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基于响应面法的微结构抛光工具优化设计
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作者 刘帅呈 李俊 +1 位作者 资明康 谢银辉 《模具工业》 2025年第3期56-66,共11页
针对微流控芯片模具零件表面抛光用抛光工具结构优化需求,采用响应面法优化抛光工具的几何尺寸,并基于球面扁平化理论进行抛光工具接触建模,选取影响接触效果的抛光工具关键尺寸作为设计参数,最大接触直径作为目标函数建立响应面模型,... 针对微流控芯片模具零件表面抛光用抛光工具结构优化需求,采用响应面法优化抛光工具的几何尺寸,并基于球面扁平化理论进行抛光工具接触建模,选取影响接触效果的抛光工具关键尺寸作为设计参数,最大接触直径作为目标函数建立响应面模型,对响应面模型进行显著性检验,得到最优设计参数。通过有限元仿真验证最优参数的有效性,试验结果显示,与响应面法设计的仿真试验组相比,最大响应值对应的接触面积提升9.43%以上。设计多载荷响应面优化试验验证抛光工具的优化尺寸组合,优化后尺寸相对误差最大为0.34%,响应面优化结果和有限元仿真结果接触面积相对误差最大为5.26%,各载荷条件下的最优尺寸参数基本一致,表现良好的尺寸稳定性,响应面模型预测效果显著。结果表明,研究采用的方法能有效优化抛光工具结构,提高抛光工具与模具零件表面的接触效果。 展开更多
关键词 微流控芯片模具 几何尺寸优化 球面扁平化理论 有限元仿真 响应面法
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用于单片集成的硅基外延Ⅲ-Ⅴ族量子阱和量子点激光器研究
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作者 王俊 葛庆 +11 位作者 刘帅呈 马博杰 刘倬良 翟浩 林枫 江晨 刘昊 刘凯 杨一粟 王琦 黄永清 任晓敏 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第5期766-782,共17页
硅基光电子技术以光电子与微电子的深度融合为特征,是后摩尔时代的核心技术。硅基光电子芯片可以利用成熟的微电子平台实现量产,具有功耗低、集成密度大、传输速率快、可靠性高等优点,广泛应用于数据中心、通信系统等领域。除硅基激光器... 硅基光电子技术以光电子与微电子的深度融合为特征,是后摩尔时代的核心技术。硅基光电子芯片可以利用成熟的微电子平台实现量产,具有功耗低、集成密度大、传输速率快、可靠性高等优点,广泛应用于数据中心、通信系统等领域。除硅基激光器外,硅基光探测器、硅基光调制器等硅基光电子器件技术已经基本成熟,但作为最有希望实现低成本、大尺寸单片集成的硅基外延激光器仍然面临着诸多挑战。在此背景下,本文从直接外延无偏角Ⅲ-Ⅴ/Si(001)衬底、无偏角硅基激光器材料、外延技术,以及单片集成等方面探讨了近些年国内外硅基光源的研究进展,重点介绍了本研究组在硅基外延Ⅲ-Ⅴ族量子阱和量子点激光器方面的研究进展,包括无反相畴GaAs/Si(001)衬底的制备、硅基InGaAs/AlGaAs量子阱激光器材料外延、硅基InAs/GaAs量子点激光器材料外延和新型并联方式共面电极硅基激光器芯片制作等。 展开更多
关键词 硅基光电子 硅基外延激光器 无偏角Si(001)衬底 量子阱激光器 量子点激光器 对称负极芯片结构
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