流器由于所采用的调压器种类很多,各种调压器在各级的能耗都有不同的计算方法,使用者可根据自己的调压器进一步修正。 展开更多
关键词 整流装置 电解生产 节能运行 直流电压 平衡电抗器 可控硅整流器 二级管 铁损 固定损耗 需量
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整流所母排设计
4
作者 张子南 《中国氯碱》 CAS 1994年第4期9-10,20,共3页
随着电解槽的容量日益增大,整流器单机电流也迅速增长。在整流所的设计中,如何合理布置和选择母排成为设计的重要部分。交流母排的设计和变电所的母排设计相同,这里就不赘述了。直流母排的设计要符合安全和经济的要求。因此所设计的母... 随着电解槽的容量日益增大,整流器单机电流也迅速增长。在整流所的设计中,如何合理布置和选择母排成为设计的重要部分。交流母排的设计和变电所的母排设计相同,这里就不赘述了。直流母排的设计要符合安全和经济的要求。因此所设计的母排在通过额定电流时所产生的温度必须低于规定的最高允许温度(见表1)。同时母排的电流密度尽可能的等于或接近经济电流。另外当整流所的正、负直流母排距离很近时(约0.5米以下) 展开更多
关键词 电解槽 整流器 整流所 母排
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氯碱工业整流产生的谐波及治理
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作者 李忠耀 张子南 《中国氯碱》 CAS 1993年第5期9-12,共4页
本文扼要介绍了电力谐波的危害,然后详细讨论了谐波现行的和今后的治理方法,分析了它们各自的优缺点,为整流行业谐波治理与抑制提供了一般的概念,色画出了谐波防治的整体轮廓。
关键词 氯碱 整流 谐波
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基于Android平台的脑部MRI影像辅助诊断系统 被引量:1
6
作者 张子南 熊月玲 +2 位作者 韩磊 杜冲锋 叶明全 《电脑知识与技术》 2020年第14期1-2,共2页
目的:探讨移动终端的医学影像处理实现和应用。方法:借助目前移动终端的高性能设备,开发基于android平台的脑部MRI影像辅助诊断系统,系统包含多种常用的计算机图像处理算法。结果:影像在经过系统处理后显示更加清晰,能更加直观地观察医... 目的:探讨移动终端的医学影像处理实现和应用。方法:借助目前移动终端的高性能设备,开发基于android平台的脑部MRI影像辅助诊断系统,系统包含多种常用的计算机图像处理算法。结果:影像在经过系统处理后显示更加清晰,能更加直观地观察医学影像的特征。结论:系统应用能够提升临床医生移动辅助诊断能力,提高工作效率。 展开更多
关键词 MRI图像处理 远程医疗 医学影像 Android
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铺垫与渗透在高一化学教学中的运用教学案例
7
作者 张子南 《云南化工》 CAS 2018年第S1期58-59,共2页
高一的学生在化学学科的学习中,往往面临两个常见的矛盾:一是学生自身科学素养欠缺与学科内容情景多样之间的矛盾;二是教材呈现知识的简洁特点与课后习题所涉及物质反应复杂陌生之间的矛盾。在教学之前教师在尊重知识逻辑体系的前提下,... 高一的学生在化学学科的学习中,往往面临两个常见的矛盾:一是学生自身科学素养欠缺与学科内容情景多样之间的矛盾;二是教材呈现知识的简洁特点与课后习题所涉及物质反应复杂陌生之间的矛盾。在教学之前教师在尊重知识逻辑体系的前提下,从学生认知发展规律入手,做出必要的说明,铺垫及渗透可以降低同学们认知知识的难度。 展开更多
关键词 铺垫渗透 高一化学 教学案例
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受检者对消化内镜人工智能接受度量表的编制及评价
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作者 龙秀艳 邓海骏 +4 位作者 张子南 刘涛 余小渔 龚攀 田力 《中南大学学报(医学版)》 CAS CSCD 北大核心 2023年第12期1844-1853,共10页
目的:消化内镜是消化系统疾病的重要诊治手段,消化内镜人工智能(artificial intelligence,AI)辅助系统(以下简称“消化内镜AI”)在消化内镜领域中具有广泛的应用前景。内镜受检者的信任和接受是消化内镜AI研发、应用、推广的基石,目前... 目的:消化内镜是消化系统疾病的重要诊治手段,消化内镜人工智能(artificial intelligence,AI)辅助系统(以下简称“消化内镜AI”)在消化内镜领域中具有广泛的应用前景。内镜受检者的信任和接受是消化内镜AI研发、应用、推广的基石,目前国内外缺乏受检者对消化内镜AI接受度的衡量工具。本研究旨在编制受检者对消化内镜AI接受度量表,并评估其信效度。方法:通过文献调查构建条目池和维度,运用Delphi法构建初版量表。对受检者进行第1阶段的问卷调查,根据数据对量表进行信效度检验;利用修改后的量表对受检者进行第2阶段调查,进一步验证量表的结构效度。结果:受检者对消化内镜AI接受度量表包含准确性、伦理、获益与意愿3个维度11个条目。第1阶段调查收回有效问卷351份,总克龙巴赫α系数为0.864;量表总分与验证条目得分的相关系数为0.636,结构效度中KMO(Kaiser-Meyer-Olkin)值为0.788。第2阶段调查收回有效问卷335份,结构效度中χ^(2)/df为3.774,近似均方根误差(root mean squared error of approximation,RMSEA)为0.091。结论:本研究编制的受检者对消化内镜AI接受度量表具有良好的信效度。 展开更多
关键词 消化内镜人工智能 接受度 量表
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如何加强配电网规划全过程管理
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作者 张子南 《中外企业家》 2017年第30期74-74,76,共2页
配电网规划是促进我国电力事业发展的重要途径,同时也是我国城市总体规划发展的必然要求。随着我国社会经济的发展和城市化水平的不断提高,人们对配电网运行质量和管理质量提了更高的要求,所以如何加强配电网规划全过程管理已经成为推... 配电网规划是促进我国电力事业发展的重要途径,同时也是我国城市总体规划发展的必然要求。随着我国社会经济的发展和城市化水平的不断提高,人们对配电网运行质量和管理质量提了更高的要求,所以如何加强配电网规划全过程管理已经成为推动城市化进程、促进国家电力系统发展的重要问题。本文对如何加强配电网规划全过程管理进行系统分析,以期提高配电网规划质量。加强配电网规划全过程管理不仅是当前我国国家电网配电网系统的发展要求。 展开更多
关键词 配电网系统 全过程管理
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迁移“高中数学知识”解决新高考中晶胞计算问题 被引量:1
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作者 孔德坤 张子南 《中学生理科应试》 2022年第5期73-74,共2页
“晶胞的计算”一直是高考的热点和难点问题,近几年新高考试题中晶胞的计算由立方晶系逐渐过渡到四方晶系、六方晶系和正交晶系.如何高效快速解决晶胞问题呢?本文尝试通过迁移“高中数学知识”来解决晶胞计算的难点问题,以供学生参考学... “晶胞的计算”一直是高考的热点和难点问题,近几年新高考试题中晶胞的计算由立方晶系逐渐过渡到四方晶系、六方晶系和正交晶系.如何高效快速解决晶胞问题呢?本文尝试通过迁移“高中数学知识”来解决晶胞计算的难点问题,以供学生参考学习使用. 展开更多
关键词 晶胞 高中数学知识 四方晶系 立方晶系 正交晶系 高考试题 热点和难点 六方晶系
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区域口腔预防专业联合体绩效管理研究 被引量:2
11
作者 许卫星 张子南 《上海预防医学》 CAS 2013年第11期638-640,共3页
区域口腔预防专业联合体是指在一定区域范围内,异质化口腔卫生服务医疗机构间的合作或联盟。它可以实现对传统松散型分布的口腔人力资源的有效运用和有机组合,最大程度地实现节约交易费用,发挥规模效益,提升口腔预防保健质量水平和... 区域口腔预防专业联合体是指在一定区域范围内,异质化口腔卫生服务医疗机构间的合作或联盟。它可以实现对传统松散型分布的口腔人力资源的有效运用和有机组合,最大程度地实现节约交易费用,发挥规模效益,提升口腔预防保健质量水平和服务满意度。建立一套系统全面,可操作性强的以公益性为核心的区域口腔预防绩效管理体系,对于落实和推进专业联合体建设具有十分重要的现实意义。 展开更多
关键词 口腔卫生服务 绩效管理体系 预防专业 联合体 口腔预防 服务满意度 医疗机构 人力资源
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区域口腔预防联合体数字化管理模式与路径选择
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作者 许卫星 张子南 《上海预防医学》 CAS 2013年第12期687-688,共2页
现阶段,我国的医疗数字化和数字化医院建设取得了长足的进步,政府更应该积极致力于区域医疗信息化建设和运营模式研究‘川。本研究立足区域口腔预防专业联合体建设实践,为探索建立区域口腔预防保健数字化体系提供参考。
关键词 数字化医院建设 口腔预防专业 联合体 管理模式 路径 口腔预防保健 区域医疗 信息化建设
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极紫外光刻快速掩模优化方法 被引量:5
13
作者 张子南 李思坤 +1 位作者 王向朝 成维 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第13期25-34,共10页
提出了一种快速的极紫外光刻像素化掩模优化方法。优化过程中采用改进的像素化快速厚掩模模型,根据掩模像素尺寸设置边界像素上点脉冲的大小。以双重边界演化方法为基础,在每轮优化时,根据当前光刻胶轮廓与目标图形轮廓的差异自适应地... 提出了一种快速的极紫外光刻像素化掩模优化方法。优化过程中采用改进的像素化快速厚掩模模型,根据掩模像素尺寸设置边界像素上点脉冲的大小。以双重边界演化方法为基础,在每轮优化时,根据当前光刻胶轮廓与目标图形轮廓的差异自适应地对优化变量进行初始化,利用先验信息生成初始个体和种群,从而提高优化效率。以一维线空图形和二维复杂图形为例进行了仿真验证,结果表明该方法有效提高了掩模成像仿真精度,两种二维掩模图形的优化效率得到明显提高。 展开更多
关键词 衍射 极紫外光刻 厚掩模模型 掩模优化
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EUV光刻三维掩模成像研究进展 被引量:4
14
作者 张子南 李思坤 王向朝 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2022年第9期345-366,共22页
极紫外(EUV)光刻是目前最先进的光刻技术,是芯片向更高集成度发展的重要保障。高成像质量是确保EUV光刻机性能指标的前提,而反射式三维掩模和特殊的光学成像系统给提高成像质量带来了更多挑战。研究三维掩模成像是提高EUV光刻成像质量... 极紫外(EUV)光刻是目前最先进的光刻技术,是芯片向更高集成度发展的重要保障。高成像质量是确保EUV光刻机性能指标的前提,而反射式三维掩模和特殊的光学成像系统给提高成像质量带来了更多挑战。研究三维掩模成像是提高EUV光刻成像质量的基础,三维掩模成像模型是重要的研究工具。本文结合本团队在EUV光刻三维掩模成像领域的研究,介绍了EUV光刻三维掩模成像的基本原理,总结了典型的三维掩模模型,介绍了提高EUV光刻三维掩模成像质量相关技术的研究进展,并展望了该领域的发展趋势。 展开更多
关键词 光刻 衍射 极紫外光刻 三维掩模模型 成像质量
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NaH脱除废塑料热解油中的有机氯
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作者 高艳 杜新胜 +4 位作者 王福善 陈秀娣 张子南 杨聪 龙雨 《石化技术与应用》 2025年第2期111-114,共4页
以NaH为脱氯剂,通过亲核取代反应脱除废塑料热解油中的有机氯,考察了投加量、反应温度、反应时间以及初始含氯量对脱氯效果的影响,并对不同有机氯的检测方法进行了对比。结果表明:在n(NaH)∶n(Cl)为2,反应温度为80℃,反应时间为6 h的条... 以NaH为脱氯剂,通过亲核取代反应脱除废塑料热解油中的有机氯,考察了投加量、反应温度、反应时间以及初始含氯量对脱氯效果的影响,并对不同有机氯的检测方法进行了对比。结果表明:在n(NaH)∶n(Cl)为2,反应温度为80℃,反应时间为6 h的条件下,废塑料热解油含氯量可由499.9μg/g降至34.9μg/g,脱氯率高达93%;废塑料热解油初始含氯量为100~2000μg/g时,NaH均能将其含氯量降至50μg/g以下,脱氯率在93%及以上;NaH在脱除废塑料热解油中有机氯的过程中不会破坏其他成分;通过差量法测定脱除后含氯量结果与燃烧-微库仑仪直接测定结果相近,相对误差小于10%。 展开更多
关键词 NaH 废塑料热解油 有机氯 亲核取代 脱氯
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深紫外计算光刻技术研究 被引量:7
16
作者 陈国栋 张子南 +1 位作者 李思坤 王向朝 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2022年第9期93-111,共19页
光刻机是极大规模集成电路制造的核心装备,深紫外光刻机是用于先进技术节点芯片制造的主流光刻设备。光刻机的成像质量直接影响光刻机性能指标,是光刻机正常工作的前提。作为提高光刻成像质量的重要手段,计算光刻技术在光刻机软硬件不... 光刻机是极大规模集成电路制造的核心装备,深紫外光刻机是用于先进技术节点芯片制造的主流光刻设备。光刻机的成像质量直接影响光刻机性能指标,是光刻机正常工作的前提。作为提高光刻成像质量的重要手段,计算光刻技术在光刻机软硬件不变的条件下,采用数学模型和软件算法对照明光源、掩模图形和工艺参数等进行优化,使目标图形高保真度地成像到硅片上。光刻成像模型是计算光刻技术的基础,成像模型仿真精度和速度的不断提高支撑了计算光刻技术的发展。结合本团队的研究工作,介绍了光刻成像模型的发展,总结了光学邻近效应修正技术、光源掩模优化技术和逆向光刻技术这三种主要计算光刻技术的研究进展。 展开更多
关键词 深紫外光刻 计算光刻 光源掩模优化 光学邻近效应修正 逆向光刻技术
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极紫外光刻掩模相位型缺陷的形貌重建方法 被引量:5
17
作者 成维 李思坤 +1 位作者 王向朝 张子南 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第10期14-28,共15页
提出了一种极紫外光刻掩模多层膜相位型缺陷的形貌重建方法。采用表面与底部形貌参数表征相位型缺陷的三维形貌;采用原子力显微镜测量缺陷表面形貌参数;采用傅里叶叠层成像技术重建含缺陷的空白掩模空间像复振幅;采用卷积神经网络与多... 提出了一种极紫外光刻掩模多层膜相位型缺陷的形貌重建方法。采用表面与底部形貌参数表征相位型缺陷的三维形貌;采用原子力显微镜测量缺陷表面形貌参数;采用傅里叶叠层成像技术重建含缺陷的空白掩模空间像复振幅;采用卷积神经网络与多层感知器两种深度学习模型构建空间像振幅/相位与缺陷底部形貌参数之间的关系,建立缺陷底部形貌参数重建模型;利用训练后模型从空间像的振幅与相位信息中重建出缺陷底部形貌参数。仿真结果表明,训练后模型可准确重建相位型缺陷的底部形貌参数。凸起型与凹陷型缺陷的底部半峰全宽重建结果的均方根误差分别为0.51 nm和0.43 nm,底部高度重建结果的均方根误差分别为3.35 nm和1.73 nm。由于采用空间像作为信息载体,本方法不受沉积条件的影响。 展开更多
关键词 衍射 极紫外光刻 掩模缺陷 相位恢复 深度学习
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光源掩模联合优化技术研究 被引量:3
18
作者 廖陆峰 李思坤 +1 位作者 张子南 王向朝 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2022年第9期177-196,共20页
光刻机是集成电路制造的核心装备,光刻分辨率是光刻机的重要性能指标。作为提高光刻机分辨率的重要手段,分辨率增强技术可以推动芯片向更高集成度发展。光源掩模联合优化(SMO)通过同时优化光源和掩模图形提高光刻分辨率,是28 nm及以下... 光刻机是集成电路制造的核心装备,光刻分辨率是光刻机的重要性能指标。作为提高光刻机分辨率的重要手段,分辨率增强技术可以推动芯片向更高集成度发展。光源掩模联合优化(SMO)通过同时优化光源和掩模图形提高光刻分辨率,是28 nm及以下技术节点必不可少的分辨率增强技术之一。光源与掩模的准确表征是SMO技术的基础,高效的优化算法是对光源和掩模进行优化的核心手段。SMO技术应用于全芯片的前提是进行关键图形筛选。本文回顾了SMO技术的发展历史,并结合本团队对SMO技术的研究,介绍了关键图形筛选方法、光源与掩模表征方法和优化算法的基本原理和国内外的研究进展。 展开更多
关键词 光刻 分辨率增强技术 光源掩模联合优化
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极紫外光刻掩模缺陷检测与补偿技术研究 被引量:2
19
作者 成维 李思坤 +1 位作者 张子南 王向朝 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2022年第9期367-380,共14页
极紫外(EUV)光刻机是推动集成电路向先进技术节点发展的核心装备,已应用于7 nm及以下技术节点芯片的量产。高成像质量是EUV光刻机应用于芯片量产的基础。作为成像系统的重要组成部分,掩模是影响EUV光刻成像质量的重要因素。EUV掩模的制... 极紫外(EUV)光刻机是推动集成电路向先进技术节点发展的核心装备,已应用于7 nm及以下技术节点芯片的量产。高成像质量是EUV光刻机应用于芯片量产的基础。作为成像系统的重要组成部分,掩模是影响EUV光刻成像质量的重要因素。EUV掩模的制造过程中会产生以多层膜缺陷为代表的掩模缺陷,显著降低光刻成像质量。对EUV掩模缺陷的位置、尺寸和形貌等进行准确检测,并根据检测结果进行缺陷补偿是确保光刻成像质量的重要手段。为了有效补偿掩模缺陷对光刻成像质量的影响,需要建立快速准确的含缺陷掩模模型。本文结合本团队在掩模缺陷检测和补偿技术领域的研究工作,介绍了典型的含缺陷掩模仿真方法,总结了现有掩模缺陷检测技术,介绍了掩模缺陷补偿技术的研究进展。 展开更多
关键词 光刻 极紫外光刻 掩模缺陷检测 掩模缺陷补偿 掩模模型
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